專(zhuān)利申請質(zhì)量提升 IC業(yè)走向投資技術(shù)密集新階段

　　編者按：集成電路是信息產(chǎn)業(yè)的核心技術(shù)，也是我國立足自主創(chuàng )新實(shí)現突破的關(guān)鍵領(lǐng)域，政府一直給予高度重視?！秶抑虚L(cháng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規劃綱要》確定了核心電子器件、高端通用芯片及基礎軟件產(chǎn)品、超大規模集成電路制造技術(shù)及成套工藝等國家科技重大專(zhuān)項，并將知識產(chǎn)權分析作為專(zhuān)項的重要組成部分。鑒于知識產(chǎn)權對技術(shù)創(chuàng )新的推動(dòng)和促進(jìn)作用，中國半導體行業(yè)協(xié)會(huì )知識產(chǎn)權工作部和上海硅知識產(chǎn)權交易中心聯(lián)合推出了中國半導體知識產(chǎn)權2008-2009年度報告。報告顯示，截至2008年12月31日，我國集成電路相關(guān)的專(zhuān)利申請共計90353件。其中，設計類(lèi)的專(zhuān)利申請共計46459件，制造類(lèi)的專(zhuān)利申請共計36119件，封裝和測試類(lèi)(以下簡(jiǎn)稱(chēng)封測類(lèi))的專(zhuān)利申請共計7775件。本期刊登部分報告節選，以期有助于國內開(kāi)展相關(guān)工作時(shí)參考。

　　設計類(lèi)專(zhuān)利申請大陸企業(yè)比重大

　　經(jīng)檢索，2008年公開(kāi)的我國設計類(lèi)專(zhuān)利申請共計14866件。從宏觀(guān)統計分析專(zhuān)利申請量歷年的變化來(lái)看，從1995年至2001年，全國集成電路設計類(lèi)專(zhuān)利申請量逐年穩步上升，2002年之后出現快速增長(cháng)的態(tài)勢。

　　需要特別指出的是，2007年至2008年的曲線(xiàn)下降可能是因為中國專(zhuān)利的公開(kāi)延遲審查，所以不能作為專(zhuān)利申請趨勢的判定依據。

　　從我國IC設計類(lèi)專(zhuān)利申請的國家和地區分布可知，中國大陸企業(yè)的申請數量居首，為9665件，約占該類(lèi)專(zhuān)利申請總量的65%。美國和日本企業(yè)緊隨其后，排名第二和第三位，分別為1376件和1364件，約占該類(lèi)專(zhuān)利申請總量的9%。另外，中國臺灣企業(yè)為995件，排名第四。

　　中國大陸2008年的專(zhuān)利申請占該年總量的一半以上。由此可知，大陸企業(yè)近年來(lái)在設計領(lǐng)域的創(chuàng )新點(diǎn)較多，申請比例有了一定的提高。然而，美國、日本、韓國、歐洲等國家和地區仍占據著(zhù)中國專(zhuān)利申請的一定份額，不可小覷。

　　從國內外集成電路設計類(lèi)專(zhuān)利類(lèi)型對比可知，盡管中國大陸申請人在專(zhuān)利數量上擁有一定優(yōu)勢，但通過(guò)比較發(fā)明專(zhuān)利和實(shí)用新型專(zhuān)利數量可以看到，國外及我國港澳臺權利人申請了4912件發(fā)明專(zhuān)利，實(shí)用新型專(zhuān)利僅有255件，發(fā)明專(zhuān)利所占比例達到95%以上。相反，中國大陸申請人的發(fā)明專(zhuān)利與實(shí)用新型專(zhuān)利之比接近1.2∶1，說(shuō)明在該領(lǐng)域中國大陸申請人需要提高專(zhuān)利申請質(zhì)量，而不能僅滿(mǎn)足于專(zhuān)利數量上的領(lǐng)先。

　　制造類(lèi)專(zhuān)利申請地域性差異大

　　按照國內申請人所屬省區市統計，2008年制造類(lèi)專(zhuān)利申請數量位居前三位的分別為上海、北京和江蘇。從宏觀(guān)角度來(lái)看，來(lái)自長(cháng)三角地區的專(zhuān)利申請數量遠高于其他省區市，說(shuō)明上海在集成電路制造領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢十分明顯。

　　2008年，全國各省區市的國內申請分布與往年總量分布相比基本一致。IC制造領(lǐng)域國內申請的分布格局較為固定。長(cháng)三角作為中國重要的集成電路產(chǎn)業(yè)基地，正在不斷拉開(kāi)與國內其他省區市的差距。除北京為522件之外，其他省區市的申請數量都小于300件，且差距不大。