荷蘭從美國收回兩款ASML光刻機的出口管制權
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9月6日，荷蘭政府今天發(fā)布了關(guān)于兩款浸沒(méi)式 DUV（深紫外光） 光刻機出口的最新許可要求，該規定將于9月7日正式生效。
根據更新后的許可要求，并根據美國出口管理條例 734.4.(a).(3)，ASML后續需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可，才能出貨其 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i DUV 浸沒(méi)式光刻系統。此前，荷蘭的出口管制許可要求已適用于 TWINSCAN NXT:2000i 及后續 DUV 浸沒(méi)式系統。ASML 的 EUV 系統的銷(xiāo)售也需遵守許可要求。
ASML官方表示，認為這一新規主要是協(xié)調頒發(fā)出口許可證的方式，即由美國政府發(fā)放許可變更為由荷蘭政府發(fā)放許可。
ASML在聲明中指出，由于這是技術(shù)性調整，因此預計不會(huì )對公司2024年的財務(wù)前景，或在2022年11月投資者日傳達的長(cháng)期情景產(chǎn)生任何影響。
編輯：芯智訊-浪客劍
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