Cymer發(fā)布EUV光源技術(shù)路線(xiàn)圖
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光源對于光刻機的重要性不言而喻，沒(méi)有光源的匹配，一切圖形成像都無(wú)從談起。從1986年開(kāi)始，Cymer正式進(jìn)入半導體產(chǎn)業(yè)，目前已有超過(guò)3500套光源安裝在世界各地的光刻設備上。Cymer所占的市場(chǎng)份額已近70%，儼然已成為世界光源制造領(lǐng)域的領(lǐng)頭羊。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/115316.htm“平板電腦和智能手機等新應用激發(fā)起了市場(chǎng)的熱情，兩者的年增長(cháng)率分別有望超過(guò)50%和28%。這股市場(chǎng)熱潮極有可能延續至2014年，同樣也將驅使半導體新片制造繼續快速增長(cháng)。”Cymer市場(chǎng)及光刻應用副總裁Nigel Farrar表示，“Logic和Foundry將會(huì )繼續為32/28nm擴大產(chǎn)能，65/45nm產(chǎn)品依然會(huì )保持現有的需求。但是我們也看到，由于新技術(shù)的成本高，第一梯隊與第二梯隊之間的距離正在進(jìn)一步拉大。”
DUV依然是目前絕大多數新片制造商所采用的光刻設備，Cymer除已有的優(yōu)勢外，還為雙重掩膜應用開(kāi)發(fā)了60-90W可調節的power管理產(chǎn)品XLR 600i，以及可根據曝光要求而調節的30-50W光源 7010。
“對于新片制造商來(lái)說(shuō)，提高生產(chǎn)力、降低成本是永恒的追求。在光源系統中，激光的產(chǎn)生是依靠氣體激發(fā)進(jìn)行的。而氣體做為耗材，在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中需要不斷補充，由此產(chǎn)生的停機維護時(shí)間是不小的浪費。針對這一問(wèn)題，Cymer研發(fā)了iGLX產(chǎn)品，它可進(jìn)行自動(dòng)的氣體供給優(yōu)化，不再需要人工進(jìn)行氣體補充，從而提高了設備的生產(chǎn)能力。”Nigel Farrar說(shuō)。
每當人們談及EUV的挑戰時(shí)，光源功率總是逃不開(kāi)的話(huà)題。根據Cymer的技術(shù)發(fā)展路線(xiàn)圖，在2011年量產(chǎn)的第一階段，Cymer提供的EUV光源功率將>100W;第二階段為2011-2013，功率將>250W;到了第三階段，即2013-2016年，功率將大于350W。最近，Cymer已向ASML出貨了第三套3100EUV光源。與此同時(shí)，2010年Q4第一套EUV3100光源已安裝于一家存儲器制造商的生產(chǎn)線(xiàn)上。EUV的發(fā)展一路上伴隨著(zhù)的是爭議和高研發(fā)成本，Nigel Farrar對EUV的未來(lái)應用表示非常樂(lè )觀(guān)，并會(huì )繼續EUV的研發(fā)投入，在2011年會(huì )實(shí)現LPP EUV光源的商品化。
HVMⅠ HVMⅡ HVMⅢ
Driver Laser Power (kW) 25 35 37
In-band CE(%) 3 3.5 4
Collection Efficiency (sr) 5 5.5 5.5
Collector Reflectivity (%) 50 50 50
Clean EUV Power (W) >100 >250 >350
Cymer EUV Source Power Roadmap
早在2005年，Cymer即開(kāi)始投入FPD和LED領(lǐng)域。有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)的大規模量產(chǎn)在很大程度上是因為缺乏低成本的低溫多晶硅制程而有所延宕，Cymer的TCZ細光束結晶激光回火工具填補了這項空隙。“Cymer公司的光源一直用于產(chǎn)生更小的集成電路圖形，但是利用 Cymer公司在市場(chǎng)上領(lǐng)先的準分子光源技術(shù)，可制造出適用于低溫多晶硅(LTPS)的細光束結晶激光設備。不僅提升了OLED制造的產(chǎn)量與質(zhì)量、節省了費用，同事也拓展了Cymer的技術(shù)應用領(lǐng)域。”據悉， Cymer的第二套TCZ Gen 4設備已安裝在一位亞洲客戶(hù)生產(chǎn)線(xiàn)。
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