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納芯微新品,專(zhuān)門(mén)用于驅動(dòng)E?mode(增強型)GaN 開(kāi)關(guān)管的半橋芯片NSD2621

  • 前言現階段的大多數 GaN 電源系統都是由多個(gè)芯片組成。GaN 器件在電路板上組裝前采用分立式的元件組裝會(huì )產(chǎn)生寄生電感,從而影響器件的性能。例如驅動(dòng)器會(huì )在單獨的芯片上帶有驅動(dòng)器的分立晶體管,受到驅動(dòng)器輸出級和晶體管輸入之間以及半橋開(kāi)關(guān)節點(diǎn)之間的寄生電感的影響,同時(shí)GaN HEMT 具有非常高的開(kāi)關(guān)速度,如果寄生電感未被抑制,將會(huì )導致信號傳輸的波動(dòng)。近日,納芯微推出了兩款全新的GaN相關(guān)產(chǎn)品,分別是GaN驅動(dòng)NSD2621,一顆高壓半橋柵極驅動(dòng)芯片,專(zhuān)門(mén)用于驅動(dòng)E?mode(增強型)GaN 開(kāi)關(guān)管;集成化的
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納芯微全新推出GaN相關(guān)產(chǎn)品NSD2621和NSG65N15K

  • 納芯微全新推出GaN相關(guān)產(chǎn)品,包含GaN驅動(dòng)NSD2621與集成化的Power Stage產(chǎn)品NSG65N15K,均可廣泛適用于快充、儲能、服務(wù)器電源等多種GaN應用場(chǎng)景。其中,NSD2621是一顆高壓半橋柵極驅動(dòng)芯片,專(zhuān)門(mén)用于驅動(dòng)E?mode(增強型)GaN 開(kāi)關(guān)管;NSG65N15K是一顆集成化的Power Stage產(chǎn)品,內部集成了高壓半橋驅動(dòng)器和兩顆650V耐壓的GaN開(kāi)關(guān)管。NSD2621產(chǎn)品特性: 01. SW引腳耐壓±700V 02. 峰值驅動(dòng)電流2A/-4A 03.&n
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基于安森美半導體高頻率準諧振NCP1342搭配GaN的65W PD電源適配器

  • 電源適配器曾在電子產(chǎn)品中占據相當大的空間,而市場(chǎng)對于高功率密度的需求也正日益增高。過(guò)去硅(silicon)電源技術(shù)的發(fā)展與創(chuàng )新曾大幅縮減產(chǎn)品尺寸,但卻難有更進(jìn)一步的突破。在現今的尺寸規格下,硅材料已無(wú)法在所需的頻率下輸出更高的功率。對于未來(lái)的5G無(wú)線(xiàn)網(wǎng)絡(luò )、機器人,以及再生能源至數據中心技術(shù),功率將是關(guān)鍵的影響因素。GaN作為款能帶隙材質(zhì),在電子遷移率遠遠高于硅,輸出電容也大大小于硅,致使其可工作在更高頻率以致變壓器尺寸可以做的更小來(lái)實(shí)現更高功率的小尺寸電源。?場(chǎng)景應用圖?產(chǎn)品實(shí)體圖?方案方塊圖?核心技術(shù)優(yōu)
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基于安森美半導體有源鉗位的NCP1568搭配GaN的65W PD電源適配器

  • 電源適配器曾在電子產(chǎn)品中占據相當大的空間,而市場(chǎng)對于高功率密度的需求也正日益增高。過(guò)去硅(silicon)電源技術(shù)的發(fā)展與創(chuàng )新曾大幅縮減產(chǎn)品尺寸,但卻難有更進(jìn)一步的突破。在現今的尺寸規格下,硅材料已無(wú)法在所需的頻率下輸出更高的功率。對于未來(lái)的5G無(wú)線(xiàn)網(wǎng)絡(luò )、機器人,以及再生能源至數據中心技術(shù),功率將是關(guān)鍵的影響因素。GaN作為款能帶隙材質(zhì),在電子遷移率遠遠高于硅,輸出電容也大大小于硅,致使其可工作在更高頻率以致變壓器尺寸可以做的更小來(lái)實(shí)現更高功率的小尺寸電源。?場(chǎng)景應用圖?展示板照片?方案方塊圖?核心技術(shù)優(yōu)
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世平基于安森美半導體 NCP51820 650V Hi-Low Side GaN MOS Driver 應用于小型化工業(yè)電源供應器方案

  • 安森美GAN_Fet驅動(dòng)方案(NCP51820)。 數十年來(lái),硅來(lái)料一直統治著(zhù)電晶體世界。但這個(gè)狀況在發(fā)現了砷化鎵(GaAs)和砷化鎵、磷(GaAsP)等不同特性的材料后,已經(jīng)逐漸開(kāi)始改變。由開(kāi)發(fā)了由兩種或三種材料制成的化合物半導體,它們具有獨特的優(yōu)勢和優(yōu)越的特性。但問(wèn)題在于化合物半導體更難制造且更昂貴。雖然它們比硅具有明顯的優(yōu)勢。作為解決方案出現的兩個(gè)化合物半導體器件是氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)功率電晶體。這些器件可與壽命長(cháng)的硅功率LDMOS MOSFET和超結MOSFET競爭。GaN和SiC器
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英飛凌推出業(yè)界首款PFC和混合反激式組合IC,提高基于GaN的USB-C EPR適配器與充電器的性能

  • 【2022年11月24日,德國慕尼黑訊】USB供電(USB-PD)已成為快速充電以及使用統一Type-C連接器為各種移動(dòng)和電池供電設備供電的主流標準。在最新發(fā)布的USB-PD rev 3.1標準中,擴展功率范圍(EPR)規格可支持寬輸出電壓范圍和高功率傳輸。統一化和大功率容量再加上低系統成本的小外型尺寸已成為推動(dòng)適配器和充電器市場(chǎng)發(fā)展的主要驅動(dòng)力。為了加速這一趨勢,英飛凌科技股份公司(FSE代碼:IFX / OTCQX代碼:IFNNY)推出全新XDP?數字電源XDPS2221。這款用于USB-PD的高度集
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基于安森美半導體NCP1342驅動(dòng)GAN--65W 1A1C -超小尺寸PD快充電源方案

  • 此電源設計最大輸出功率為65W,配備1A1C雙口輸出,單USB-C口輸出65W(20V/3.25A),單USB-A口輸出;雙口同時(shí)輸出時(shí),C+A同降為5V方案全系列采用雙面板、最簡(jiǎn)化設計理念,尺寸才51X51X31mm!上下兩片1.0mm左右厚銅散熱既滿(mǎn)足EMI又導熱好!通標變壓器設計,21V效率最高達到93%,驅動(dòng)與MOS均采用美國安森美半導體技術(shù)!?場(chǎng)景應用圖?展示板照片?方案方塊圖?C口支持協(xié)議?核心技術(shù)優(yōu)勢1.51.5*51.5*31 超小體積 功率密度:1.26cm3/W2. QR架構,COST
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格芯獲得3000萬(wàn)美元政府基金研發(fā)GaN芯片

  • 據外媒《NBC》報道,近日,晶圓代工廠(chǎng)商格芯(GlobalFoundries)獲得3000萬(wàn)美元政府基金,在其佛蒙特州EssexJunction工廠(chǎng)研發(fā)和生產(chǎn)GaN芯片。該資金是2022年綜合撥款法案的一部分。這些芯片被用于智能手機、射頻無(wú)線(xiàn)基礎設施、電動(dòng)汽車(chē)、電網(wǎng)等領(lǐng)域。格芯稱(chēng),電動(dòng)汽車(chē)的普及、電網(wǎng)升級改造以及5G、6G智能手機上更快的數據傳輸給下一代半導體帶來(lái)需求。格芯總裁兼首席執行官Thomas Caulfield表示,GaN芯片將比前幾代芯片能更好地處理高熱量和電力需求。Caulfield在一份聲
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GaN IC縮小電機驅動(dòng)器并加快eMobility、電動(dòng)工具、 機器人和無(wú)人機的上市時(shí)間

  • EPC9176是一款基于氮化鎵器件的逆變器參考設計,增強了電機驅動(dòng)系統的性能、續航能力、精度和扭矩,同時(shí)簡(jiǎn)化設計。該逆變器尺寸極小,可集成到電機外殼中,從而實(shí)現最低的EMI、最高的功率密度和最輕盈。 宜普電源轉換公司(EPC)宣布推出EPC9176。這是一款三相BLDC電機驅動(dòng)逆變器,采用EPC23102 ePower? 功率級GaN IC,內含柵極驅動(dòng)器功能和兩個(gè)具有5.2 mΩ典型導通電阻的GaN FET。EPC9176在20 V和80 V之間的輸入電源電壓下工作,可提供高達28 Apk(2
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世平安森美推出新一代GaN氮化鎵/SiC碳化硅MOSFET高壓隔離驅動(dòng)器NCP51561 應用于高頻小型化工業(yè)電源

  • 現階段硅元件的切換頻率極限約為65~95kHz,工作頻率再往上升,將會(huì )導致硅MOSFET耗損、切換損失變大;再者Qg的大小也會(huì )影響關(guān)斷速度,而硅元件也無(wú)法再提升。因此開(kāi)發(fā)了由兩種或三種材料制成的化合物半導體GaN氮化鎵和SiC碳化硅功率電晶體,雖然它們比硅更難制造及更昂貴,但也具有獨特的優(yōu)勢和優(yōu)越的特性,使得這些器件可與壽命長(cháng)的硅功率LDMOS MOSFET和超結MOSFET競爭。GaN和SiC器件在某些方面相似,可以幫助下一個(gè)產(chǎn)品設計做出更適合的決定。?GaN氮化鎵是最接近理想的半導體開(kāi)關(guān)的器
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功率GaN RF放大器的熱考慮因素

  • 氮化鎵 (GaN) 是需要高頻率工作(高 Fmax)、高功率密度和高效率的應用的理想選擇。與硅相比,GaN 具有達 3.4 eV 的 3 倍帶隙,達 3.3 MV/cm 的 20 倍臨界電場(chǎng)擊穿,達 2,000 cm2/V·s 的 1.3 倍電子遷移率,這意味著(zhù)與 RDS(ON) 和擊穿電壓相同的硅基器件相比,GaN RF 高電子遷移率晶體管(HEMT)的尺寸要小得多。因此,GaN RF HEMT 的應用超出了蜂窩基站和國防雷達范疇,在所有 RF 細分市場(chǎng)中獲得應用。其中許多應用需要很長(cháng)的使用壽
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使用集成 GaN 解決方案提高功率密度

  • 氮化鎵 (GaN) 是電力電子行業(yè)的熱門(mén)話(huà)題,因為它可以使得 80Plus 鈦電源、3.8kW/L 電動(dòng)汽車(chē) (EV) 車(chē)載充電器和 EV 充電站等設計得以實(shí)現。在許多應用中, GaN 能夠提高功率密度和效率,因此它取代了傳統的硅金屬氧化物半導體場(chǎng)效應晶體管 (MOSFET)。但由于 GaN 的電氣特性和它所能實(shí)現的性能,使用 GaN 進(jìn)行設計面臨與硅不同的一系列挑戰。不同類(lèi)型的 GaN FET 具有不同的器件結構。GaN FET 包括耗盡型 (d-mode)、增強型 (e-mode)、共源共柵型 (ca
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大聯(lián)大友尚集團推出基于onsemi和GaN System產(chǎn)品的PD快充電源方案

  • 2022年9月20日,致力于亞太地區市場(chǎng)的領(lǐng)先半導體元器件分銷(xiāo)商---大聯(lián)大控股宣布,其旗下友尚推出基于安森美(onsemi)NCP1623和NCP1343產(chǎn)品以及氮化鎵系統公司(GaN System)GS-065-011-2-L功率晶體管的PD快充電源方案。 圖示1-大聯(lián)大友尚基于onsemi和GaN System產(chǎn)品的PD快充電源方案的展示板圖 以手機、電腦為代表的移動(dòng)智能設備已經(jīng)成為人們日常生活的重要工具,然而隨著(zhù)這些設備所覆蓋的功能越來(lái)越多,設備有限的續航能力已經(jīng)無(wú)法滿(mǎn)足用戶(hù)對
  • 關(guān)鍵字: 大聯(lián)大友尚  onsemi  GaN System  PD快充電源  

使用集成GaN解決方案提高功率密度

  • 氮化鎵 (GaN) 是電力電子行業(yè)的熱門(mén)話(huà)題,因為它可以使得 80Plus 鈦電源、3.8kW/L 電動(dòng)汽車(chē) (EV) 車(chē)載充電器和 EV 充電站等設計得以實(shí)現。在許多應用中, GaN 能夠提高功率密度和效率,因此它取代了傳統的硅金屬氧化物半導體場(chǎng)效應晶體管 (MOSFET)。但由于 GaN 的電氣特性和它所能實(shí)現的性能,使用 GaN 進(jìn)行設計面臨與硅不同的一系列挑戰。不同類(lèi)型的 GaN FET 具有不同的器件結構。GaN FET 包括耗盡型 (d-mode)、增強型 (e-mode)、共源共柵型 (ca
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GaN將在數據服務(wù)器中挑起效率大梁

  • 雖然增加可再生能源是全球的大趨勢,但這還不夠,能源效率是另一個(gè)重點(diǎn)領(lǐng)域,這是因為服務(wù)器及其冷卻系統對能源消耗,占據了數據中心將近40%的運營(yíng)成本。GaN具有獨特的優(yōu)勢,提供卓越的性能和效率,并徹底改變數據中心的配電和轉換、節能、減少對冷卻系統的需求,并最終使數據中心更具成本效益和可擴展性。數字化和云端服務(wù)的快速建置推動(dòng)了全球數據服務(wù)器的產(chǎn)業(yè)規模的成長(cháng)。今天,數據服務(wù)器消耗了全球近1%的電力,這個(gè)數字預計會(huì )不斷的成長(cháng)下去。次世代的產(chǎn)業(yè)趨勢,例如虛擬世界、增強實(shí)境和虛擬現實(shí),所消耗大量電力將遠超現今地球上所能
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