4月25日消息,美國政府近日宣布,根據雙方簽訂的不具約束力的初步備忘錄,美國政府將根據《芯片與科學(xué)法案》向美光提供至多 61.4 億美元直接補貼。
這筆補貼將支持美光到 2030 年在美國投資 500 億美元(當前約 3630 億元人民幣),在紐約州克萊建設兩座先進(jìn) DRAM 內存“超級晶圓廠(chǎng),并在總部所在地愛(ài)達荷州博伊西建設一座先進(jìn) DRAM 內存大規模量產(chǎn)工廠(chǎng)。美光博伊西晶圓廠(chǎng)將于 2025 年上線(xiàn)投運,2026 年啟動(dòng) DRAM 生產(chǎn);美光在克萊的首座晶圓廠(chǎng) 2025 年開(kāi)始建設,2028 年上線(xiàn)。500 億是美光更長(cháng)期 1250 億美元投資的一部分:美光目標在紐約州克萊投資共計 1000 億美元,到 2041 年建成四座這樣的“超級晶圓廠(chǎng)”;博伊西項目則價(jià)值 250 億美元。計劃中的每座晶圓廠(chǎng)的潔凈室面積都將達到 600000 平方英尺(約 55740 平方米)。美光預計,前三家晶圓廠(chǎng)的投運將推動(dòng)美國在全球先進(jìn)內存制造領(lǐng)域的份額從現在的不到 2% 成長(cháng)至 2035 年的約 10%。未來(lái)的二十多年中,美光的這五家晶圓廠(chǎng)將創(chuàng )造 11000 個(gè)企業(yè)內部工作崗位、9000 個(gè)建筑工作崗位和 55000 個(gè)間接工作崗位。根據備忘錄,美光還可獲得至高 75 億美元的貸款;美光也有資格獲得美國財政部的投資稅收抵免;此外紐約州政府也將提供價(jià)值 55 億美元的激勵措施。來(lái)源:國芯網(wǎng)
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