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EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 助力晶圓生產(chǎn)工藝改進(jìn),海洋光學(xué)參加2022中國半導體設備年會(huì )

助力晶圓生產(chǎn)工藝改進(jìn),海洋光學(xué)參加2022中國半導體設備年會(huì )

作者: 時(shí)間:2022-10-25 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

中國上海,2022年10月25日 —— 世界領(lǐng)先的光學(xué)解決方案提供商(Ocean Insight)將參加于10月27日~29日在無(wú)錫太湖國際博覽中心召開(kāi)的第十屆(2022)中國半導體設備年會(huì )暨半導體設備與核心部件展示會(huì )(CSEAC)。展位號B3-117,攜最新改善半導體制造工藝的光譜解決方案參展?!澳坌竞狭?,發(fā)展芯設備”是這次大會(huì )的主題,產(chǎn)業(yè)升級是國家的大方向,中國半導體產(chǎn)業(yè)正在加速前進(jìn),利用自己在光譜技術(shù)領(lǐng)域的多年積累,解決創(chuàng )新過(guò)程中遇到的問(wèn)題,與產(chǎn)業(yè)伙伴合力推進(jìn)創(chuàng )新發(fā)展。

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202210/439537.htm

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光纖光譜儀因其快速、無(wú)損、原位測量的特點(diǎn),在半導體行業(yè)廣受青睞。作為世界上第一臺微型光纖光譜儀的發(fā)明者,海洋光學(xué)多年來(lái)在半導體領(lǐng)域也積累了豐富的經(jīng)驗,其光學(xué)解決方案用于芯片制造的刻蝕終點(diǎn)監測、透明/半透膜膜厚檢測、橢偏檢測等。

海洋光學(xué)光譜儀產(chǎn)品不斷推陳出新,為客戶(hù)提供品類(lèi)多樣的、更豐富好用的工具幫助創(chuàng )新。海洋光學(xué)中國區銷(xiāo)售總裁孫玲博士稱(chēng):“光譜儀是一個(gè)核心器件,海洋光學(xué)就是光譜界的‘樂(lè )高’。我們把自己定義為科學(xué)儀器創(chuàng )新的奠基者,我們給客戶(hù)一個(gè)包羅萬(wàn)象的工具箱,為客戶(hù)提供做出創(chuàng )新儀器的全套工具模塊,客戶(hù)用這個(gè)工具箱可以在半導體等領(lǐng)域進(jìn)行自己的開(kāi)發(fā),實(shí)現自己的創(chuàng )新理念?!?/span>

蝕刻終點(diǎn)監測:等離子體檢測系統

在半導體行業(yè) , 晶圓是用光刻技術(shù)制造和操作的。其中蝕刻是主要環(huán)節,當在晶圓表面蝕刻時(shí),可使用等離子體監測跟蹤蝕刻穿過(guò)晶圓層的程度,確定等離子體何時(shí)完全蝕刻特定層并到達下一層。通過(guò)監測在蝕刻期間由等離子體產(chǎn)生的發(fā)射光譜,可準確追蹤蝕刻過(guò)程。這種終點(diǎn)檢測對于使用基于等離子體的蝕刻工藝的半導體材料生產(chǎn)至關(guān)重要。

等離子體監測可以通過(guò)靈活的模塊化設置完成,基于Ocean HDX光譜儀的模塊化光譜設置用于監測引入不同氣體和納米顆粒后氬等離子體發(fā)射光譜的變化。測量在封閉的反應室中進(jìn)行,使用光纖和余弦校正器耦合到光譜儀,通過(guò)反應腔體中的小窗口進(jìn)行觀(guān)察。測量結果表明模塊化光譜組件可實(shí)時(shí)獲取等離子體發(fā)射光譜。通過(guò)發(fā)射光譜確定的等離子體特性可用于監測和控制基于等離子體的反應過(guò)程。

Ocean HDX采用高清晰度光學(xué)系統,具有高通量和高熱穩定性的特點(diǎn),支持多種通訊模式,如USB、千兆以太網(wǎng)、Wi-Fi、AP Wi-Fi和RS-232。內置板載緩存數據處理模塊,提高數據分析速度,保證數據完整。

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模塊化光譜儀配置可用作QC工具或集成到生產(chǎn)線(xiàn)中

膜厚檢測:晶圓膜厚測量系統

半導體集成電路的生產(chǎn)以數十次至數百次的鍍膜、光刻、蝕刻、去膜、平坦等為主要工序,膜層的厚度、均勻性等直接影響芯片的質(zhì)量和產(chǎn)量,在加工中必須不斷地檢測以便控制膜層的厚度。光學(xué)薄膜測厚儀是半導體生產(chǎn)流程中必不可少的設備之一,用于對芯片晶圓及相關(guān)半導體材料的鍍膜厚度等進(jìn)行檢測。

海洋光學(xué)膜厚測量系統,配置有采樣平臺、反射探頭等,基于光波的干涉現象,光束照射在薄膜表面,由于入射介質(zhì)、薄膜材料和基底材料具有不同的折射率值和消光系數值,使得光束在透明/半透明薄膜的上下表面發(fā)生反射,反射光波相互干涉,從而形成干涉光,這些干涉光在不同相位處的強度將隨著(zhù)薄膜的厚度發(fā)生變化。通過(guò)對干涉光的檢測,結合適當的光學(xué)模型即可計算得到薄膜的厚度。

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晶圓膜厚測量系統配置

QE Pro是一種高靈敏度性能出色的光譜儀,適合低光度應用。 QE Pro薄型背照式CCD探測器具有較高的量子效率,其穩健的設計使其具有很高的信噪比性能和穩定性??赏ㄟ^(guò)選擇內部快門(mén),優(yōu)化對暗噪聲的測量。

解決問(wèn)題是海洋光學(xué)的使命。海洋光學(xué)創(chuàng )始人Mike Morris說(shuō),“我們是問(wèn)題解決者;沒(méi)有問(wèn)題需要解決,就沒(méi)有海洋光學(xué)?!?

孫玲博士對此深有感觸:“在一些新的應用領(lǐng)域,總有不盡人意的地方,這時(shí)候就需要做出新產(chǎn)品,要求我們的工具不斷提升精度、提升強度,改進(jìn)溫度一致性、臺間差、一致性等等。這些都是海洋光學(xué)最擅長(cháng)的,因為我們30年專(zhuān)注于光譜領(lǐng)域進(jìn)行耕耘,有了牢靠的基礎和積累,我們打造出來(lái)的工具就是用來(lái)解決實(shí)際問(wèn)題的?!?/span>




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