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制造制程
制造制程 文章 進(jìn)入制造制程技術(shù)社區
應用材料公司推出Centura Carina Etch系統克服高K介電常數
- 近日，應用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系統用于世界上最先進(jìn)晶體管的刻蝕。運用創(chuàng )新的高溫技術(shù)，它能提供45納米及更小技術(shù)節點(diǎn)上采用高K介電常數/金屬柵極(HK/MG)的邏輯和存儲器件工藝擴展所必需的材料刻蝕輪廓，是目前唯一具有上述能力并可以用于生產(chǎn)的解決方案。應用材料公司的Carina技術(shù)具有獨一無(wú)二的表現，它能達到毫不妥協(xié)的關(guān)鍵刻蝕參數要求：平坦垂直，側邊輪廓不含任何硅材料凹陷，同時(shí)沒(méi)有任何副產(chǎn)品殘留物。 應用材料公司資深副總裁、硅系統業(yè)務(wù)
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三星電子停電事故提前解決
- 8月6日消息， 日前，韓國三星電子公司宣布，之前因為停電而被迫停止運營(yíng)的芯片生產(chǎn)線(xiàn)，在上周六回復工作，與此同時(shí)公司表示，最終造成的實(shí)際經(jīng)濟損失，有可能低于之前的預期數字。 據國外媒體報道，作為世界最大的內存芯片制造商，三星電子在上周五的時(shí)候，因為停電問(wèn)題被迫停止了六條芯片生產(chǎn)線(xiàn)的工作。據公司估算，此次停電造成的損失將達到400億韓元，折合4340萬(wàn)美元。據市場(chǎng)分析機構iSuppli透露，此次的停電，將繼續加劇如今已經(jīng)非常嚴重的NAND閃存芯片短缺，該現象爆發(fā)于8月上旬，據統計三星NAND生產(chǎn)線(xiàn)占
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65nm成為制程應用分水嶺
- 按照摩爾定律的說(shuō)法，2006年初半導體制造業(yè)就已經(jīng)進(jìn)入了65nm時(shí)代。不過(guò)，令所有人始料不及的是65nm的普及遠遠非預期的那樣迅猛，在很多領(lǐng)域似乎根本不去考慮65nm制程的問(wèn)題，比如MCU，再如多媒體解碼芯片。于是，我們看到的結果是本該廣泛應用的65nm制程在全面投產(chǎn)18個(gè)月之后的應用領(lǐng)域只局限在少數幾個(gè)領(lǐng)域，這其中一向走在消費前沿的CPU和存儲是最火爆的領(lǐng)域，而FPGA則是另一個(gè)熱衷于追逐65nm的擁躉。 當90n
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OKI新型UV傳感器ML8511采用SI-CMOS制程
- 沖電氣(OKI)推出內建運算放大器的紫外線(xiàn)(UV)傳感器IC——ML8511。該產(chǎn)品運用絕緣上覆硅(SOI)-CMOS，為該公司首款模擬電壓輸出、無(wú)濾光器的UV傳感器。OKI將從6月份開(kāi)始陸續針對可攜式等用途產(chǎn)品，提供新款UV傳感器樣品。 OKI的UV傳感器IC由于采用了容易高整合度的SOI-CMOS技術(shù)，適合于數字及模擬電路。OKI表示，該公司未來(lái)將靈活運用這一特長(cháng)，加強與連接微處理器的數字輸出電路，進(jìn)而與感測式亮度控制傳感器(AmbientLightSensor)構成單一芯片的商品陣容；未來(lái)
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半導體制程微細化技術(shù)再突破 從65nm到45nm的微觀(guān)神話(huà)
- 半導體制程微細化趨勢1965年Intel創(chuàng )始人Moore提出“隨著(zhù)芯片電路復雜度提升，芯片數目必將增加，每一芯片成本將每年減少一半”的規律之后，半導體微細化制程技術(shù)日新月異，結構尺寸從微米推向深亞微米，進(jìn)而邁入納米時(shí)代。半導體制程微細化趨勢也改變了產(chǎn)業(yè)的成本結構，10年前IC設計產(chǎn)業(yè)投入線(xiàn)路設計與掩膜制程的費用，僅占總體成本的13%，半導體生產(chǎn)制造成本約占87%。自2003年進(jìn)入深亞微米制程后，IC線(xiàn)路設計及掩膜成本便大幅提升到62%。當芯片結構體尺寸小于100納米時(shí)，光學(xué)光刻技術(shù)便面臨技術(shù)關(guān)鍵：硅晶制程
- 關(guān)鍵字： 0704_A 半導體 單片機 電源技術(shù) 模擬技術(shù) 嵌入式系統 消費電子 雜志_技術(shù)長(cháng)廊 IC 制造制程 消費電子
PCB前處理導致之制程問(wèn)題發(fā)生原因討論
- 1. PCB制程上發(fā)生的問(wèn)題千奇百怪, 而制程工程師往往擔任起法醫-驗尸責任(不良成因分析與解決對策). 故發(fā)起此討論題, 主要目的為以設備區逐一討論分上包含人, 機, 物, 料, 條件上可能會(huì )導致產(chǎn)生的問(wèn)題, 希望大家一起參與提出自己意見(jiàn)及看法. 2. 會(huì )使用到前處理設備的制程, 例如:內層前處理線(xiàn), 電鍍一銅前處理線(xiàn), D/F, 防焊(阻焊)...等等. 3. 以硬板PCB 防焊(阻焊)前處理線(xiàn)為例(各廠(chǎng)商不同而有差異): 刷磨*2組->水洗->酸洗->水洗->冷風(fēng)
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印刷技術(shù)制程加速燃料電池時(shí)代來(lái)臨
- 總部位于瑞士的DEK公司日前宣布推出適用于精密電化學(xué)燃料電池組件的高速生產(chǎn)制程，可讓各種主要的燃料電池技術(shù)大幅節省每千瓦的耗電成本。該公司利用精密的批量擠壓印刷技術(shù)，可以非常高的分辨率為電子厚膜、表面黏著(zhù)和半導體裝配應用提供高精度、高重復性和高良率的生產(chǎn)特性。 DEK指出，燃料電池技術(shù)無(wú)疑會(huì )在未來(lái)的能源應用中扮演更重要的角色。以高精度批量擠壓印刷技術(shù)來(lái)生產(chǎn)燃料電池材料，將會(huì )加速此一新時(shí)代的來(lái)臨。更重要的是，這些制程和設備都已相當成熟穩健，而且將從我們?yōu)樘岣呱虡I(yè)應用
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模擬IC制程技術(shù)挑戰
- 隨著(zhù)終端產(chǎn)品朝向輕薄短小、低耗電和多功能整合三大趨勢發(fā)展，無(wú)論對影像、聲音、省電和體積小的質(zhì)量要求愈來(lái)愈高，模擬制程技術(shù)主要推動(dòng)力量在于分別就設計端和制程端來(lái)達成芯片的功能整合趨勢－這包含了模擬效能、成本以及Time-to-Market的完美平衡。使得系統在快速可靠的功能（數字與模擬）執行下，同時(shí)滿(mǎn)足社會(huì )對于系統變得更小、更快、更省電和價(jià)格更低的期望。 綜觀(guān)模擬IC對質(zhì)量要求不外乎速度(Speed)、精準(Precision)、功
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ST最新20款微控制器復位IC創(chuàng )新制程
- 意法半導體(ST)日前推出了20款3引腳微控制器復位IC STM18xx系列，這些電源監控器芯片是為大批量生產(chǎn)的成本敏感的微控制器應用專(zhuān)門(mén)設計，可直接插入取代工業(yè)標準的DS18xx系列產(chǎn)品以及類(lèi)似的組件。 據介紹，該系列產(chǎn)品由8個(gè)基本復位電路組成：4個(gè)5V組件，每個(gè)組件有4.62V和4.37V (額定)閾壓選項；4個(gè)3V組件，每個(gè)組件有3.06V、2.88V和2.55V(額定)閾壓選項，總計20個(gè)產(chǎn)品。復位電路是電源電壓監控制組件，被廣泛用于監視微控制器電源電壓，并在低于容許電壓
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聯(lián)電攜IMEC擴大提供90納米制程服務(wù)客戶(hù)
- 聯(lián)華電子與歐洲最大的獨立納米電子研究中心IMEC今天宣布，將共同把IMEC旗下的Europractice IC服務(wù)擴展至聯(lián)電90納米制程技術(shù)上，Europractice客戶(hù)將能輕易取得包含0.25、0.18、0.13微米與90納米等來(lái)自聯(lián)電的最先進(jìn)技術(shù)，進(jìn)行產(chǎn)品原型產(chǎn)出與小量生產(chǎn)?！?nbsp; 聯(lián)電表示，IMEC的Europractice IC服務(wù)，可提供客戶(hù)ASIC服務(wù)，并協(xié)助其產(chǎn)品快速上市。聯(lián)電多年以來(lái)一直與Europractice致力將聯(lián)電硅梭計劃--多重晶圓測試方案&
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NVIDIA 90nm芯片量產(chǎn)雙雄制程戰開(kāi)打
- NVIDIA首批90nm制程繪圖芯片已進(jìn)入緊鑼密鼓的量產(chǎn)階段，面對ATI率先導入90nm制程的動(dòng)作，并將在2006年1月底發(fā)表新旗艦產(chǎn)品R580，由于NVIDIA之前領(lǐng)先進(jìn)入130nm制程、但吃到不少苦頭，因而強調繪圖芯片產(chǎn)品設計及結構比制程更為重要。 目前包括NVIDIA及ATI繪圖芯片市場(chǎng)主力產(chǎn)品，皆采用110nm制程生產(chǎn)，在新一世代90奈米制程轉換動(dòng)作方面，ATI搶先一步在2005年第三季（3Q）宣布推出全線(xiàn)桌上型計算機（DT）繪圖卡專(zhuān)用Radeon&nbs
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英特爾公司開(kāi)發(fā)超低功耗制程
- 2005 年 9 月 21 日，北京訊――當前，英特爾公司正致力開(kāi)發(fā)其高性能65 納米（nm）邏輯制程的超低功耗版，以支持面向移動(dòng)平臺和小型設備的超低功耗芯片的生產(chǎn)。這種超低功耗制程將會(huì )是英特爾第二代基于65 納米制造技術(shù)的芯片制程。 英特爾65 納米（1 納米是 1 米的十億分之一）高性能制程較英特爾當前行業(yè)領(lǐng)先的 90 納米制程在功耗和性能方面雙雙勝出。英特爾此種超低功耗65納米的工藝制程為英特爾芯片設計人員提供了更多選擇，以滿(mǎn)足電控設備用戶(hù)對于電路密度、性能及功耗的各種需求。 英特爾
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德州儀器在小區網(wǎng)關(guān)市場(chǎng)上頻傳捷報，碩果累累
- TI 業(yè)界領(lǐng)先的 AR7 堪稱(chēng)全球最受好評的 DSL CPE 解決方案 日前，德州儀器 (TI) 宣布其近期在不斷增長(cháng)的小區網(wǎng)關(guān) (RG) 市場(chǎng)上取得了輝煌業(yè)績(jì)。截至第三季度末，TI 預計向市場(chǎng)提供的 DSL CPE 及 CO 端口數量將超過(guò) 1 億，而且自其旗艦 RG 平臺 AR7 片上調制解調器于 2003 年部署以來(lái)，其端口發(fā)貨量已達 3 千萬(wàn)件。諸如 AVM、Actiontec、Arcadyan、Aztech Systems Ltd.、NETGEAR、Ne
- 關(guān)鍵字： 德州儀器 IC 制造制程 治療設備類(lèi)
制造制程介紹
您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條制造制程!
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對制造制程的理解，并與今后在此搜索制造制程的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
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