美國再次放寬對華高技術(shù)產(chǎn)品出口 65nm以下刻蝕設備不再受限
在SEMI及會(huì )員公司的共同努力下,經(jīng)過(guò)9個(gè)月的等待,美國聯(lián)邦政府正式實(shí)施放寬刻蝕設備的出口條件,原來(lái)180nm的技術(shù)審核指標被正式放寬到了65nma。
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在SEMI及會(huì )員公司的共同努力下,經(jīng)過(guò)9個(gè)月的等待,美國聯(lián)邦政府正式實(shí)施放寬刻蝕設備的出口條件,原來(lái)180nm的技術(shù)審核指標被正式放寬到了65nma。
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