中微發(fā)布第一代電感耦合等離子體刻蝕設備Primo nanova?

——用于制造最先進(jìn)的存儲和邏輯芯片

中國上海，2018年3月13日電——中微半導體設備（上海）有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中微”）在本周舉辦的SEMICON China期間正式發(fā)布了第一代電感耦合等離子體刻蝕設備Primo nanova?，用于大批量生產(chǎn)存儲芯片和邏輯芯片的前道工序。該設備采用了中微具有自主知識產(chǎn)權的電感耦合等離子體刻蝕技術(shù)和許多創(chuàng )新的功能，以幫助客戶(hù)達到芯片制造工藝的關(guān)鍵指標，例如關(guān)鍵尺寸（CD）刻蝕的精準度、均勻性和重復性等。其創(chuàng )新的設計包括：完全對稱(chēng)的反應腔，超高的分子泵抽速；獨特的低電容耦合線(xiàn)圈設計和多區細分溫控靜電吸盤(pán)（ESC）。憑借這些特性和其他獨特功能，該設備將為7納米、5納米及更先進(jìn)的半導體器件刻蝕應用提供比其他同類(lèi)設備更好的工藝加工能力，和更低的生產(chǎn)成本。

中微 Primo nanova?刻蝕機已獲得多家客戶(hù)訂單，設備產(chǎn)品已陸續付運。中微首臺Primo nanova?設備已在客戶(hù)生產(chǎn)線(xiàn)上正常運行，良率穩定。目前公司正在和更多客戶(hù)合作，進(jìn)行刻蝕評估。在中微提供了一系列電容耦合等離子體刻蝕設備之后，這一電感耦合等離子體刻蝕新設備大大增強了中微的刻蝕產(chǎn)品線(xiàn)，能涵蓋大多數芯片前段的刻蝕應用。

當今芯片制造所采用的新材料、新的器件結構、雙重模板以至四重模板工藝和其他新的技術(shù)正在推動(dòng)器件尺度的不斷縮小，這使得芯片的制造越來(lái)越復雜。中微開(kāi)發(fā)Primo nanova? 時(shí)，充分考慮了在這種苛刻的加工環(huán)境中，如何使刻蝕達到在晶圓片內更好的刻蝕均勻性和實(shí)時(shí)的控制能力、為芯片制造提供更寬的工藝窗口，以達到客戶(hù)日益提高的技術(shù)要求，并實(shí)現較低的制造成本。

“Primo nanova?采用了當下最先進(jìn)的等離子體刻蝕技術(shù)，為前沿客戶(hù)提供更具創(chuàng )新、更靈活的解決方案。”中微副總裁兼等離子體刻蝕產(chǎn)品部總經(jīng)理倪圖強博士說(shuō)道，“該設備不僅能夠用于多種導體刻蝕工藝，比如淺溝槽隔離刻蝕（STI）、多晶硅柵極刻蝕；同時(shí)可用于介質(zhì)刻蝕，如間隙壁刻蝕（Spacer Etch）、掩?？涛g（Mask Etch）、回刻蝕（Etch Back）等，具有業(yè)界領(lǐng)先的生產(chǎn)率和卓越的晶圓內加工性能。這項基于電感耦合等離子體的刻蝕技術(shù)既可以用于刻蝕垂直深孔，也可以用于刻蝕淺錐形輪廓。此外，由于這個(gè)設備占地面積小、減少了耗材的使用，有相當大的成本優(yōu)勢。我們非常高興看到客戶(hù)已經(jīng)從該設備投入生產(chǎn)中獲益?！?/span>

中微第一代電感耦合等離子體刻蝕設備Primo nanova?

Primo nanova?的關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn)和競爭優(yōu)勢

Primo nanova?以獨特的四方形主機、可配置六個(gè)刻蝕反應腔和兩個(gè)除膠反應腔，它具有獨特的技術(shù)創(chuàng )新和極高的生產(chǎn)效率。這些技術(shù)創(chuàng )新點(diǎn)包括：

?具有自主知識產(chǎn)權的低電容耦合線(xiàn)圈設計，能夠對離子濃度和離子能量實(shí)現有效的獨立控制，這對更高的選擇性和軟刻蝕至關(guān)重要；

?采用了完全對稱(chēng)的反應腔設計、多區細分溫控靜電吸盤(pán)和動(dòng)態(tài)晶圓邊緣耦合控制，從而帶來(lái)更好的均勻性。這種設計克服了一直以來(lái)在量產(chǎn)中難以解決的晶圓邊緣刻蝕的不均勻性問(wèn)題；

?與同類(lèi)設備相比具有超高的分子泵抽速，以實(shí)現更寬的工藝窗口和更精確的形貌控制；

?具有自主創(chuàng )新的等離子體增強型PVD特種材料的涂層、反應腔內壁溫度的精確控制和對反應腔內表面狀態(tài)的良好控制，可實(shí)現更高的工藝穩定性并減少微粒。

倪圖強博士進(jìn)一步指出：“從客戶(hù)的反饋證實(shí)， Primonanova?提供了我們預期達到的晶圓加工能力和生產(chǎn)率，以及具有競爭優(yōu)勢的生產(chǎn)成本。它也是一款多功能的設備，使用最少的配置調整就可以變換適用于多種加工工藝?！?/span>

Primo nanova?是中微公司的注冊商標。