GlobalFoundries 20nm工藝成功流片

　　GlobalFoundries今天宣布，最新的20nm工藝試驗芯片已于近日成功流片，這也是新工藝發(fā)展之路上里程碑式的關(guān)鍵一步。

　　GlobalFoundries 20nm工藝使用了四家電子設計自動(dòng)化(EDA)廠(chǎng)商的工藝流程，分別是Cadence Design Systems、Magma Design Automation、Mentor Graphics Corporation、Synopsys Inc.。

　　通過(guò)此次成功流片，GlobalFoundries證明自己已經(jīng)做好準備，可以接受客戶(hù)對20nm新工藝的評估了，不過(guò)除了暢談和幾家EDA伙伴之間的親密合作之外，GlobalFoundries并未透露新工藝的更多細節，博包括使用了哪些新技術(shù)、有哪些潛在客戶(hù)、何時(shí)能夠量產(chǎn)等等。

　　20nm是迄今為止最為先進(jìn)的半導體技術(shù)。今年初的時(shí)候，IBM曾經(jīng)展示過(guò)全世界第一塊20nm工藝晶圓，使用了HKMG和Gate-Last技術(shù)。七月中旬的時(shí)候，三星電子也宣布完成了全球第一顆20nm工藝試驗芯片的流片。

　　根據此前消息，GlobalFoundries 22/20nm可能會(huì )首次使用先進(jìn)的極紫外光刻技術(shù)，唯一的問(wèn)題就是要到2014-2015年才能量產(chǎn)。曾有一份AMD路線(xiàn)圖顯示2013年的服務(wù)器處理器會(huì )采用28nm工藝，這是否意味著(zhù)AMD會(huì )耐心等待極紫外光刻的20nm呢?