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英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機？
- HIGH NA 無(wú)疑是打贏(yíng)下一場(chǎng)比賽的重要籌碼。
- 關(guān)鍵字： 英特爾 ASML HIGH NA光刻機
TSMC不會(huì )在2030年或更晚采用先進(jìn)的High-NA EUV芯片制造工具 ——英特爾本周剛剛收到了其第一臺：報告
- TSMC 不急于采用ASML的High-NA EUV進(jìn)行大規模生產(chǎn)。本周，英特爾開(kāi)始收到其第一臺ASML的0.55數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻工具，它將用于學(xué)習如何使用這項技術(shù)，然后在未來(lái)幾年內將這些機器用于18A后的生產(chǎn)節點(diǎn)。相比之下，據中國Renaissance和SemiAnalysis的分析師表示，TSMC并不急于在不久的將來(lái)采用High-NA EUV，該公司可能要在2030年或更晚才會(huì )加入這一陣營(yíng)?！芭c英特爾在轉向GAA（計劃在[20A]插入之后）后不久即開(kāi)始使用High-NA
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ASML兩款光刻機出口許可被撤銷(xiāo)
- 1月2日，全球光刻機龍頭ASML在官網(wǎng)發(fā)布聲明稱(chēng)，荷蘭政府最近撤銷(xiāo)了此前頒發(fā)給其2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證，這將對ASML在中國內地的個(gè)別客戶(hù)產(chǎn)生影響。在聲明中，ASML表示：“在新的出口管制條例下，今年（指2023年）年底前ASML仍能履行已簽訂的合同，發(fā)運這些光刻設備?？蛻?hù)也已知悉出口管制條例所帶來(lái)的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會(huì )獲得向中國客戶(hù)發(fā)運這些設備的出口許可證?！鳖A計此次出口許可證撤銷(xiāo)及最新的美國出口管制限制不會(huì )對公司2023
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機 DUV EUV
DUV光刻機出口許可被撤 ASML：中國訂單已全數交付
- 近日光刻機巨頭ASML發(fā)布公告稱(chēng)，去年2型DUV光刻機已獲準的出口許可證突然遭到撤銷(xiāo)，不過(guò)，中國大陸客戶(hù)預付購買(mǎi)DUV光刻機所積壓訂單基本都已完成交付。 據ASML指出，2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系統的出貨許可證突然被撤銷(xiāo)，不過(guò)這沒(méi)有太多可以擔心的地方，因為2023年ASML基本已交付了中國大陸客戶(hù)預付的DUV積壓訂單，至于2023年之后是否能繼續出口DUV光刻，在此之前本就無(wú)法確定?！犊炜萍肌穲髮дf(shuō)，事實(shí)上2023年ASML一直都在向中國客戶(hù)供應光刻機，其中就包含了NXT:20
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?ASML被禁止向中國運送其部分關(guān)鍵的芯片制造工具
- 半導體設備制造商ASML表示，荷蘭政府禁止其向中國出口部分工具。ASML表示，荷蘭政府最近部分撤銷(xiāo)了其N(xiāo)XT：2050i和NXT：2100i光刻系統在2023年裝運的許可證。在撤銷(xiāo)船舶許可證之前，美國政府在10月份加強了對中國先進(jìn)半導體和芯片制造工具的出口管制，并在此前的規定基礎上進(jìn)行了進(jìn)一步收緊。荷蘭公司ASML制造了制造世界上最先進(jìn)芯片所需的最重要機器之一。美國的芯片限制使包括ASML在內的公司爭先恐后地弄清楚這些規則在實(shí)踐中的含義。ASML公司該公司表示，荷蘭政府禁止其制造最先進(jìn)半導體的關(guān)鍵機器向中
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ASML聲明：2050、2100光刻機出口許可證被部分撤銷(xiāo)
- 1月2日消息，日前，荷蘭光刻機巨頭ASML在其官網(wǎng)發(fā)布聲明，稱(chēng)部分光刻機出口許可證被撤銷(xiāo)。根據聲明，荷蘭政府最近部分撤銷(xiāo)了2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系統的出貨許可證，影響了中國大陸的一小部分客戶(hù)。ASML預計，目前撤銷(xiāo)出口許可證或最新的美國出口管制限制不會(huì )對2023年財務(wù)前景產(chǎn)生重大影響。ASML還稱(chēng)，在最近與美國政府的討論中，ASML進(jìn)一步澄清了美國出口管制法規的范圍和影響。美國去年10月17日公布的出口管制新規，對用于一些先進(jìn)生產(chǎn)設施的某些次關(guān)鍵DUV浸沒(méi)光刻系統施加了限制。
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ASML 向英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備
- IT之家 12 月 22 日消息，ASML 公司近日通過(guò)官方 X（推特）賬號發(fā)布推文，宣布已經(jīng)向英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備。IT之家此前報道，ASML 研制的高數值孔徑光刻設備主要用于生產(chǎn) 2nm 工藝半導體芯片，數值孔徑（NA）光學(xué)性能從 0.33 提高到 0.55。ASML 明年規劃產(chǎn)能僅有 10 臺，而英特爾已經(jīng)預訂了其中 6 臺，不過(guò) ASML 計劃在未來(lái)幾年內將此設備產(chǎn)能提高到每年 20 臺。ASML 新的高數值孔徑 EUV 系統涉及一種全新的工具，具有 0.55 數值孔徑的鏡頭
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韓國總統到訪(fǎng)之際，ASML與三星達成7.52億美元的芯片廠(chǎng)協(xié)議
- 周二，荷蘭科技巨頭ASML和三星（Samsung）簽署了一項價(jià)值約7億歐元的協(xié)議，將在韓國建設一家半導體研究廠(chǎng)。與此同時(shí)，韓國總統尹錫悅（Yoon Suk Yeol）結束了這次以科技為重點(diǎn)的訪(fǎng)問(wèn)的第一天。尹錫悅是第一位到訪(fǎng)ASML高度安全的“無(wú)塵室”的外國領(lǐng)導人，這次到訪(fǎng)荷蘭的目的是在這兩個(gè)全球半導體大國之間結成“芯片聯(lián)盟”。他參觀(guān)了ASML的城市規模設施，該公司制造先進(jìn)的機器來(lái)制造半導體芯片，為從智能手機到汽車(chē)的一切提供動(dòng)力。ASML和三星后來(lái)同意“未來(lái)共同”投資該設施，該設施將“使用下一代EUV（極紫
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買(mǎi)不到7納米機臺又怎樣？ASML挺中國大陸：在1領(lǐng)域做到全球最強
- 美國祭出半導體禁令打壓中國大陸先進(jìn)制程發(fā)展，盡管買(mǎi)不到ASML用于先進(jìn)技術(shù)的7納米、3納米微影設備，但也激勵大陸加速發(fā)展成熟制程領(lǐng)域。ASML中國區總裁沈波表示，將協(xié)助中國的成熟制程做到全世界非常具有競爭力的水平，這是一個(gè)值得努力的方向。每日經(jīng)濟新聞報導，對于中國半導體未來(lái)該往哪個(gè)發(fā)展方向，沈波指出，ASML自己看來(lái)，先進(jìn)制程芯片從數量上講相對較小，絕大多數是成熟制程芯片，對于中國來(lái)講，這么大終端市場(chǎng)需求推動(dòng)下，把成熟制程芯片做到非常具有競爭力的水平，對咱們這個(gè)產(chǎn)業(yè)來(lái)講是最高效的，可以達到一個(gè)事半功倍的效
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繞開(kāi)ASML重振業(yè)績(jì) 日本尼康逆勢開(kāi)拓中國光刻機市場(chǎng)
- 日本尼康（Nikon）為了重振業(yè)績(jì)，將大幅轉變半導體光刻機業(yè)務(wù)的戰略。目前全球市占率排名第3的尼康將采用不違反對華出口管制的成熟技術(shù)設備，在2024年投放新產(chǎn)品，通過(guò)尋求逆勢開(kāi)拓中國市場(chǎng)，以實(shí)現卷土重來(lái)?！度战?jīng)中文網(wǎng)》報導說(shuō)，尼康預測2023財年（截至2024年3月）的合并凈利潤將同比減少22%，降至350億日元（約合臺幣72億元）。半導體設備相關(guān)的精密機械業(yè)務(wù)以及相機影像業(yè)務(wù)是2大支柱，其中高檔微單相機銷(xiāo)售強勁，但精密機械業(yè)務(wù)低迷影響獲利。報導說(shuō)，光刻機是半導體制造的核心，三菱UFJ摩根士丹利證券的調查
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佳能押注納米壓印技術(shù) 挑戰光刻機老大ASML
- 日本佳能一直在投資納米壓?。∟ano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術(shù)，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導體制造設備集群。計劃將新型芯片制造設備的價(jià)格定為阿斯麥極紫外光刻機的十分之一左右，從而在光刻機領(lǐng)域取得進(jìn)展。佳能首席執行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造設備售價(jià)將比阿斯麥（ASML）的極紫外光刻（EUV）設備少一位數，雖然最終的定價(jià)目前還沒(méi)有敲定，但是可以預見(jiàn)將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟出一條新的道路。
- 關(guān)鍵字： 佳能 納米壓印 光刻機 ASML 半導體
ASML Billy Tang：光源技術(shù)增強帶來(lái)的可持續性和可用性改進(jìn)
- 近日，在第七屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì )上，ASML Cymer的市場(chǎng)營(yíng)銷(xiāo)經(jīng)理Billy Tang，分享了光源技術(shù)增強帶來(lái)的可持續性和可用性改進(jìn)。Billy Tang表示，可持續性和可用性改進(jìn)是我們關(guān)注的核心，需要同時(shí)減少對環(huán)境的影響，提高光源的效率和整體性能，本次討論提供自動(dòng)數據分析和性能調優(yōu)（ADAPT）的軟件。ADAPT這個(gè)命名是關(guān)于自動(dòng)數據分析和表單調優(yōu)的，這是一個(gè)人工智能驅動(dòng)的產(chǎn)品。Cymer承諾到2040年實(shí)現產(chǎn)品使用的凈零溫室氣體排放2013年，Cymer成為ASML的子公司，Cymer是世界領(lǐng)
- 關(guān)鍵字： ASML ADAPT
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