Synopsys綜合和布局及布線(xiàn)生產(chǎn)效率提升兩倍

　　Synopsys日前宣布，在其Galaxy設計實(shí)現平臺中推出了最新的RTL綜合工具Design Compiler 2010，它將綜合和物理層實(shí)現流程增速了兩倍。Design Compiler自1988年問(wèn)世以來(lái)，隨著(zhù)工藝技術(shù)從1.5微米到32納米的進(jìn)步，而不斷得到調整升級。而今時(shí)序與面積布線(xiàn)的優(yōu)化已成為主要的挑戰，最新版工具與時(shí)俱進(jìn)，針對拓撲技術(shù)進(jìn)行擴展，為Synopsys布局布線(xiàn)解決方案IC Compiler提供“物理層指引”;將時(shí)序和面積的一致性提升至5%的同時(shí)，還將IC Complier的布線(xiàn)速度提升了1.5倍，在四核平臺上可兩倍提升綜合運行時(shí)間。

　　Synopsys 總監Gal Hasson說(shuō)， 在最近6年Design Compiler的優(yōu)化過(guò)程中，累積的速度提升已達到18倍，漏電降低已達到三分之二。在互連延遲成為主要矛盾的今天，如何盡早在設計過(guò)程中解決互連擁塞等問(wèn)題，都是EDA軟件目前優(yōu)化的方向。而Design Compiler 2010正是在這一方面有了很大的突破。通過(guò)“物理層指引物理指導”工具，幫助工程師簡(jiǎn)化了流程，并將IC Compiler的布局速度提升了1.5倍。Design Compiler 2010也為RTL設計師們提供了在綜合環(huán)境內部進(jìn)入到IC Compiler進(jìn)行布局規劃的功能。按下按鈕后，設計師們就能夠進(jìn)行布局的調整，確保他們盡早識別和修復布局問(wèn)題和獲得更快速的設計收斂。