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Applied Materials宣布開(kāi)發(fā)出深寬比高達30：1的化學(xué)氣相淀積技術(shù)
- Applied Materials公司近日宣布開(kāi)發(fā)出了一種新的化學(xué)氣相淀積(CVD)技術(shù)，這種技術(shù)能為20nm及更高等級制程的存儲/邏輯電路用晶體管淀積高質(zhì)量的 隔離層結構。據Applied Materials公司宣稱(chēng)，這些隔離結構的深寬比可超過(guò)30：1，比目前工藝對隔離結構的要求高出5倍左右。 這項技術(shù)使用了Applied Materials公司名為Eterna流動(dòng)式化學(xué)氣相沉積系統(Flowable CVD:FCVD)的技術(shù)專(zhuān)利，淀積層材料可以在液體形態(tài)下自由流動(dòng)到需要填充的各種形狀的結構中
- 關(guān)鍵字： 應用材料 CVD 20nm
應用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機
- 應用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機－ Applied Producer GT 近日，應用材料公司宣布推出業(yè)界最快速最經(jīng)濟的CVD（化學(xué)氣相沉積）主機 － Applied Producer® GT™，把硅片生產(chǎn)能力提升到了一個(gè)新的水平。該產(chǎn)品每小時(shí)可處理150片硅片，產(chǎn)量達到其他競爭系統的兩倍，從而降低了30%的擁有成本，并將單位面積每小時(shí)硅片處理數量提高了50%。Producer GT全面支持所有應
- 關(guān)鍵字： CVD 單片機 工業(yè)控制 工藝主機 嵌入式系統 應用材料公司 工業(yè)控制
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