Deca攜手日月光和西門(mén)子推出APDK?設計解決方案

業(yè)界領(lǐng)先的先進(jìn)半導體封裝純工藝技術(shù)供應商Deca公司宣布推出全新的APDK?（自適應圖案^?設計套件）解決方案。該解決方案是Deca與日月光半導體制造股份有限公司（ASE）和西門(mén)子數字工業(yè)軟件公司的合作成果。

Deca與全球領(lǐng)先的先進(jìn)封裝供應商ASE和西門(mén)子的Calibre^?平臺（業(yè)界設計驗證的金牌標準）緊密合作，使終端客戶(hù)能夠認識到自適應圖案的強大功能。在實(shí)現突破性電氣性能的同時(shí)，現今先進(jìn)異構集成設計的各個(gè)方面都能保證在制造能力范圍內。

每個(gè)APDK都將全套自動(dòng)化、設計規則、設計規則檢查（DRC）平臺和模板集于一個(gè)軟件包中，提供了一個(gè)交鑰匙的設計流程。每項設計均由模板啟動(dòng)，同時(shí)廣泛的自動(dòng)化指導設計者從初始布局到自適應圖案模擬，最后使用西門(mén)子的Calibre軟件完成設計簽收。APDK已在A(yíng)SE取得成果，它正在迎來(lái)一個(gè)高密度、異構集成的新時(shí)代。

通過(guò)其OSAT聯(lián)盟計劃，西門(mén)子數字工業(yè)軟件已加入Deca的AP Live網(wǎng)絡(luò )，這是一個(gè)不斷發(fā)展的供應鏈生態(tài)系統，包括電子設計自動(dòng)化（EDA）供應商和原始設備制造商（OEM）。Deca的AP Studio模塊將自適應圖案設計流程與西門(mén)子的EDA產(chǎn)品進(jìn)行整合，提供了一個(gè)整體設計解決方案以及一個(gè)經(jīng)驗證的平臺。

"在整個(gè)行業(yè)內，先進(jìn)封裝解決方案，例如M系列，是摩爾定律持續延伸的關(guān)鍵。通過(guò)自適應圖案，我們已解決關(guān)鍵制造難題，現在隨著(zhù)第一款APDK的推出，我們正在解決設計方面的復雜問(wèn)題。設計人員需要一個(gè)全棧解決方案，以迅速推出新產(chǎn)品，并對最終結果抱有高度信心，我們相信我們的APDK能實(shí)現這一目標。"Deca Technologies公司首席技術(shù)官Craig Bishop說(shuō)道。

"ASE為客戶(hù)帶來(lái)自動(dòng)化設計支持的愿景正在通過(guò)一個(gè)強大的解決方案實(shí)現，該解決方案可同時(shí)解決單芯片和異構集成參數。"，ASE營(yíng)銷(xiāo)和技術(shù)推廣資深副總裁Rich Rice表示，他繼續說(shuō)道："通過(guò)M系列的量產(chǎn)，我們始終如一地實(shí)現卓越質(zhì)量，同時(shí)鞏固了我們在扇出型技術(shù)方面的領(lǐng)導地位。我們感到特別高興的是，我們的設計人員和客戶(hù)都可以?xún)?yōu)化Deca的APDK框架功能，以提供具可預測性和可信賴(lài)的下一代扇出型產(chǎn)品設計。"

"多年來(lái)，業(yè)界始終信賴(lài)Calibre軟件作為其驗證簽收平臺。將Calibre eqDRC和可編程邊緣移動(dòng)功能整合到這個(gè)新的APDK框架中，有助于實(shí)現包含在Deca的AP Studio模塊中的自適應圖案設計流程進(jìn)行自動(dòng)化和驗證。這有助于設計人員增添信心，讓他們相信首關(guān)即可成功。"西門(mén)子數字工業(yè)軟件公司Calibre設計解決方案產(chǎn)品管理副總裁Michael Buehler Garcia表示。