KLA-Tencor 宣布推出新型光罩檢測系統

　　今天，KLA-Tencor 公司針對 10 納米及以下的掩膜技術(shù)推出了三款先進(jìn)的光罩檢測系統，Teron™ 640、Teron™ SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統是實(shí)現當前和下一代掩膜設計的關(guān)鍵，使得光罩廠(chǎng)和集成電路晶圓廠(chǎng)能夠更高效地辨識光刻中顯著(zhù)并嚴重損害成品率的缺陷。

　　利用創(chuàng )新的雙重成像技術(shù)，Teron 640 檢測系統為光罩廠(chǎng)提供了必要的靈敏度，對先進(jìn)的光罩進(jìn)行準確的品質(zhì)檢驗。Teron SL655 檢測系統采用全新的 STARlightGold™ 技術(shù)，幫助集成電路制造商評估新光罩的質(zhì)量，監測光罩退化，并檢測對成品率至關(guān)重要的光罩缺陷。Teron 檢測機臺的綜合光罩質(zhì)量測量是由光罩決策中心 (RDC) 所支持的，RDC 是一套數據分析與管理系統，具備多種功能，支持缺陷的自動(dòng)識別判斷，縮短生產(chǎn)周期，并減少影響成品率的與光罩相關(guān)的掩模圖案錯誤。

　　KLA-Tencor 的光罩產(chǎn)品事業(yè)部 (RAPID) 副總裁兼總經(jīng)理熊亞霖博士稱(chēng)：“今天的復雜的成像技術(shù)，例如隔板輔助四層成像 (SAQP)，采用越來(lái)越復雜的光罩，這使得檢驗光罩質(zhì)量并保持光罩狀況對實(shí)現最佳的晶圓圖案成像至關(guān)重要。我們的團隊已經(jīng)開(kāi)發(fā)出最先進(jìn)的光罩檢測與數據分析技術(shù)，將滿(mǎn)足當前和下一代光罩設計的需求。通過(guò)將 Teron 640 和 Teron SL655 生成的大量數據與 RDC 的評估功能緊密結合，光罩廠(chǎng)和集成電路晶圓廠(chǎng)能夠更高效地辨識光刻中顯著(zhù)的光罩缺陷，從而改善光罩的質(zhì)量控制，并獲得更好的產(chǎn)品圖案成像。”

　　Teron 640 是建立在光罩業(yè)界領(lǐng)先的 Teron 光罩檢測平臺之上，通過(guò)采用193 納米光源和雙成像模式(結合了高分辨率檢測和基于缺陷成像性識別的空中成像)，Teron 640支持先進(jìn)的光學(xué)光罩檢測。此外，Teron 640 還增強了先進(jìn)的芯片-數據庫 (die-to-database) 檢測算法，以進(jìn)一步提高缺陷靈敏度，并提供新的更高產(chǎn)能選項，以縮短獲取結果的時(shí)間。多套 Teron 640 光罩檢測系統已經(jīng)安裝在晶圓代工廠(chǎng)和邏輯電路工廠(chǎng)中，用于高性能光罩的質(zhì)量控制。

　　Teron SL655 的核心技術(shù) STARlightGold 能夠在新光罩質(zhì)量檢查時(shí)從光罩生成黃金參考，然后使用此參考進(jìn)行光罩合格性的重新檢測。這種獨特的技術(shù)實(shí)現了全域光罩覆蓋，并且創(chuàng )造出最佳的缺陷檢測率，例如霧點(diǎn)生長(cháng)或污染，籍此支持包括采用高度復雜的光學(xué)鄰近技術(shù)在內的各種光罩類(lèi)型。Teron SL655 擁有業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)能，支持更快的生產(chǎn)周期和檢測更多數量的光罩，滿(mǎn)足先進(jìn)的多圖案技術(shù)光罩技術(shù)。此外，Teron SL655 與超紫外線(xiàn) (EUV) 檢測技術(shù)兼容，能夠與集成電路制造商及早協(xié)作，滿(mǎn)足晶圓廠(chǎng)對 EUV 光罩的要求。在新光罩質(zhì)量控制和芯片生產(chǎn)過(guò)程中的光罩合格性重新檢定方面，Teron SL655 系統正在接受集成電路制造商的評估。

　　RDC 是一套綜合數據分析和存儲平臺，支持光罩廠(chǎng)和集成電路晶圓廠(chǎng)的多種 KLA-Tencor 光罩檢驗與測量平臺。RDC 可以提供包括自動(dòng)缺陷分類(lèi) (ADC) 在內的數種應用，ADC 與檢測機臺及光刻平面檢查 (LPR) 同時(shí)運行，而 LPR 則用于分析光罩檢測儀所檢出缺陷的成像性。這些應用可以讓缺陷識別自動(dòng)化，從而改善周期時(shí)間，并減少關(guān)鍵性錯誤。RDC 已被多家代工廠(chǎng)和內存制造商采用，對光罩合格檢驗過(guò)程中的數據管理和分析。

　　Teron 640、Teron SL655 和 RDC 與 LMS IPRO6 光罩圖案放置量測系統和 K-T Analyzer® 先進(jìn)數據分析系統一起，形成了全面的光罩合格性檢定解決方案，以支持先進(jìn)的光罩和集成電路制造商。Teron 640、Teron SL655 和 RDC 也是 KLA-Tencor 的 5D Patterning Control Solution™ 的關(guān)鍵組成部分，它可以幫助集成電路制造商通過(guò)對整個(gè)晶圓廠(chǎng)和光罩廠(chǎng)的工藝監測與控制獲得更好的圖案成像的成果。為了保持前沿領(lǐng)先的掩膜和集成電路制造所要求的高性能和高產(chǎn)能，Teron 640、Teron SL655 和 RDC 由 KLA-Tencor 的全球綜合服務(wù)網(wǎng)絡(luò )提供支持。關(guān)于更多信息，請參閱 5D 圖案成型控制解決方案網(wǎng)頁(yè)。