02政策專(zhuān)項“給力”國內半導體企業(yè)

　　02專(zhuān)項的實(shí)施，對國內半導體材料企業(yè)尤其是設備企業(yè)來(lái)說(shuō)，具有歷史性的意義，因為半導體設備的研發(fā)所需資金數額巨大，若完全由國內企業(yè)自己承擔，恐怕難以承受其重。02重大專(zhuān)項的實(shí)施，不僅表明國家支持半導體支撐業(yè)的決心，而且在資金上更是給了國內企業(yè)“真金白銀”的支持。

　　通過(guò)承擔國家02專(zhuān)項，國內半導體設備和材料企業(yè)的核心研發(fā)能力、產(chǎn)業(yè)化能力和產(chǎn)業(yè)協(xié)調能力得到了較大的提升。在02專(zhuān)項的實(shí)施過(guò)程中，設備制造企業(yè)與用戶(hù)工藝實(shí)現了緊密結合，促使設備研制與制造圍繞大生產(chǎn)需求。北方微電子的65nm硅刻蝕機已經(jīng)完成中芯國際生產(chǎn)線(xiàn)的全部工藝考核和認證，各項技術(shù)參數均達到國際主流設備水平，65nm～45nm銅PVD(物理氣相沉積)設備也依照項目計劃節點(diǎn)進(jìn)行工藝測試。中科信承擔的90nm～65nm大角度離子注入機于2010年10月進(jìn)入中芯國際北京公司FAB至今，已完成基于90nm工藝器件的匹配測試、90nm商用器件小批量測試，WAT(晶片允收測試)測試數據達到中芯要求，現正處于65nm工藝器件匹配測試階段，即將進(jìn)行該制程的器件小批量工藝測試。中微公司已經(jīng)開(kāi)發(fā)出12英寸能加工65納米到40納米的等離子體刻蝕設備，并正在亞洲領(lǐng)先的芯片生產(chǎn)線(xiàn)上核準加工28納米的芯片，比原來(lái)的計劃超前了兩代。中微的介質(zhì)刻蝕設備已被10家亞洲芯片廠(chǎng)商的生產(chǎn)線(xiàn)接受，已經(jīng)在5條生產(chǎn)線(xiàn)上生產(chǎn)出150多萬(wàn)片合格的芯片?？梢哉f(shuō)，國內生產(chǎn)的集成電路設備終于在產(chǎn)業(yè)化的路上邁出了堅實(shí)的一步。

　　盡管?chē)鴥劝雽w設備和材料企業(yè)的核心競爭能力實(shí)現了新的突破，但要具有和已經(jīng)發(fā)展了幾十年、而且擁有尖端技術(shù)和市場(chǎng)人脈的國外知名半導體設備廠(chǎng)商同臺競爭的實(shí)力，對于國內設備廠(chǎng)商來(lái)說(shuō)，還不是一朝一夕能夠實(shí)現得了的。要想提高國產(chǎn)設備的競爭力，必須以產(chǎn)業(yè)化為目的實(shí)現設備的國產(chǎn)化，一方面要優(yōu)先使用國內零部件，大力扶持國內零部件制造商，完善供應鏈;另一方面還應重視產(chǎn)學(xué)研用的結合，堅持以企業(yè)為主體，以產(chǎn)業(yè)化為目標，積極推動(dòng)與多家大學(xué)和研究所的資源整合。

　　當然，國家有關(guān)部門(mén)應當進(jìn)一步完善國家重大專(zhuān)項的實(shí)施。比如，在項目審查過(guò)程中，除了專(zhuān)家參與，還應該吸收在國際半導體業(yè)界具有經(jīng)驗的人士特別是市場(chǎng)和財務(wù)方面的人員參加，促使02專(zhuān)項不僅在技術(shù)上取得突破，在產(chǎn)品和市場(chǎng)上也同樣能夠取得突破。比如，應當盡量減少“撒胡椒面”式的支持，集中力量辦大事，重點(diǎn)扶持能夠取得突破的項目，力爭未來(lái)5～10年能夠打造出世界一流的半導體生產(chǎn)和支撐企業(yè)。