尼康NA超過(guò)1的液浸設備半導體商正式采用

　尼康日前正式宣布，2006年1月已向大型半導體廠(chǎng)商供應用于55nm工藝（hp55）芯片制造、開(kāi)口數（NA）為1.07的液浸ArF曝光設備“NSR-S609B”。這是全球首次供應NA超過(guò)1的液浸ArF曝光設備。 

　　這家大型半導體廠(chǎng)商的名字，尼康沒(méi)有公布，估計是過(guò)去在技術(shù)方面與之開(kāi)展合作的東芝。 

　　作為全折射型液浸曝光設備，NSR-S609B具有全球最大的NA，配合偏光照明技術(shù)，能夠實(shí)現很高的分辨率。對于液浸產(chǎn)生的缺陷和重合不穩定性的問(wèn)題，據稱(chēng)利用名為“Local-fill（局部液浸）”的自主技術(shù)已經(jīng)得到解決。另外，還利用“Random Stage”技術(shù)提高了吞吐量。 

　　該設備原計劃2005年底至2006年初開(kāi)始供貨，因此看來(lái)開(kāi)發(fā)工作基本上是按計劃進(jìn)行的。所供應的設備正在安裝調試。而荷蘭ASML則計劃2006年第2季度供應NA1.2的曝光設備，可以想象競爭將會(huì )非常激烈。