美光新技術(shù) 內存芯片無(wú)需再用昂貴的EUV光刻機

內存工藝進(jìn)入20nm節點(diǎn)之后，廠(chǎng)商的命名已經(jīng)發(fā)生了變化，都被稱(chēng)為10nm級內存，但有更細節的劃分，之前是1x、1y 和 1z三代，后面是1α，1β，1γ。

    在1α，1β，1γ這三代中，三星在1α上就開(kāi)始用EUV光刻工藝，但是代價(jià)就是成本高。而美光前不久搶先宣布的量產(chǎn)1β內存芯片則沒(méi)有使用EUV工藝，避免了昂貴的光刻機。

    不使用EUV光刻，美光在1β內存上使用的主要是第二代HKMG工藝、ArF浸液多重光刻等工藝，實(shí)現了35%的存儲密度提升，同時(shí)省電15%。

    1β之后還有1γ工藝，估計會(huì )是12nm級別，制造難度更大，但美光依然沒(méi)有明確是否使用EUV光刻機。而如今的1β內存，工藝水平相當于13nm。