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gan hemt 文章 進(jìn)入gan hemt技術(shù)社區
EPC起訴英諾賽科,要求保護氮化鎵(GaN)專(zhuān)利
- 案例聚焦新一代替代硅技術(shù)?(加利福尼亞州,埃爾塞貢多)-- 氮化鎵(GaN)技術(shù)的全球領(lǐng)導者宜普電源轉換公司(Efficient Power Conversion Corporation, EPC,以下簡(jiǎn)稱(chēng)宜普公司)于今日向美國聯(lián)邦法院和美國國際 貿易委員會(huì )(U.S. International Trade Commission, ITC)提起訴訟,主張其基礎專(zhuān)利組合中的 四項專(zhuān)利受到英諾賽科(珠海)科技有限公司及其子公司(以下統稱(chēng)英諾賽科)侵犯。 這些專(zhuān)利 涉及宜普公司獨家的增強型氮化
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ROHM開(kāi)始量產(chǎn)具有業(yè)界超高性能的650V耐壓GaN HEMT

- 全球知名半導體制造商ROHM(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“ROHM”)將650V耐壓的GaN(Gallium Nitride:氮化鎵)HEMT*1“GNP1070TC-Z”、“GNP1150TCA-Z”投入量產(chǎn),這兩款產(chǎn)品非常適用于服務(wù)器和AC適配器等各種電源系統。據悉,電源和電機的用電量占全世界用電量的一大半,為實(shí)現無(wú)碳社會(huì ),如何提高它們的效率已成為全球性的社會(huì )問(wèn)題。而功率元器件是提高它們效率的關(guān)鍵,SiC (Silicon Carbide:碳化硅)和GaN等新材料在進(jìn)一步提升各種電源效率方面被寄予厚望。2022年,RO
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意法半導體發(fā)布靈活可變的隔離式降壓轉換器芯片

- 2023 年 5月 16 日,中國 —— 意法半導體發(fā) L6983i 10W 隔離降壓 (iso-buck) 轉換器芯片具有能效高、尺寸緊湊,以及低靜態(tài)電流、3.5V-38V 寬輸入電壓等優(yōu)勢。L6983i適合需要隔離式 DC-DC 轉換器應用,采用隔離降壓拓撲結構,需要的外部組件比傳統隔離式反激式轉換器少,并且不需要光耦合器,從而節省了物料清單成本和 PCB面積。 L6983i 的其他優(yōu)勢包括 2μA 關(guān)斷電流,集成軟啟動(dòng)時(shí)間可調、內部環(huán)路補償、電源正常指示,以及過(guò)流保護、熱關(guān)斷等保護功能。擴
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EPC新推基于GaN FET的150 ARMS電機驅動(dòng)器參考設計

- 基于氮化鎵器件的EPC9186逆變器參考設計增強了高功率應用的電機系統性能、精度、扭矩和可實(shí)現更長(cháng)的續航里程。宜普電源轉換公司(EPC)新推EPC9186,這是一款采用EPC2302 eGaN?FET的三相BLDC電機驅動(dòng)逆變器。EPC9186支持14 V~ 80 V的寬輸入直流電壓。大功率EPC9186支持電動(dòng)滑板車(chē)、小型電動(dòng)汽車(chē)、農業(yè)機械、叉車(chē)和大功率無(wú)人機等應用。EPC9186在每個(gè)開(kāi)關(guān)位置使用四個(gè)并聯(lián)的EPC2302,可提供高達200 Apk的最大輸出電流。EPC9186包含所有必要的關(guān)鍵功能電路
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Nexperia推出支持低壓和高壓應用的E-mode GAN FET

- 奈梅亨,2023年5月10日:基礎半導體器件領(lǐng)域的高產(chǎn)能生產(chǎn)專(zhuān)家Nexperia今天宣布推出首批支持低電壓(100/150 V)和高電壓(650 V)應用的E-mode(增強型)功率GaN FET。Nexperia在其級聯(lián)型氮化鎵產(chǎn)品系列上增加了七款新型E-mode器件,從GaN FET到其他硅基功率器件,Nexperia豐富的產(chǎn)品組合能為設計人員提供最佳的選擇。 Nexperia的新產(chǎn)品包括五款額定電壓為650 V的E-mode GaN FET(RDS(on)值介于80 mΩ至19
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深挖 GaN 潛力,中國企業(yè)別掉隊

- 氮化鎵(GaN)是一種寬禁帶半導體材料,其禁帶寬度達到 3.4eV,是最具代表性的第三代半導體材料。除了更寬的禁帶寬度,氮化鎵還具備更高的擊穿電場(chǎng)、更高的熱導率、更高的電子飽和速率,以及更優(yōu)的抗輻照能力,這些特性對于電力電子、射頻和光電子應用有獨特優(yōu)勢。GaN 產(chǎn)業(yè)上游主要包括襯底與外延片的制備,下游是 GaN 芯片元器件的設計和制造。襯底的選擇對于器件性能至關(guān)重要,襯底也占據了大部分成本,因而襯底制備是降低 GaN 器件成本的突破口。襯底GaN 單晶襯底以 2-4 英寸為主,4 英寸已實(shí)現商用,6 英寸
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氮化鎵 (GaN) 帶來(lái)電源管理變革的 3 大原因
- 作為提供不間斷連接的關(guān)鍵,許多數據中心依賴(lài)于日益流行的半導體技術(shù)來(lái)提高能效和功率密度。?氮化鎵技術(shù),通常稱(chēng)為 GaN,是一種寬帶隙半導體材料,越來(lái)越多地用于高電壓應用。這些應用需要具有更大功率密度、更高能效、更高開(kāi)關(guān)頻率、更出色熱管理和更小尺寸的電源。除了數據中心,這些應用還包括 HVAC 系統、通信電源、光伏逆變器和筆記本電腦充電電源。??了解 GaN 如何突破功率密度和效率界限? 德州儀器 GaN 產(chǎn)品線(xiàn)負責人 David Snook 表示:“氮化鎵是提高功率密
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高電壓技術(shù)是構建更可持續未來(lái)的關(guān)鍵
- 隨著(zhù)世界各地的電力消耗持續增長(cháng),高電壓技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng )新讓設計工程師能夠開(kāi)發(fā)出更高效的解決方案,使電氣化和可再生能源技術(shù)更易于使用。?“隨著(zhù)人均用電量的持續增長(cháng),可持續能源變得越來(lái)越重要,”TI 副總裁及高電壓產(chǎn)品部總經(jīng)理 Kannan Soundarapandian 表示?!耙载撠煹姆绞焦芾砟茉词褂梅浅V匾?。我們不能浪費任何一毫焦1的能量。這就是為什么高電壓技術(shù)的創(chuàng )新是實(shí)現能源可持續的關(guān)鍵?!?隨著(zhù)電力需求的增加(在 2 秒內將電動(dòng)汽車(chē) (EV) 從 0mph加速到 60mph?
- 關(guān)鍵字: 高電壓技術(shù) 電動(dòng)汽車(chē) GaN IGBT
GaN 出擊
- 自上世紀五十年代以來(lái),以硅材料為代表的第一代半導體材料取代了笨重的電子管引發(fā)了以集成電路為核心的微電子領(lǐng)域迅速發(fā)展。隨著(zhù)時(shí)間的流逝,盡管目前業(yè)內仍然以 Si 材料作為主流半導體材料,但第二代、第三代甚至是第四代半導體材料都紛沓而至。這其中又以第三代半導體材料——氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)受到大眾關(guān)注。近段時(shí)間,GaN 方面又有了新進(jìn)展。本土 GaN 企業(yè)快速發(fā)展3 月 2 日,英飛凌宣布收購氮化鎵公司 GaN Systems,交易總值 8.3 億美元(約 57.3 億人民幣)。根據公告,英飛凌計劃
- 關(guān)鍵字: GaN SiC
基于Navitas NV6115的150W電源解決方案

- 傳統的功率半導體被設計用來(lái)提升系統的效率以及減少能量損失??墒菍?shí)際上,出于兩個(gè)方面的原因-傳導和開(kāi)關(guān)切換,設備可能會(huì )出現能量損失。GaN FET為第三代功率半導體技術(shù),其改善開(kāi)關(guān)切換的延遲時(shí)間。納微(Navitas)半導體公司是世界上第一家的氮化鎵( GaN )功率芯片公司。所謂的氮化鎵功率芯片,其中 GaN 驅動(dòng)器、GaN FET 和 GaN 邏輯單元的單片集成,并全部采用 650V GaN 工藝,從而實(shí)現許多軟開(kāi)關(guān)拓撲和應用中的高速、高頻率、高效率操作。該方案采用NV6115 與 NV6117 氮化鎵
- 關(guān)鍵字: NAVITAS NV6115 NV6117 GAN
GaN 良率受限,難以取代 IGBT
- GaN 要快速擴散至各應用領(lǐng)域,仍有層層關(guān)卡待突破。
- 關(guān)鍵字: GaN
市場(chǎng)規模節節攀升,第三代半導體成收購的熱門(mén)賽道
- 以碳化硅與氮化鎵為代表的第三代半導體市場(chǎng)正如火如荼地發(fā)展著(zhù),而“圍墻”之外的企業(yè)亦對此賽道十分看重。近日,中瓷電子資產(chǎn)重組重新恢復審核,其對第三代半導體業(yè)務(wù)的開(kāi)拓有了新的進(jìn)展。3月6日,中瓷電子發(fā)布了《發(fā)行股份購買(mǎi)資產(chǎn)并募集配套資金暨關(guān)聯(lián)交易報告書(shū)(草案)(修訂稿)》。根據該修訂稿,中瓷電子擬以發(fā)行股份的方式,購買(mǎi)博威公司73.00%股權、氮化鎵通信基站射頻芯片業(yè)務(wù)資產(chǎn)及負債、國聯(lián)萬(wàn)眾94.6029%股權。事實(shí)上,除中瓷電子外,近來(lái)還有許多企業(yè)選擇以收購的方式,布局或擴大第三代半導體業(yè)務(wù)。2023年3月2
- 關(guān)鍵字: 第三代半導體 收購 SiC GaN
GaN 時(shí)代來(lái)了?
- 隨著(zhù)特斯拉宣布其下一代 EV 動(dòng)力總成系統的 SiC 組件使用量減少 75%,預計第三代化合物半導體市場(chǎng)狀況將發(fā)生變化,GaN 被認為會(huì )產(chǎn)生后續替代效應。據業(yè)內消息人士透露,這有望使臺積電、世界先進(jìn)半導體 (VIS) 和聯(lián)華電子受益,它們已經(jīng)進(jìn)行了早期部署,并繼續擴大其 8 英寸加工 GaN 器件的產(chǎn)能。GaN 和 SiC 的比較GaN 和 SiC 滿(mǎn)足市場(chǎng)上不同的功率需求。SiC 器件可提供高達 1200V 的電壓等級,并具備高載流能力,因此非常適合汽車(chē)和機車(chē)牽引逆變器、高功率太陽(yáng)能發(fā)電場(chǎng)和大型三相電網(wǎng)
- 關(guān)鍵字: GaN SiC
用于 GaN HEMT 的超快分立式短路保護

- 當今的行業(yè)需要緊湊且速度更快的電子電路,這些電路可以在高性能計算機、電動(dòng)汽車(chē)、數據中心和高功率電機驅動(dòng)等高功率應用中實(shí)施。實(shí)現這一壯舉的方法是提高電子設備的功率密度。硅基MOSFET具有較低的開(kāi)關(guān)速度和熱效率;因此,如果不增加尺寸并因此影響功率密度,它們就不能用于高功率應用。這就是基于氮化鎵 (GaN) 的高電子遷移率晶體管 (HEMT) 用于制造高功率密度電子產(chǎn)品的地方,適用于各行各業(yè)的不同應用。當今的行業(yè)需要緊湊且速度更快的電子電路,這些電路可以在高性能計算機、電動(dòng)汽車(chē)、數據中心和高功率電機驅動(dòng)等高功
- 關(guān)鍵字: GaN HEMT 短路保護
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歡迎您創(chuàng )建該詞條,闡述對gan hemt的理解,并與今后在此搜索gan hemt的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
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