北京微電子國際研討會(huì )再燃摩爾定律之爭

　　在全球半導體產(chǎn)業(yè)復蘇之際，北京微電子國際研討會(huì )于10月27日成功召開(kāi)，摩爾定律這一引領(lǐng)半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“圣經(jīng)”再次成為了主題演講會(huì )場(chǎng)爭論的焦點(diǎn)。

　　摩爾定律減速之爭

　　Intel中國研究院院長(cháng)方之熙認為，摩爾定律還將延續，技術(shù)的發(fā)展不會(huì )止步。目前Intel已開(kāi)始15nm技術(shù)的研發(fā)，2011年將開(kāi)始10nm技術(shù)的研發(fā)。追溯Intel的歷史，每?jì)赡暌淮男录夹g(shù)推出從未延遲，例如2005年的65nm技術(shù)，2007年的45nm技術(shù)及2009年的32nm技術(shù)都為業(yè)界帶來(lái)的全新的產(chǎn)品。“摩爾定律不會(huì )減速，但設計與制造成本的增加的確是事實(shí)，因此如何將更多的功能整合在一起，減少小批量產(chǎn)品將是對企業(yè)的一大挑戰。”

　　Synopsys副總裁潘建岳認為，摩爾定律的延緩從45nm開(kāi)始已很明顯，在之前的90nm和65nm，自技術(shù)開(kāi)發(fā)成熟后，大批量產(chǎn)品上市ramp up通常需要2年的時(shí)間，但在 45nm技術(shù)代，ramp up速度已明顯出現了滯后。不過(guò)這對中國的半導體產(chǎn)業(yè)來(lái)說(shuō)是件好事，因為我們追趕國際先進(jìn)的腳步將因此而更快。

　　在摩爾定律的引導下，更多的科學(xué)家在探索新材料與新工藝。SEMI中國區總裁陸郝安指出，為了提高半導體的性能，越來(lái)越多的元素已被成功應用于半導體工藝之中。HKMG等新材料與新工藝的應用將使半導體技術(shù)不斷發(fā)展自己，并超越自己。

　　摩爾定律的超越

　　Intel在追逐摩爾定律的同時(shí)，More Than Moore也是Intel中國研究院的重點(diǎn)研究課題之一。方之熙介紹，CPU與存儲器的3D封裝將可能是未來(lái)的發(fā)展方向之一。為解決CPU與Memory之間傳送速度及管腳限制等問(wèn)題，光互連傳輸已在Intel得到成功開(kāi)發(fā)。在Intel中國研究院10月中開(kāi)幕儀式上，Intel就成功展示了第一套Light Peak高速光連線(xiàn)技術(shù)原型驗證平臺，實(shí)現在Light Peak上承載DisplayPort 協(xié)議，傳輸帶寬高達10Gbps。

　　SOC技術(shù)的發(fā)展也是業(yè)界關(guān)注的焦點(diǎn)之一。“目前的SOC技術(shù)才剛剛開(kāi)始，都還只是簡(jiǎn)單的集成，”方之熙說(shuō)。SOC未來(lái)在汽車(chē)電子等領(lǐng)域將有很大的發(fā)展空間。當然IP core的利用等問(wèn)題也是需要仔細探討的。

　　中國半導體產(chǎn)業(yè)的機會(huì )

　　半導體是新興產(chǎn)業(yè)，也是高科技的代表行業(yè)之一。每一次的危機都會(huì )給產(chǎn)業(yè)帶來(lái)新的變化。而此次中國在危機中率先復蘇，就充分證明了中國的實(shí)力。中國半導體行業(yè)協(xié)會(huì )理事長(cháng)江上舟認為，目前越來(lái)越多的IDM向Fab Lite轉型，這對中國半導體制造產(chǎn)業(yè)來(lái)說(shuō)無(wú)疑是一個(gè)重大機遇。中國的半導體制造、設計與設備行業(yè)都應該努力邁向世界先進(jìn)水平。

　　陸郝安說(shuō)，SEMI作為國際半導體行業(yè)協(xié)會(huì )，愿意搭建國際的溝通橋梁，中國業(yè)者只要堅定信心，就必定有更大的發(fā)展。