<dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"></dfn><small id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></small><small id="yhprb"></small><small id="yhprb"></small> <delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><s id="yhprb"><noframes id="yhprb"><small id="yhprb"><dfn id="yhprb"></dfn></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn> <small id="yhprb"></small><delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn>

新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 半導體材料市場(chǎng)你知道多少?

半導體材料市場(chǎng)你知道多少?

作者: 時(shí)間:2018-10-30 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 收藏
編者按:半導體行業(yè),分成上中下游是三個(gè)部分,今天帶大家走進(jìn)半導體材料市場(chǎng)。

  二、電子特種氣體(14%)

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/201810/393554.htm

  電子氣體在電子產(chǎn)品制程工藝中廣泛應用于薄膜、蝕刻、摻雜等工藝,被稱(chēng)為、平面顯示等材料的“糧食”和“源”。 電子特種氣體又可劃分為摻雜氣、外延氣、離子注入用氣、 LED 用氣、蝕刻用氣、化學(xué)汽相沉淀用氣、載運和稀釋氣體等幾大類(lèi),種類(lèi)繁多,在工業(yè)中應用的有 110 余種電子氣體,常用的有 20-30 種。

  電子特種氣體行業(yè)集中度高, 主要企業(yè)有美國空氣化工、美國普萊克斯、德國林德集團、法國液化空氣和日本大陽(yáng)日酸株式會(huì )社, 五大氣體公司占有全球 90%以上的市場(chǎng)份額, 上述企業(yè)也占據了我國電子特種氣體的主要市場(chǎng)份額。國產(chǎn)電子氣體已開(kāi)始占據一定的市場(chǎng)份額, 經(jīng)過(guò)多年發(fā)展,國內已有部分企業(yè)在部分產(chǎn)品方面攻克技術(shù)難關(guān)。四川科美特生產(chǎn)的四氟化碳進(jìn)入臺積電 12 寸臺南 28nm 加工生產(chǎn)線(xiàn),目前公司已經(jīng)被上市公司雅克科技收購; 金宏氣體自主研發(fā) 7N 電子級超純氨打破國外壟斷,主要上市公司有雅克科技、 南大光電、巨化股份。

  三、光掩模板(13%)

  掩膜版是在IC制作過(guò)程中,利用光刻蝕技術(shù)把設計好的電路圖形復制于上。我們把電腦上設計出來(lái)的電路圖用光照到金屬/玻璃薄膜上,制造出掩膜。我們再把剛制作好的掩膜蓋在硅片上,當光通過(guò)掩膜照射,電路圖就"印制"在硅晶片上。如果我們按照電路圖使應該導電的地方連通,應該絕緣的地方斷開(kāi),這樣我們就在硅片上形成了所需要的電路。

  掩膜版質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響光刻的質(zhì)量。在芯片制造過(guò)程中需要經(jīng)過(guò)十幾甚至幾十次的光刻,每次光刻都需要一塊光刻掩膜版,每塊光刻掩膜版的質(zhì)量都會(huì )影響光刻的質(zhì)量。一般來(lái)說(shuō),通過(guò)一系列光學(xué)系統將掩膜版上的圖形按照4:1的比例投影在上的光刻膠涂層上,如果晶圓的最小線(xiàn)寬要達到28nm,掩膜版上的最小線(xiàn)寬只要達到112nm即可。然而隨著(zhù)線(xiàn)寬的不斷縮小,光衍射導致的投影圖形對比度和失真問(wèn)題也相應出現,這對掩膜版制造廠(chǎng)商的技術(shù)提出了更多的要求。

  全球主要的晶圓制造廠(chǎng)商,如Intel、Globalfoundries、IBM、TSMC、UMC、Samsung等都有自己的專(zhuān)業(yè)工廠(chǎng)來(lái)生產(chǎn)自身需要的掩膜版,最先進(jìn)的制程所需的掩膜版技術(shù)也就自然而然掌握在這些國際巨頭手中。不過(guò)近些年,掩膜版外包的趨勢非常的明顯,特別是對于一些60nm及90nm以上制程的低端產(chǎn)品,外包的現象非常明顯。

  目前全球專(zhuān)業(yè)的掩膜版廠(chǎng)商包括美國的Photronics,臺灣的臺灣光罩,日本的Toppan,Hoya,SK-Electronics等。Photronics作為全球領(lǐng)先的掩膜版廠(chǎng)商,主要生產(chǎn)60nm及以上制程的光罩,2014年營(yíng)收達到4.56億美元,凈利潤3202萬(wàn)美元;而像臺灣光罩則主要生產(chǎn)和供應相對低端的0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米和90納米制程的光罩,2014年營(yíng)收達到4411萬(wàn)美元,凈利潤191萬(wàn)美元。

  目前國內的掩膜版廠(chǎng)商主要分為3類(lèi):第一類(lèi)是科研院所,主要有中科院微電子中心,中國電子科技集團第13所、24所、47所、55所等;第二類(lèi)是專(zhuān)業(yè)的掩膜版制造廠(chǎng)商,主要有無(wú)錫華潤微電子有限公司掩膜工廠(chǎng)、上海凸版光掩膜有限公司、Photronics(上海)。第三類(lèi)是晶圓代工廠(chǎng),例如中芯國際,中芯國際的制版能力也處于國際較先進(jìn)的水平。

 四、光刻膠(6%)

  指通過(guò)紫外光、準分子激光、電子束、離子束、 X 射線(xiàn)等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。根據在顯影過(guò)程中曝光區域的去除或保留,分為正像光刻膠和負像光刻膠。隨著(zhù)分辨率越來(lái)越高,光刻膠曝光波長(cháng)不斷縮短,由紫外寬譜向 G 線(xiàn)(436nm)→I 線(xiàn)(365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)→F2(157nm)→極紫外光EUV 的方向轉移。

  我國光刻膠生產(chǎn)基本上被外資把控,并且集中在低端市場(chǎng)。 據中國產(chǎn)業(yè)信息數據,2015 年我國光刻膠產(chǎn)量為 9.75 萬(wàn)噸, 其中中低端產(chǎn)品 PCB 光刻膠產(chǎn)值占比為 94.4%,而 LCD 和用光刻膠產(chǎn)值占比分別僅為 2.7%和 1.6%,半導體光刻膠嚴重依賴(lài)進(jìn)口。

  另外, 2015 年我國光刻膠前五大公司分別臺灣長(cháng)興化學(xué)、日立化成、日本旭化成、美國杜邦及臺灣長(cháng)春化工,均是外資或合資企業(yè),上述五大企業(yè)市場(chǎng)份額達到 89.7%,內資企業(yè)市場(chǎng)份額不足 10%。光刻膠主要上市公司有晶瑞股份、飛凱材料,強力新材,上海新陽(yáng)。

  五、光刻膠配套試劑(7%)

  又稱(chēng)為濕功能電子化學(xué)品,是指通過(guò)復配手段達到特殊功能、滿(mǎn)足制造中特殊工藝需求的配方類(lèi)或復配類(lèi)化學(xué)品。一般配合光刻膠使用,包括顯影液、漂洗液、剝離液等。

  配套試劑和光刻膠配合使用,生產(chǎn)光刻膠的企業(yè)一般具備生產(chǎn)配套試劑的能力,國內的廠(chǎng)商包括江化微、江陰潤瑪、晶瑞股份等,國內企業(yè)快速突破技術(shù)壁壘,憑借成本及本土化優(yōu)勢得以迅速發(fā)展。中國企業(yè)不斷加強濕電子化學(xué)品基礎研究,目前包括江化微在內的一批本土企業(yè)突破了跨國企業(yè)的技術(shù)壟斷,部分領(lǐng)域產(chǎn)品已經(jīng)達到國際標準。

  六、拋光液和拋光墊(7%)

  目前全球拋光的主流技術(shù)是CMP技術(shù),是指在晶圓制造過(guò)程中,使用化學(xué)及機械力對晶圓進(jìn)行平坦化處理的過(guò)程。 CMP 技術(shù)所應用的拋光液、拋光墊、 拋光漿料是硅晶圓及芯片進(jìn)行工業(yè)處理的的三大消耗品, 其中拋光工藝的技術(shù)核心和價(jià)值核心均在拋光墊。 拋光墊價(jià)值量占拋光材料的六成,其力學(xué)性能和表面組織特征對于平坦化的效果非常關(guān)鍵,是CMP 工藝的技術(shù)核心和價(jià)值核心。

  當前全球拋光墊市場(chǎng)呈現寡頭壟斷格局,陶氏化學(xué)占據拋光墊市場(chǎng)近八成份額,國內缺乏獨立自主知識產(chǎn)權和品牌,龐大的國內市場(chǎng)完全被外資產(chǎn)品所壟斷,進(jìn)口替代空間廣闊。國產(chǎn)材料具有明顯的價(jià)格和服務(wù)等優(yōu)勢,大陸建廠(chǎng)熱潮有望驅動(dòng)國內 CMP 拋光墊廠(chǎng)商加速發(fā)展。國內拋光墊核心上市公司有鼎龍股份。

  七、光阻材料(7%)

  光阻材料是印刷電路板線(xiàn)路影像轉移與制作的重要材料。在電子產(chǎn)品日益輕、薄、短、小之趨勢下,干膜光阻正扮演決定性的角色;其制作技術(shù)是直接影響信息及通訊等產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵。受到市場(chǎng)需求強勁推動(dòng),中國大陸在全球光阻材料市場(chǎng)中所占份額必將大幅提升。數據顯示,中國大陸市場(chǎng)所需G-Line光阻材料在全球市場(chǎng)所占份額從2012年起大幅增加;所需I-Line光阻材料在全球市場(chǎng)所占份額從2013年起大幅增加;所需248nm光阻材料在全球市場(chǎng)所占份額從2013年起大幅增加。

  光阻材料暫無(wú)上市公司,北京化工大學(xué)、江蘇博硯科技有限公司聯(lián)合召開(kāi)的國家重點(diǎn)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目推進(jìn)會(huì )上獲悉,我國微電子加工用高端超純化學(xué)品關(guān)鍵技術(shù)已取得重大突破,并已在江蘇宜興建成國內首條年產(chǎn)1000噸黑色光阻示范生產(chǎn)線(xiàn)。這意味著(zhù)長(cháng)期受?chē)鈮艛嗟奈㈦娮硬牧祥_(kāi)始走向國產(chǎn)化,并為我國微電子及相關(guān)產(chǎn)業(yè)擺脫進(jìn)口依賴(lài)起到了重要的引領(lǐng)作用。

  八、超凈高純試劑(占比4%)

  又稱(chēng)濕化學(xué)品,亦可稱(chēng)為通用濕電子化學(xué)品,是指主體成分純度大于 99.99%,雜質(zhì)離子和微粒數符合嚴格要求的化學(xué)試劑。主要以上游硫酸、 鹽酸、 氫氟酸、 氨水、 氫氧化鈉、 氫氧化鉀、 丙酮、 乙醇、 異丙醇等為原料,經(jīng)過(guò)預處理、 過(guò)濾、 提純等工藝生產(chǎn)的得到純度高產(chǎn)品。在半導體領(lǐng)域主要用于芯片的清洗和腐蝕,同時(shí)在硅晶圓的清洗中也起到重要作用。其純度和潔凈度對集成電路成品率、電性能及可靠性有十分重要的影響。

  應用于半導體的超凈高純試劑, 全球主要企業(yè)有德國巴斯夫,美國亞什蘭化學(xué)、Arch化學(xué),日本關(guān)東化學(xué)、三菱化學(xué)、京都化工、住友化學(xué)、和光純藥工業(yè),臺灣鑫林科技,韓國東友精細化工等,上述公司占全球市場(chǎng)份額的 85%以上。

  目前,國內生產(chǎn)超凈高純試劑的企業(yè)中產(chǎn)品達到國際標準且具有一定生產(chǎn)量的企業(yè)有 30多家,國內超凈高純試劑產(chǎn)品技術(shù)等級主要集中在 G2 級以下,國內江化微、晶瑞股份等企業(yè)部分產(chǎn)品已達到 G3、 G4 級別,晶瑞股份超純雙氧水已達 G5 級別,部分產(chǎn)品已經(jīng)實(shí)現進(jìn)口替代。我國內資企業(yè)產(chǎn)超凈高純試劑在 6 英寸及 6 英寸以下晶圓市場(chǎng)上的國產(chǎn)化率已提高到 80%,而 8 英寸及 8 英寸以上晶圓加工的市場(chǎng)上,其國產(chǎn)化率由2012 年約 8%左右緩慢增長(cháng)到 2014 年的 10%左右。超凈高純試劑產(chǎn)能方面, 晶瑞股份產(chǎn)能 3.87 萬(wàn)噸,江化微產(chǎn)能 3.24 萬(wàn)噸。

  九、靶材 (3%)

  半導體行業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域,靶材是濺射工藝中必不可少的重要原材料。濺射工藝是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子轟擊固體表面,使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體稱(chēng)為濺射靶材。

  靶極按照成分不同可分為金屬靶極(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)、合金靶極(鎳鉻合金、鎳鈷合金等)和陶瓷化合物靶極(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。 半導體晶圓制造中 200nm(8 寸)及以下晶圓制造通常以鋁制程為主,使用的靶材以鋁、鈦元素為主。 300nm(12 寸)晶圓制造,多使用先進(jìn)的銅互連技術(shù),主要使用銅、鉭靶材。

  半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀(guān)結構等方面都設定了極其苛刻的標準,長(cháng)期以來(lái)一直被美、日的跨國公司所壟斷,我國的超高純金屬材料及濺射靶材嚴重依賴(lài)進(jìn)口。目前上市的靶材公司有江豐電子、有研新材、阿石創(chuàng )。

  總結

  中國企業(yè)在半導體大硅片材料、設備領(lǐng)域較為薄弱,需要與國際領(lǐng)軍企業(yè)交流學(xué)習技術(shù),借鑒成功經(jīng)驗,發(fā)展壯大。助力中國半導體產(chǎn)業(yè)的崛起。


上一頁(yè) 1 2 下一頁(yè)

關(guān)鍵詞: 半導體 晶圓

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專(zhuān)區

關(guān)閉
国产精品自在自线亚洲|国产精品无圣光一区二区|国产日产欧洲无码视频|久久久一本精品99久久K精品66|欧美人与动牲交片免费播放
<dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"></dfn><small id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></small><small id="yhprb"></small><small id="yhprb"></small> <delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><s id="yhprb"><noframes id="yhprb"><small id="yhprb"><dfn id="yhprb"></dfn></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><small id="yhprb"></small><dfn id="yhprb"><delect id="yhprb"></delect></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn> <small id="yhprb"></small><delect id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></delect><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"><strike id="yhprb"></strike></s></dfn><dfn id="yhprb"><s id="yhprb"></s></dfn>