納米壓印設備可繞過(guò)EUV量產(chǎn)5nm！佳能CEO：無(wú)法賣(mài)到中國！

11月6日消息，據彭博社報道，佳能公司正計劃將其新的基于“納米壓印”技術(shù)的芯片制造設備的價(jià)格定為ASML的EUV光刻機的1/10。由于該設備可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光學(xué)技術(shù)，或將成為中國繞過(guò)美國限制來(lái)制造尖端制程芯片的可行方案。但是，佳能首席執行官三井藤夫在采訪(fǎng)中表示，該設備無(wú)法出口到中國。

尖端制程嚴重依賴(lài)EUV光刻機

總部位于荷蘭的ASML是目前全球最大的光刻機廠(chǎng)商，同時(shí)也是全球唯一的極紫外光刻設備供應商。EUV光刻機是目前世界上最先進(jìn)的芯片制造設備，每臺成本高達數億美元。

雖然目前在光刻機市場(chǎng)，還有尼康和佳能這兩大供應商，但是這兩家廠(chǎng)商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市場(chǎng)份額僅有10%左右，ASML一家占據了90%的市場(chǎng)份額，并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應。

目前7nm以下的先進(jìn)制程芯片的大規模生產(chǎn)主要都是依賴(lài)于A(yíng)SML的EUV光刻機，但只有少數現金充裕的公司才有能力投資購買(mǎi)這些EUV光刻機。

即便如此，EUV光刻機仍因為其在尖端芯片制造供應鏈中的關(guān)鍵地位而一直受到出口管制審查。多年前，美國就有向其盟友——荷蘭施壓，要求其限制EUV設備出口到中國。今年6月30日，荷蘭政府正式出臺了新的半導體出口管制措施，ASML被禁止向中國客戶(hù)出口EUV系統以及先進(jìn)的浸沒(méi)式DUV系統。

這也意味著(zhù)中國想要突破到5nm，甚至更尖端的制程工藝將會(huì )面臨極大的困難。

繞過(guò)EUV，佳能納米壓印技術(shù)可量產(chǎn)5nm

今年10月中旬，佳能公司宣布開(kāi)始銷(xiāo)售基于“納米壓印”（Nanoprinted lithography，NIL）技術(shù)的芯片生產(chǎn)設備 FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設備采用不同于復雜的傳統光刻技術(shù)的方案，可以制造5nm芯片。

此前佳能一直專(zhuān)注于制造不太先進(jìn)光刻機產(chǎn)品。直到2014年，佳能收購了Molecular Imprints股份有限公司，開(kāi)始押注納米壓印技術(shù)。近十年來(lái)，佳能一直在與日本光罩等半導體零組件制造商大日本印刷株式會(huì )社（DNP）和存儲器芯片制造商鎧俠（Kioxia）合作研發(fā)納米壓印工藝。該技術(shù)可以不使用EUV光刻機，就能使制程技術(shù)推進(jìn)到5nm。

佳能表示，這套生產(chǎn)設備的工作原理和行業(yè)領(lǐng)導者 ASML 的光刻機不同，其并不利用光學(xué)圖像投影的原理將集成電路的微觀(guān)結構轉移到硅晶圓上，而是更類(lèi)似于印刷技術(shù)，直接通過(guò)壓印形成圖案。

相較于目前已商用化的EUV光刻技術(shù)，盡管納米壓印技術(shù)的芯片制造速度要比傳統光刻方式慢，但鎧俠在2021年就曾表示，納米壓印技術(shù)可大幅減少耗能，并降低設備成本。原因在于納米壓印技術(shù)的制程較為簡(jiǎn)單，耗電量可壓低至EUV 技術(shù)的10%，并讓設備投資降低至僅有EUV設備的40%。

佳能首席執行官三井藤夫在最新的采訪(fǎng)中表示，這項新的納米壓印技術(shù)將為小型半導體制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟一條道路?！皟r(jià)格將比ASML的EUV光刻機低一位數（即僅有10%）”這位88歲的老人上一次退出日常運營(yíng)是在2016年，現在是他第三次擔任佳能公司總裁。他補充說(shuō)，佳能尚未做出最終定價(jià)決定。

另外，納米壓印設備還可以使得芯片制造商降低對于A(yíng)SML的EUV光刻機的依賴(lài)，使得臺積電、三星等晶圓代工廠(chǎng)可以有第二個(gè)路線(xiàn)選擇，可以更靈活的為客戶(hù)生產(chǎn)小批量芯片。甚至，芯片設計廠(chǎng)商可以不依賴(lài)于晶圓代工廠(chǎng)來(lái)自己生產(chǎn)小批量的芯片。

據了解，佳能目前正在日本東京北部的宇都宮建造20年來(lái)第一家新的光刻設備工廠(chǎng)，將于2025年上線(xiàn)。

對于納米壓印技術(shù)市場(chǎng)前景，三井藤夫說(shuō)：“我不認為納米壓印技術(shù)會(huì )超過(guò)EUV，但我相信這將創(chuàng )造新的機會(huì )和需求。我們已經(jīng)接到了很多客戶(hù)的咨詢(xún)?！?/p>

納米壓印設備無(wú)法出口到中國

受美國及荷蘭出臺對于先進(jìn)半導體設備的出口管制影響，國內業(yè)界對于佳能最新推出基于納米壓印技術(shù)的芯片制造設備可以繞過(guò)EUV生產(chǎn)5nm充滿(mǎn)了興趣，認為這可能會(huì )是一條能夠繞過(guò)美國限制制造更先進(jìn)制程芯片的路徑。

雖然在今年7月日本實(shí)施了新的半導體出口管制措施，限制了可以被用于先進(jìn)制程的浸沒(méi)式光刻機的出口，其中似乎并未新增對于限制基于納米壓印技術(shù)的光刻機的出口。

但是事實(shí)上，芯智訊查閱日本的出口管制清單，當中就有限制“可實(shí)現45nm以下線(xiàn)寬的壓印光刻裝置”。

佳能CEO三井藤夫也在最新的采訪(fǎng)中表示，佳能可能無(wú)法將這些（基于納米壓印技術(shù)的）芯片制造設備出口到中國?！拔业睦斫馐?，任何超過(guò)14nm技術(shù)的出口都是被禁止的，所以我認為我們無(wú)法銷(xiāo)售?！?/p>

日本經(jīng)濟省的一名官員表示，他無(wú)法評論出口限制將如何影響特定的公司或產(chǎn)品。

編輯：芯智訊-浪客劍