中微在泛林科技專(zhuān)利訴訟中第四次獲勝
中微半導體設備有限公司(AMEC)宣布,中微在由美國泛林科技在臺灣針對中微關(guān)聯(lián)公司提起的訴訟中再次取得勝利。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/127811.htm去年12月29日,臺灣智慧財產(chǎn)法院(IP Court)作出判決,維持了由臺灣經(jīng)濟部智慧財產(chǎn)局(TIPO)作出的不利于泛林科技的決定。臺灣智慧財產(chǎn)法院在判決中支持了臺灣經(jīng)濟部智慧財產(chǎn)局的立場(chǎng),宣布泛林科技的專(zhuān)利號為126873的臺灣專(zhuān)利(聚焦環(huán)裝置專(zhuān)利)由于缺乏新穎性和創(chuàng )造性而無(wú)效,因而無(wú)法構成指控中微侵權的依據。
法庭的宣判標志著(zhù)中微在泛林科技指控中微專(zhuān)利侵權的糾紛案中第四次取得了重大勝利,并且進(jìn)一步證明了中微在全球范圍內尊重知識產(chǎn)權的堅定承諾。
中微公司首席執行官尹志堯博士說(shuō)道:“在泛林科技針對中微 Primo D-RIE? 產(chǎn)品的核心技術(shù)領(lǐng)域發(fā)起的專(zhuān)利侵權訴訟中,中微再一次有力地澄清了指控。盡管有泛林科技法律訴訟的干擾,但中微的業(yè)務(wù)仍然穩步發(fā)展??蛻?hù)正在進(jìn)一步認識到中微可單臺獨立操作的雙臺反應器刻蝕機設備獨特的設計、穩定的性能和成本上的顯著(zhù)優(yōu)勢。我們的首要任務(wù)是,通過(guò)提供最佳的刻蝕設備,幫助客戶(hù)達到日益增強的、更有挑戰性的技術(shù)指標。”
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