Toppan Photomasks, Inc批準在中國建設先進(jìn)光掩模生產(chǎn)線(xiàn)項目

　　全球業(yè)界首選光掩模合作伙伴T(mén)oppan Photomasks, Inc. (TPI)今天宣布批準對近期擴建的中國上海廠(chǎng)的下一階段投資計劃;該廠(chǎng)由TPI獨資子公司Toppan Photomasks Company Limited, Shanghai (TPCS) 運營(yíng)。TPI將對此工廠(chǎng)再投資8000萬(wàn)美元以展現其對中國快速成長(cháng)的半導體產(chǎn)業(yè)及客戶(hù)之長(cháng)期承諾。TPI先前已投資2000萬(wàn)美元擴建上海二廠(chǎng)(TPCS Shanghai II);該廠(chǎng)現已量產(chǎn)并且為中國唯一提供全方位技術(shù)及產(chǎn)品的商業(yè)光掩模廠(chǎng)。

　　TPI執行長(cháng)Mike Hadsell表示：“相較于其他供貨商，上海廠(chǎng)除了提供中國客戶(hù)縮短兩天周期的優(yōu)勢外，并有利于加速客戶(hù)攻占市場(chǎng)的時(shí)效。今天的宣布除了以上優(yōu)勢，并擴大光掩模生產(chǎn)能力至28納米。上海廠(chǎng)的先進(jìn)技術(shù)也將更進(jìn)一步延伸至14納米，以符合中國半導體市場(chǎng)快速演進(jìn)的需求。此外，上海廠(chǎng)區也有足夠的擴建空間以支持客戶(hù)在未來(lái)十年甚至更長(cháng)遠的產(chǎn)能需求?！?/p>

　　現擴展的上海二廠(chǎng)坐落于目前公司營(yíng)運地(上海漕河涇開(kāi)發(fā)區)，除了擁有先進(jìn)的一級無(wú)塵室及設備外，并有利于下一階段的擴展計劃。此階段的生產(chǎn)能力及技術(shù)將聚焦于65至14納米的邏輯與先進(jìn)內存(DRAM及NAND)。待今日宣布的計劃完成后，仍將有40%的無(wú)塵室空間以作為日后擴展所需。

關(guān)于Toppan Photomasks
Toppan Photomasks, Inc.為隸屬于Toppan集團的光掩模公司，并為年營(yíng)收超過(guò)130億美元的Toppan Printing Co., Ltd.的獨資子公司。作為全球領(lǐng)先的光掩模供貨商，Toppan集團擁有業(yè)界最先進(jìn)的研發(fā)能力及全方位的光掩模生產(chǎn)技術(shù)與產(chǎn)能，以滿(mǎn)足全球半導體產(chǎn)業(yè)日益復雜且多樣化的產(chǎn)品及服務(wù)需求。Toppan Photomasks總部位于美國德克薩斯州Round Rock市，欲了解更多信息，請瀏覽www.photomask.com網(wǎng)站。

關(guān)于Toppan Printing的光掩模業(yè)務(wù)
Toppan Printing是世界首屈一指的光掩模制造商，提供最新的光掩模技術(shù)并支持全球半導體產(chǎn)業(yè)從最初的制造流程到商業(yè)化生產(chǎn)。Toppan為全球唯一能實(shí)時(shí)提供日本、美國、歐洲及亞洲各地客戶(hù)最高質(zhì)量的光掩模制造商。欲了解更多信息，請瀏覽www.toppan.co.jp網(wǎng)站。