納米尺度芯片Art DFM仿真平臺

基于65/45/40/28納米銅互連和28納米高k金屬柵CMP工藝及DFM設計規則，課題組開(kāi)發(fā)了一套兼顧平坦化和寄生效應、完整兼容業(yè)界主流EDA工具的DFM仿真平臺，該平臺具有超大規模版圖快速處理，ECP/CVD/PVD/CMP工藝模擬、熱點(diǎn)輸出與反標等功能。通過(guò)對版圖進(jìn)行CMP分析和檢查，找出存在熱點(diǎn)的區域進(jìn)行冗余金屬填充，并根據設計需求進(jìn)行修正，形成CMP模擬與參數提取相結合的DFM優(yōu)化流程。DFM平臺解決了復雜超大版圖快速并行處理的技術(shù)難題，可以滿(mǎn)足65/45/40/28納米全芯片規模版圖處理的要求，該平臺性能達到業(yè)界先進(jìn)水平，已通過(guò)代工廠(chǎng)和科研院所的嚴格測試與驗證，各項指標均達到工業(yè)界使用標準。DFM平臺可以集成第三方研究成果，模擬輸出能夠與業(yè)內主流寄生參數提取工具無(wú)縫連接，用于準確提取寄生參數，提高時(shí)序的收斂性。

                                                                                納米芯片DFM平臺