安森美推出High-Q IPD工藝設計套件

　　應用于高能效電子產(chǎn)品的首要高性能硅方案供應商安森美半導體(ON Semiconductor，美國納斯達克上市代號：ONNN)宣布提供針對公司High-Q 集成無(wú)源器件(IPD)工藝的完整從前到后工序工藝設計套件(PDK)。這PDK開(kāi)發(fā)是為了配合安捷倫科技的先進(jìn)設計系統(ADS) 2011電子設計輔助(EDA)軟件一起使用，使安森美半導體及安捷倫科技的客戶(hù)能夠充分利用業(yè)界最全面射頻(RF)及微波設計平臺的優(yōu)勢。

　　安森美半導體的High-Q  IPD工藝技術(shù)提供高電阻率硅銅(copper on high resistivity silicon)平臺，非常適合用于生產(chǎn)無(wú)源器件，如用于便攜、無(wú)線(xiàn)及射頻應用的平衡-不平衡轉換器、濾波器、耦合器、雙工器及匹配網(wǎng)絡(luò )。IPD技術(shù)用于安森美半導體在美國俄勒岡州Gresham的世界一流200 mm晶圓制造廠(chǎng)制造銅電感、精密電容及精密電阻。IPD為射頻系統級封裝提供高性?xún)r(jià)比方案。安森美半導體還為工程原型開(kāi)發(fā)提供經(jīng)濟合算的晶圓廠(chǎng)往返服務(wù)。此外，安森美半導體還提供多種應用定制規格的設計服務(wù)。

　　安森美半導體定制晶圓代工及IPD分部高級總監Rick Whitcomb說(shuō)：“IPD工藝在射頻應用極受垂青，我們看到客戶(hù)極想要這工藝擴展至配合安捷倫的ADS平臺。我們?yōu)榭蛻?hù)提供包括布線(xiàn)和集成EM支援在內的完整ADS設計套件，他們便能利用安捷倫在射頻及微波設計領(lǐng)域經(jīng)證明的專(zhuān)知之優(yōu)勢。”

　　為客戶(hù)提供的全功能ADS設計套件可用于布線(xiàn)、仿真及驗證，支持電路圖驅使型布線(xiàn)生成、布線(xiàn)與電路圖對比檢驗、集成3D平面電磁及3D-FEM仿真器。

　　安捷倫科技EEsof EDA晶圓制造項目經(jīng)理Juergen Hartung說(shuō)：“ADS與IPD工藝完美匹配，ADS與安森美半導體IPD設計套件的組合使相互的客戶(hù)能夠獲得高效的集成設計平臺。ADS不僅為IPD裸片本身提供完整的從前到后工序應用平臺，還直接能設計出包含IPD的完整射頻模塊。”