傳Intel Xe獨顯已亮機測試：14nm工藝 可戰GTX 1050

在周五的財報會(huì )議上，Intel首次了透露了旗下高性能Xe獨顯的進(jìn)度， CEO司睿博宣布DG1 GPU達成了一個(gè)重要里程碑。

與此同時(shí)，從AMD跳槽到Intel的圖形及視覺(jué)技術(shù)市場(chǎng)總監Chris Hook也發(fā)了一條推——It's alive，直譯起來(lái)意思是“它還活著(zhù)”，但是這條推文實(shí)際上應該是暗示Intel的Xe GPU已經(jīng)點(diǎn)亮測試了。

此前Intel高級副總Raja Koduri暗示明年6月份的臺北電腦展上會(huì )發(fā)布Xe獨顯，但后面又有消息說(shuō)還是2020年下半年發(fā)布，只不過(guò)明年何時(shí)發(fā)布，現在這個(gè)時(shí)間點(diǎn)都應該是流片驗證了，因為大型芯片流片驗證到發(fā)布通常需要一年左右的時(shí)間，Chris Hook的alive暗示DG1獨顯已經(jīng)進(jìn)入測試階段了。

根據之前的爆料，Intel的DG1獨顯將基于Xe架構，不過(guò)這是一款LP低功耗方向的顯卡，搭配GDDR6顯存，定位在GTX 1050級別的，后者是NVIDIA Pascal架構的中低端顯卡，浮點(diǎn)性能1.9TFLOPS左右。

考慮到Intel目前的Gen11核顯的浮點(diǎn)性能已經(jīng)達到了1TFLOPS以上，Xe架構會(huì )更先進(jìn)一代，之前說(shuō)是核顯級的Gen12（也是Xe架構）性能再次翻倍，所以DG1達到2TFLOPS級別的性能應該沒(méi)壓力。

不過(guò)DG1獨顯的工藝可能有點(diǎn)特殊，爆料顯示是14nm工藝，而Intel之前的暗示都是說(shuō)Xe獨顯使用10nm工藝的。

話(huà)說(shuō)回來(lái)，DG1如果是定位在入門(mén)級獨顯市場(chǎng)，那么使用成熟、低成本而且高性能的14nm工藝實(shí)際上更合適，所以不排除Intel在Xe獨顯上使用14nm工藝作為中低端GPU的生產(chǎn)工藝。

當然，2021年的時(shí)候Intel還會(huì )生產(chǎn)7nm工藝的Xe顯卡，不過(guò)這是給數據中心準備的高性能GPU，這樣一來(lái)Intel的Xe顯卡就集齊14mm、10nm、7nm三種工藝了。