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應用材料公司
應用材料公司 文章 進(jìn)入應用材料公司技術(shù)社區
應用材料公司發(fā)布2019財年第三季度財務(wù)報告
- ? 第三季度收入35.6億美元 ? GAAP每股盈余為0.61美元，非GAAP每股盈余為0.74美元 ? 向股東返還7.24億美元
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Applied NokotaTM電化學(xué)沉積系統助力先進(jìn)芯片封裝
- 作者 王宇 應用材料公司日前宣布，面向晶圓級封裝(WLP)產(chǎn)業(yè)推出Applied Nokota?電化學(xué)沉積(Electrochemical Deposition, ECD)系統，憑借優(yōu)秀的電化學(xué)沉積性能、可靠性、晶圓保護能力、可擴展性，以及生產(chǎn)力，提供先進(jìn)封裝技術(shù)。在該系統的助力下，芯片制造商、外包裝配和測試(OSAT)企業(yè)將可通過(guò)低成本、高效率的方式使用不同的晶圓級封裝工藝，包括凸塊/柱狀、扇出、硅通孔(TSV)等等，滿(mǎn)足日益增多的移動(dòng)和高性能計算應用需求?！ ∠噍^于傳統封裝方案，全新晶圓級封裝系統可
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應用材料公司推出先進(jìn)的化學(xué)氣相沉積薄膜技術(shù)
- 2012年3月20日，上?！裉?，應用材料公司宣布推出全新等離子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）薄膜技術(shù)，用于制造適用于...
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應用材料公司推出等離子體強化化學(xué)氣相沉積系統
- 近日，應用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等離子體強化化學(xué)氣相沉積) 系統，它能實(shí)現在45納米及更小技術(shù)節點(diǎn)的器件上生產(chǎn)速度更快的晶體管所需要達到的應力水平，是應力工程技術(shù)(Strained engineering technology) 的一個(gè)巨大進(jìn)步。該系統結合應用材料的Nanocure™ UV（紫外線(xiàn)）處理技術(shù)以及改進(jìn)型氮化物沉積反應腔，把薄膜張力提高了超過(guò)30%，達到了業(yè)界領(lǐng)先的1.7GPa等級，并可擴展至超過(guò)2.
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應用材料公司推出關(guān)鍵性45納米光掩膜刻蝕技術(shù)設備
- 近日，應用材料公司宣布推出先進(jìn)的Applied Centura® TetraTMIII掩膜刻蝕設備，它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關(guān)重要的納米制造技術(shù)系統。Tetra III通過(guò)控制石英掩膜把刻槽深度控制在10 Å以?xún)?，同時(shí)把臨界尺寸損失減小到10nm以下，使客戶(hù)可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強有力的光學(xué)臨近修正技術(shù)。該系統為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術(shù)應用提供無(wú)差錯、高產(chǎn)能的刻蝕工藝。 應用材料公司資深副總裁，刻蝕、清潔、前道
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應用材料公司推出先進(jìn)的化學(xué)機械研磨拋光墊技術(shù)
- 近日，應用材料公司宣布為200mm CMP（化學(xué)機械研磨）系統推出創(chuàng )新的Applied DuraPad CMP（化學(xué)機械研磨）拋光墊技術(shù) 。DuraPad的使用壽命比現有的研磨墊至少延長(cháng)了30%，有效地增加了機臺的有效使用時(shí)間，替客戶(hù)節約了可觀(guān)的擁有成本。在DuraPad制造過(guò)程中采用先進(jìn)的six-sigma 制造技術(shù)保證了研磨墊不同批次之間性能的一致性，從而確保獲得良好的CMP研磨效果。 應用材料公司全球服務(wù)部總經(jīng)理兼資深副總裁Manfred
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應用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機
- 應用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機－ Applied Producer GT 近日，應用材料公司宣布推出業(yè)界最快速最經(jīng)濟的CVD（化學(xué)氣相沉積）主機 － Applied Producer® GT™，把硅片生產(chǎn)能力提升到了一個(gè)新的水平。該產(chǎn)品每小時(shí)可處理150片硅片，產(chǎn)量達到其他競爭系統的兩倍，從而降低了30%的擁有成本，并將單位面積每小時(shí)硅片處理數量提高了50%。Producer GT全面支持所有應
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應用材料公司介紹
您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條應用材料公司!
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對應用材料公司的理解，并與今后在此搜索應用材料公司的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
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