英特爾重啟Fab 42非為擴產(chǎn) 或鎖定導入7納米制程用EUV設備

　　為響應川普(Donald Trump)新政，英特爾(Intel)宣布將投入70億美元重啟位于亞歷桑納州的Fab 42晶圓廠(chǎng)。分析師認為，英特爾啟用Fab 42的主要目的或許不在于擴大產(chǎn)能，而是要引進(jìn)7納米制程所需的極紫外光(EUV)設備。

　　根據EE Times報導，Fab 42啟用后，會(huì )將目標瞄準7納米制程，并可望在3~4年內創(chuàng )造3,000個(gè)高科技、高薪資的工作機會(huì )。盡管英特爾尚未透露將于哪個(gè)時(shí)間點(diǎn)開(kāi)始采用EUV微影技術(shù)，IC Insights分析師認為，EUV微影將是英特爾7納米成功的關(guān)鍵，因此英特爾很可能趁著(zhù)重啟Fab 42的機會(huì )，引進(jìn)EUV設備。

　　Lineback指出，英特爾需要通過(guò)這項消息，讓外界知道其先進(jìn)制程并未落后于臺積電或三星電子(Samsung Electronics)。盡管英特爾其他晶圓廠(chǎng)也會(huì )在2020年前投入7納米制程，但Fab 42將是英特爾首個(gè)7納米量產(chǎn)晶圓廠(chǎng)。此外，在收購Altera的業(yè)務(wù)后，Fab 42也可能被英特爾用來(lái)從事FPGA生產(chǎn)。

　　美國前總統歐巴馬(Barack Obama)曾稱(chēng)Fab 42象征著(zhù)美國制造的未來(lái)，但Fab 42廠(chǎng)房自2013年底落成后，便一直處于閑置狀態(tài)，原因就在于市場(chǎng)沒(méi)有出現足夠的需求。

　　Fab 42原本是為了發(fā)展14納米制程所打造，然而英特爾的Tick-Tock機制并未能趕上2年一次的更新周期，且其智能手機處理芯片的發(fā)展也不盡理想，再加上PC市場(chǎng)萎縮，以及14納米制程良率問(wèn)題，都導致Fab 42遲遲無(wú)法啟用。盡管英特爾稱(chēng)霸了服務(wù)器市場(chǎng)，但服務(wù)器對于矽芯片并沒(méi)有太多的需求。

　　然而有鑒于低功率運算裝置的物聯(lián)網(wǎng)相關(guān)需求將在未來(lái)3~4年內快速成長(cháng)，Fab 42也有了上場(chǎng)的機會(huì )。不過(guò)Insight-64分析師仍強調，在PC市場(chǎng)不斷衰退之際，安裝EUV設備應才是英特爾重啟Fab 42的主要目的。

　　英特爾將于2017年從14納米步入10納米制程。到了2020年時(shí)，Fab 42所安裝的EUV曝光設備產(chǎn)出，就可望追趕上制程發(fā)展的腳步。

　　英特爾執行長(cháng)Brian Krzanich曾在一封給員工的信中表示，Fab 42所采用的7納米制程將是全世界最先進(jìn)的半導體制程技術(shù)，并代表了摩爾定律(Moore’s Law)的未來(lái)。英特爾的7納米制程芯片將被運用在最復雜的電腦、資料中心、傳感器與其他高科技裝置上，推動(dòng)人工智能(AI)、先進(jìn)車(chē)輛、交通服務(wù)、醫療研究等領(lǐng)域的發(fā)展，而這需要摩爾定律能有所提升。

　　英特爾發(fā)言人指出，投資在Fab 42晶圓廠(chǎng)的70億美元經(jīng)費中，有很大一部分會(huì )運用在工具及設備系統上。除了EUV微影設備外，Fab 42的7納米制程也將需要光罩生產(chǎn)、檢驗設備、CMP、蝕刻、晶圓清洗等工具設備。分析師指出，為了掌握7納米制程IC的優(yōu)勢，后端的封裝、組裝都需有進(jìn)一步發(fā)展。