Atonarp Aston Impact 計量平臺開(kāi)始向韓國半導體 FAB 批量出貨

Atonarp，半導體工藝控制原位實(shí)時(shí)高靈敏度計量領(lǐng)域的領(lǐng)頭企業(yè)，在全球范圍內正式發(fā)布并銷(xiāo)售其 Aston 平臺。這是 Atonarp 公司全球發(fā)展進(jìn)程中的一座重要里程碑。

Aston 是一款緊湊型質(zhì)譜儀，可提供準確、實(shí)時(shí)的工藝化學(xué)數據，其分子濃度測量靈敏度可達十億分之一。這些數據能讓半導體制造 FAB 實(shí)現高效運行，從而提高產(chǎn)量和吞吐量，為 FAB 運營(yíng)商帶來(lái)巨大的經(jīng)濟利益。

隨著(zhù)這一消息的宣布，Atonarp 正向韓國和美國的領(lǐng)先半導體 FAB 和設備制造商交付了 Aston Impact。此外，Atonarp 還向客戶(hù)交付數十臺 Aston ，供客戶(hù)在其先進(jìn)工藝中進(jìn)行評估，以?xún)?yōu)化其工藝和制造效率。

Atonarp 公司產(chǎn)品營(yíng)銷(xiāo)副總裁 Martin Mason 說(shuō)：“在分子水平上快速檢測、量化并提供可操作的工藝控制數據的能力，對于先進(jìn)半導體制造工藝來(lái)說(shuō)意義重大。對于一個(gè)典型的 FAB 來(lái)說(shuō)，即使吞吐量只增加百分之一，每年也能增加數千萬(wàn)美元的產(chǎn)量。Aston 十分清楚其潛力，在這其中，速度和靈敏度對分子水平的工藝控制效率來(lái)說(shuō)十分重要?！?/p>

計量是半導體制造的一個(gè)重要部分，在生產(chǎn)設備內測量多種氣體的濃度，可以確保滿(mǎn)足工藝余量，同時(shí)盡量減少浪費。以前的解決方案依賴(lài)于光發(fā)射光譜測量和殘余氣體分析儀，但這些傳統方法已不能滿(mǎn)足當今先進(jìn)存儲器和邏輯工藝所需的速度和靈敏度。相反，Aston 使用創(chuàng )新質(zhì)譜技術(shù)，采用同類(lèi)最佳傳感器，可提供快速的結果和出色的靈敏度，以及抵抗腐蝕性氣體和冷凝物所需的堅固性。

 Aston 為先進(jìn)半導體應用提供可操作數據，如原子水平沉積 (ALD) 和 sub-fab 操作等。Aston 靈敏度低于十億分之平方根赫茲 (9ppb√Hz)，比競爭對手的解決方案高十倍，且不影響收集數據的速度。

Atonarp 正積極開(kāi)展合作，為半導體領(lǐng)域的新應用以及需要實(shí)時(shí)、敏感氣體分析的應用（如石油和天然氣以及凍干法工藝控制）開(kāi)發(fā) Aston 平臺。

Aston 已取得多項認證和資格，包括 EN55032（歐盟）、EN55035（歐盟）、FCC part 15（美國）、ICES-003（加拿大）、VCCI CISPR-32（日本）、BSMI（中國臺灣）、KC EMC（韓國）的 EMI/EMC 標準。憑借這些認證，Aston 現已面向全球客戶(hù)批量發(fā)貨。

  Atonarp 與韓國 ATI 公司合作，為該地區客戶(hù)提供蝕刻、CVD、空間 ALD 和 Sub-fab 應用的綜合解決方案。