應用材料公司推出先進(jìn)的化學(xué)氣相沉積薄膜技術(shù)

2012年3月20日，上?！裉?，應用材料公司宣布推出全新等離子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）薄膜技術(shù)，用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自應用材料公司業(yè)界領(lǐng)先的AKT-PECVD系統的先進(jìn)絕緣薄膜，使得基于金屬氧化物的晶體管的應用成為可能，制造出尺寸更小、開(kāi)關(guān)速度更快的像素，從而幫助客戶(hù)推出更受消費者歡迎的高分辨率顯示屏。

應用材料公司的全新PECVD設備沉積絕緣介電薄膜，為金屬氧化物晶體管提供了一個(gè)良好的層間界面，從而最大限度地減少了氫雜質(zhì)，提高了晶體管的穩定性，實(shí)現了顯示屏的優(yōu)化性能。這些高質(zhì)量的二氧化硅（SiO2）薄膜可通過(guò)AKT-PECVD系統高度均勻地沉積到尺寸達9平方米的玻璃基板上，此工藝性能對于面板制造客戶(hù)獲得高產(chǎn)品良率和低制造成本至關(guān)重要。

“顯示屏制造企業(yè)正在積極投資金屬氧化物晶體管技術(shù)，我們先進(jìn)的PECVD系統提供的薄膜技術(shù)可以解決這些復雜介質(zhì)薄膜的均勻性和穩定性問(wèn)題，消除了這一重要新技術(shù)應用的主要障礙?！睉貌牧瞎炯瘓F副總裁兼AKT顯示事業(yè)部總經(jīng)理Tom Edman表示，“通過(guò)在我們世界一流的AKT-PECVD系統上增添金屬氧化物介質(zhì)薄膜沉積功能，應用材料公司為客戶(hù)提供了一個(gè)經(jīng)濟有效的途徑，幫助將這一新技術(shù)推向市場(chǎng)。在我們的系統上使用了這些新薄膜技術(shù)的客戶(hù)，已經(jīng)取得了很好的成果。目前，各大顯示屏制造企業(yè)對新系統以及系統升級的需求非常強勁?！?/FONT>

除了全新推出的PECVD薄膜之外，應用材料公司目前還在開(kāi)發(fā)用于金屬氧化物制造的先進(jìn)物理氣相沉積（PVD）解決方案，包括銦鎵鋅氧化物（IGZO）沉積。應用材料公司借助其最新的旋轉式陰極陣列技術(shù)，實(shí)現高度均勻、各向同質(zhì)和低缺陷的半導體薄膜的沉積，相比現有的PVD解決方案，具有更高的生產(chǎn)效率和更低的原料消耗成本。