Gartner:2012年全球半導體制造設備支出減少16%
根據國際研究暨顧問(wèn)機構Gartner統計,2012年全球半導體資本設備支出總額為378億美元,較2011年減少16.1%;由于沈積及制程控制方面的相對優(yōu)勢,應用材料公司(AppliedMaterials)去年營(yíng)收55.13億美元,市占14.4%,重新登上第一名寶座。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/144764.htmGartner統計,受DRAM產(chǎn)能需求下降、2012下半年整體半導體裝置需求減緩和庫存暴增的影響,制造設備的銷(xiāo)售量從第2季至年底為止呈現逐季下滑。晶圓級制造受到微影(lithography)與沈積(deposition)領(lǐng)域疲弱的影響,在2012年表現低于整體市場(chǎng)。在主要領(lǐng)域中,即主要受到邏輯制造影響的領(lǐng)域,以28/20奈米制程和良率改善的表現較佳。
Gartner副總裁Klaus-DieterRinnen表示,「DRAM長(cháng)期供過(guò)于求及轉進(jìn)NAND后又造成供過(guò)于求,導致產(chǎn)能需求下降。內存制造相關(guān)的采購大幅減少。邏輯相關(guān)的支出也僅能稍微抵銷(xiāo)一點(diǎn)下降力道,因為受到2012下半年整體半導體裝置需求減緩和庫存暴增的影響。因此,制造設備的銷(xiāo)售量從第2季至年底為止呈現逐季下滑」。
由于沈積及制程控制方面的相對優(yōu)勢,應用材料公司(AppliedMaterials)重新登上第一名寶座。艾司摩爾(ASML)則因微影市場(chǎng)疲弱與極紫外光(EUV)銷(xiāo)售不佳的影響,造成營(yíng)收下滑28%,去年營(yíng)收48.87億美元,市占12.88%,居第二名。
東京威力科創(chuàng )(TokyoElectronLtd.,TEL)同樣受惠于在非微影市場(chǎng)的相對優(yōu)勢,去年營(yíng)收42.19億美元,市占11.1%,排名第三;LamResearch在購并諾發(fā)系統(NovellusSystems)后晉升至第四名,去年營(yíng)收28.35億美元,市占7.4%。
Gartner分析師表示,2012年前十大半導體制造設備廠(chǎng)廠(chǎng)商的銷(xiāo)售額所占全球比例進(jìn)一步攀升至近70%,顯示設備市場(chǎng)日益仰賴(lài)少數幾家供應廠(chǎng)商。
Rinnen表示,「值得注意的是前十大廠(chǎng)商的銷(xiāo)售額所占全球比例進(jìn)一步攀升,現已將近70%,2008年只有61%。這些大型廠(chǎng)商的成長(cháng)代表小型廠(chǎng)商輸掉這場(chǎng)競賽,凸顯設備市場(chǎng)日益仰賴(lài)少數幾家供應廠(chǎng)商」。
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