國產(chǎn)光刻膠通過(guò)量產(chǎn)驗證

據中國光谷官微消息，近日，武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過(guò)半導體工藝量產(chǎn)驗證，實(shí)現配方全自主設計，有望開(kāi)創(chuàng )國內半導體光刻制造新局面。

據悉，該產(chǎn)品對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內稱(chēng)之為“妖膠”的國外同系列產(chǎn)品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，通過(guò)驗證發(fā)現T150 A中密集圖形經(jīng)過(guò)刻蝕，下層介質(zhì)的側壁垂直度表現優(yōu)異。

據了解，太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學(xué)武漢光電國家研究中心團隊創(chuàng )立，立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研發(fā)。太紫微公司致力于半導體專(zhuān)用高端電子化學(xué)品材料的開(kāi)發(fā)，并以新技術(shù)路線(xiàn)為半導體制造開(kāi)辟新型先進(jìn)光刻制造技術(shù)，同時(shí)為材料的分析與驗證提供最全面的手段。