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今日臺積電發(fā)布:針對汽車(chē)電子,2024年將推出N4AE和N3AE平臺

作者: 時(shí)間:2023-07-21 來(lái)源:半導體產(chǎn)業(yè)縱橫 收藏

近年來(lái)汽車(chē)行業(yè)在向著(zhù)更安全、更智能以及更環(huán)保三大趨勢發(fā)展,在 7 月 19 日世界半導體大會(huì )專(zhuān)場(chǎng)上,分享了圍繞這三個(gè)趨勢為客戶(hù)提供的各種工藝支持。

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202307/448882.htm

首先是更安全,人在駕駛的時(shí)候,通過(guò)眼睛耳朵去搜集周?chē)男畔?,然后我們的大腦對它作出判斷,再控制手和腳去做出相應的反應。隨著(zhù)輔助駕駛技術(shù)的進(jìn)一步的演進(jìn),自動(dòng)駕駛在人類(lèi)的車(chē)子上面安裝了更多的眼睛和耳朵,去搜集周?chē)男畔?,同時(shí)搭配一個(gè)相對強大的 SOC 的芯片來(lái)對這些信息做一個(gè)判斷。

人類(lèi)的眼睛耳朵有時(shí)候總會(huì )漏掉一些信息,大腦也有分神的時(shí)候,有了這樣的輔助駕駛的芯片,會(huì )讓未來(lái)的出行更加的安全。根據全球的預估到 2030 年 L1 級以上的 ADAS 芯片的上車(chē)率會(huì )達到 90% 以上。

第二個(gè)是更智能化,未來(lái)汽車(chē)會(huì )像是「有輪子的超級計算機」。這就需要汽車(chē)去跟外界做互通,就需要有一些通信模塊的存在?,F在看到的 3G、4G 甚至是 5G 的通信模塊都在慢慢的上車(chē),預計到 2030 年,整個(gè)通訊模塊的車(chē)子上面的安裝率會(huì )達到 75% 以上。

第三點(diǎn)更環(huán)保,今年新能源汽車(chē)的展臺都是非常的火爆,而且每一個(gè)展臺幾乎中間的 C 位都是一臺新能源車(chē)。中國新能源汽車(chē)發(fā)展的非???,全球范圍內預計新能源汽車(chē)的滲透率會(huì )達到 40% 以上,在中國這個(gè)數字應該會(huì )更早的被達到甚至被超越。

整體的汽車(chē)半導體行業(yè)的規模有多大?在 2020 年,整個(gè)全球汽車(chē)的出貨量是 8,200 萬(wàn)臺,預計到 2027 年會(huì )增長(cháng)到 9,400 萬(wàn)臺,其中車(chē)子里面用到的芯片的含量的市場(chǎng)規模會(huì )從 530 億美金增長(cháng)到 940 億美金。推動(dòng)這些芯片數量增加的主要的來(lái)源就是剛剛提到的三大塊,他們分別貢獻了從 16%~23% 不等的一個(gè)年復合增長(cháng)率。

不管是輔助駕駛還是自動(dòng)駕駛,都需要有一個(gè)強大的 SOC 的芯片提供強大的算力來(lái)處理搜集到的大量的數據。從 L2 開(kāi)始,就出現了一個(gè)能效比的概念。行業(yè)用 Tops/Watt 來(lái)衡量芯片需要提供的一個(gè)能力。在第二個(gè)層級,大概只需要 0.1Tops/Watt,這個(gè)時(shí)候大概使用 28 納米或者是 16 納米就足夠了;但是隨著(zhù)技術(shù)往前演進(jìn),在 L4,L5,達到 10 個(gè) Tops/watt,這樣子對于工藝的要求會(huì )進(jìn)一步提升到 5 納米甚至是 3 納米。

針對汽車(chē)電子,臺積電在 2018 年就已經(jīng)推出了 7 納米的工藝,但是直到 2021 年才完整的推出 N7A 平臺。N5 工藝也是一樣,經(jīng)過(guò) 3 年才推出 N5A 平臺,隨著(zhù)產(chǎn)品更新?lián)Q代速度的加快,臺積電希望能加快推出更新工藝。

臺積電計劃在 2024 年推出 N4AE 和 N3AE 兩個(gè)平臺,那么 AE 代表 Auto Early,這一平臺是為了在 2026 年 N3A 的平臺可以供客戶(hù)使用之前,先讓早期的客戶(hù)拿到相關(guān)的設計文檔,可以開(kāi)始進(jìn)行一些前期的設計。臺積電在三年間不斷提升工藝良率,客戶(hù)也可以節省兩年的時(shí)間去優(yōu)化設計。這就等于是客戶(hù)不用等到一切都準備好了,再開(kāi)始跑,可以提前就小步快走起來(lái)。

臺積電談車(chē)用 eNVM

車(chē)子里面會(huì )用到很多 MCU 芯片,包括車(chē)窗的控制,雨刮器、空調、車(chē)燈等等。MCU 分布在汽車(chē)的各個(gè)部位,傳統的汽車(chē)的 MCU 是一種分布式的架構,現在隨著(zhù)電子電器架構的往前演進(jìn),可以看到 MCU 是在向域控制器以及中央計算發(fā)展,這就要求更強大的 MCU 來(lái)支持汽車(chē)更智能的控制。

因此臺積電也看到整個(gè)的技術(shù)從 28 納米向 3D Finfet 工藝的演進(jìn)。

同時(shí)隨著(zhù) OTA 的成熟以及軟件定義汽車(chē)的普及,臺積電看到對于存儲的要求也在不斷的增加,因此臺積電看到 MCU 的趨勢會(huì )從嵌入式的 flash 的工藝向 emerge memory 演進(jìn)。

在 2005 年,臺積電就推出了 180 納米的車(chē)用的平臺。到 2019 年,臺積電提供了 28 納米的嵌入式的 flash 技術(shù)。

Flash 有一個(gè)缺點(diǎn),隨著(zhù)技術(shù)演進(jìn),它的成本價(jià)格會(huì )越來(lái)越高,這是不符合經(jīng)濟效益的。這個(gè)時(shí)間點(diǎn)臺積電引入了 eNVM 技術(shù),即 MRAM 和 RRAM,目前臺積電的 16 納米和 12 納米的技術(shù)正在開(kāi)發(fā)中。

MRAM 跟傳統的 Flash 不同的點(diǎn)在于,MRAM 是通過(guò)一個(gè)磁極的翻轉來(lái)進(jìn)行數據的存儲以及擦寫(xiě),這就表示它前端是跟我們的邏輯工藝完全兼容的,這樣子臺積電客戶(hù)在邏輯工藝上開(kāi)發(fā)出來(lái)的 IP 是可以完全復用。

MRAM 工藝,它可以提供從-40 攝氏度到 125 攝氏度下大于 100 萬(wàn)次的數據擦寫(xiě),同時(shí)在 230 攝氏度的高溫下,數據可以保持 20 年以上。

16 納米的 MRAM 在經(jīng)過(guò) 100 萬(wàn)次的數據擦寫(xiě)以及 150 攝氏度的高溫之后,它的現有的表面是基本沒(méi)有發(fā)生變化,這樣的性能表明 MRAM 特別適合應用于汽車(chē)電子上。

當然必須要說(shuō),因為 MRAM 是用磁極的翻轉來(lái)做數據的重組擦寫(xiě),所以它還是有一定的短板所在,那就是外界的強磁場(chǎng)對它的一個(gè)干擾。臺積電經(jīng)過(guò)多年的研究與我們客戶(hù)的合作,臺積電研發(fā)了一套針對磁干擾相關(guān)的 Design 給到客戶(hù)來(lái)做參考。22 納米的 MRAM 已經(jīng)進(jìn)入量產(chǎn)階段,臺積電的 16 納米 MRAM 在去年也通過(guò)了消費類(lèi)電子的認證,預計 2023 年會(huì )推出給到臺積電車(chē)用電子的客戶(hù)使用。

臺積電的 ReRAM,不同的點(diǎn)是在于它是通過(guò)后端一個(gè)電阻絲的連接和斷開(kāi),通過(guò)阻值的改變來(lái)進(jìn)行一個(gè)數據的存儲和查詢(xún)。那么它一樣跟邏輯的工藝是完全兼容的。在 RRAM 開(kāi)發(fā)的初期,它其實(shí)是針對于消費類(lèi)的電影以及 IOT 應用,主打的是一個(gè)性?xún)r(jià)比。但隨著(zhù)臺積電對這項技術(shù)的不斷的研究,深入的認識,臺積電發(fā)現它其實(shí)是很有潛力可以用在車(chē)用電子里面的。

在-40 攝氏度到 125 攝氏度這樣子的情況下,它可以支持 25 萬(wàn)次以上的擦寫(xiě),在 125 攝氏度下,它的數據也可以保持 10 年以上,然后它還有一點(diǎn)好處是它沒(méi)有磁干擾的問(wèn)題。因此臺積電認為 RRAM 在未來(lái)可能比較適用于中低端的 MCU 的應用上面。臺積電的 40 納米 28 納米以及 22 納米的 RRAM 現在已經(jīng)在量產(chǎn)階段,12 納米目前正在開(kāi)發(fā)當中。

車(chē)用電子的三個(gè)特殊工藝

臺積電還分享了另外三個(gè)特殊工藝節點(diǎn)上,針對車(chē)用電子所做的開(kāi)發(fā)。

第一個(gè)是車(chē)用 RF 通信技術(shù)。

未來(lái),汽車(chē)中會(huì )有更多的通信模塊會(huì )上車(chē),由于 5G 比 4G 有高達 5 倍的數據傳輸速率的一個(gè)提升,因此這一技術(shù)是非常適合用來(lái)作為這種 ADAS 里大數據的傳輸的。此外,通過(guò) CV2x 的標準,汽車(chē)可以跟周?chē)母鞣N事物去進(jìn)行一個(gè)通信,可想而知這樣的數據量也會(huì )是非常的驚人。所以 RF 工藝也在不斷的演進(jìn)。

另外一項應用將在毫米波雷達。早期的比較低分辨率的雷達識別物體的時(shí)候,如果物體靠得特別近,可能沒(méi)辦法把對象區分開(kāi)來(lái)?,F在高精度的 4D 的圖像雷達,可以有小于 1 度角的分辨率,把靠得很近的物體可以清晰的按照邊界進(jìn)行一個(gè)區分。

臺積電專(zhuān)門(mén)推出針對毫米波雷達在 28 納米上的 HPC plus 的工藝,同時(shí)臺積電在 16 納米上也在進(jìn)一步的做提升,臺積電 16 納米第二代的工藝上可以提供優(yōu)于 28 納米的 Finfit 的性能表現供客戶(hù)使用。

第二個(gè)特殊工藝是車(chē)用 CIS。

CIS 在車(chē)子里面的應用跟在手機上面的應用差別很大,CIS 用在手機里面基本上是用來(lái)拍照或者是錄制視頻。但是在車(chē)里面更多的用途是用來(lái)幫助機器視覺(jué)看得更遠更清楚,這就要求它具有更低 pixel size,有更高的分辨率。

車(chē)子大部分的時(shí)候都是在開(kāi)動(dòng)的,所以對于運動(dòng)的圖像的一個(gè)識別是非常的重要,要保證運動(dòng)的圖像能夠拍的清楚,能夠不變形。技術(shù)從 rolling shutter 向 Global Shutter 的演進(jìn)也是一個(gè)大的趨勢。

在這些趨勢的驅動(dòng)之下,整個(gè)工藝往前演進(jìn)的方向,首先從工藝節點(diǎn),會(huì )從 N90/N65 延伸到 N65/N45 納米,同時(shí)臺積電會(huì )提供 wafer 的堆疊,以及具有更高密度的 3D 的 MiM。

第三個(gè)特殊工藝是 BCD 技術(shù)。

電動(dòng)車(chē)的普及使得汽車(chē)里面相應的電源管理的模塊數量大大的增加,同時(shí)電動(dòng)車(chē)的電池也從 12 伏向 48 伏演進(jìn),這個(gè)時(shí)候就需要更高壓的 PCB 工藝。此外,電源管理模塊還有一個(gè)整合的趨勢,臺積電看到未來(lái)的電源管理芯片會(huì )整合更多的東西,比如 MCU,gate Driver,LIN/CAN,走線(xiàn)等等,所有的這一切也要求技術(shù)走向整合。因此我們看到這些技術(shù)所用到的工藝節點(diǎn)也是從 180 納米,然后引進(jìn)到 130 納米,下一代會(huì )演進(jìn)到 55 納米。

臺積電車(chē)用電子平臺

臺積電有一個(gè)完整的車(chē)務(wù)電子平臺,ADEP(Atuomotive Design Enablement Platform)來(lái)幫助客戶(hù)更好實(shí)現產(chǎn)品的落地。

ADEP 包含以下幾個(gè)部分,在技術(shù)方面,臺積電從 16 納米 FinFET 工藝上開(kāi)始提供 ADEP 平臺,還包括 N7N5 以及 N3。這些工藝節點(diǎn)都經(jīng)過(guò)了 AECQ100 的認證,臺積電會(huì )提供完整的設計文件以及相應的老化模型給客戶(hù)去做評估。

在 Design Flow 方面,臺積電會(huì )有 end of life aging flow,Thermal Aware EM,Custom Design Ref.flow。

在 IP 生態(tài)系統方面,不同于更早期的車(chē)用電子的平臺,臺積電在 IP 的部分也有部分的成果。臺積電在 in-house 的 foundation IP 上提供完整的 AECQ100 以及 ISO26262 的認證。臺積電針對第三方的 IP 會(huì )有 in-house 的 IP9000A 的一個(gè)質(zhì)量體系認證,確保所有在臺積電的平臺上開(kāi)發(fā)的第三方 IP 質(zhì)量。

最后一點(diǎn)就是制造,這是臺積電的優(yōu)勢所在。我們針對車(chē)用電子芯片會(huì )提供汽車(chē)的 service package,但這一部分我們會(huì )幫助客戶(hù)去做一個(gè)線(xiàn)上的 pattern control,會(huì )選擇最好的機臺去跑這些 wafer。同時(shí)我們還會(huì )不斷的針對線(xiàn)上去做引入,提升它的良率,以及降低它的失效率。

總結

不久前,臺積電曾在一個(gè)論壇上表示不會(huì )為汽車(chē)行業(yè)保留空閑產(chǎn)能。臺積電今日的分享似乎表明了這家巨頭正在通過(guò)在先進(jìn)邏輯電路和專(zhuān)業(yè)技術(shù)方面的積累,去實(shí)現與更多汽車(chē)客戶(hù)合作。



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