全新Calibre xACT 產(chǎn)品可滿(mǎn)足先進(jìn)工藝廣泛的寄生電路參數提取需求

　　Mentor Graphics 公司今天宣布推出全新 Calibre® xACT™ 寄生電路參數提取平臺，該平臺可滿(mǎn)足包括 14nm FinFET 在內廣泛的模擬和數字電路參數提取需求，同時(shí)最大限度地減少 IC 設計工程師的猜測和設置功夫。 Calibre xACT 平臺可借由自動(dòng)優(yōu)化電路參數提取技術(shù)，針對客戶(hù)特定的工藝節點(diǎn)、產(chǎn)品應用、設計尺寸大小及電路參數提取目標，實(shí)現精準度和周轉時(shí)間 (TAT) 的最佳組合。 采用 Calibre xACT 平臺進(jìn)行電路寄生參數提取在滿(mǎn)足最嚴格的精準度要求的同時(shí)，還讓客戶(hù)體驗到了減少高達 10 倍的周轉時(shí)間。

　　Samsung 在用于 14nm 技術(shù)的 Calibre xACT 平臺的開(kāi)發(fā)和認證方面與 Mentor

　　Graphics 有著(zhù)廣泛的合作，并憑借該平臺的高精準度性能將其應用于技術(shù)開(kāi)發(fā)。

　　Calibre xACT 產(chǎn)品能夠將單個(gè)規則檔案應用于一系列電路參數提取應用，使客戶(hù)能夠兼顧精準度和快速 TAT(Turn Around Time)，且無(wú)需手動(dòng)修改其規則檔案或工具配置。

　　“我們在對領(lǐng)先的電路參數提取產(chǎn)品進(jìn)行了仔細的基準檢驗后，選擇了將Calibre xACT作為簽核電路參數抽取工具標準并應用到我們所有的新一代設計中，”Cypress Semiconductor 公司 CAD 總監 Dragomir Nikolic 說(shuō)道。 “包括在90 nm和65 nm制程節點(diǎn)上的產(chǎn)品。 我們發(fā)現，在眾多目標在最尖端工藝節點(diǎn)電路參數提取產(chǎn)品中，Calibre xACT 可提供高精準度和快速周轉時(shí)間的最佳組合。 此外，我們也看到 Calibre xACT電路參數提取工具有能力在各種各樣的應用(從晶體管級別到全芯片數字電路參數提取)中產(chǎn)生最佳結果，這種能力是非常有價(jià)值的。”

　　在整個(gè)設計周期內，電路設計工程師必須在性能和精準度之間權衡取舍。寄生電路參數提取也不例外。 在使用較為復雜的 FinFET 組件的先進(jìn)工藝節點(diǎn)上，設計工程師始終致力于追求更為嚴苛的精準度，也需要更高的性能和容量來(lái)實(shí)現十億級晶體管設計。事實(shí)上，在現代 IC 中，所有制程節點(diǎn)都隨著(zhù)內存、模擬電路、標準單元庫以及客制化數字內容的混合變得日益復雜。這種復雜性為電路參數提取工具帶來(lái)了一系列不同的挑戰。 為了應對這些挑戰，Calibre xACT 平臺將精簡(jiǎn)模型、解電磁場(chǎng)技術(shù)(Field Solver)以及高效的多 CPU 擴展 (scaling)技術(shù)融為一體，以確保實(shí)現有可靠精準度并滿(mǎn)足計劃所要求的期限。

　　Calibre xACT 電路參數提取平臺與整個(gè) Calibre 產(chǎn)品線(xiàn)整合，實(shí)現了無(wú)縫驗證流程，其中包括用于完整晶體管級模型的 Calibre nmLVS™ 產(chǎn)品，以及用于針對極高精準度電路參數提取應用的 Calibre xACT 3D 產(chǎn)品。此外，它還納入了第三方設計環(huán)境和格式，以確保與現有的設計和仿真流程相兼容。