Intel 2029年上1.4nm工藝？非官方路線(xiàn)圖
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Intel的制程工藝一直備受關(guān)注。今天早些時(shí)候，荷蘭光刻機巨頭ASML(阿斯麥)放出一張路線(xiàn)圖，赫然羅列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工藝節點(diǎn)，尤其是最后這個(gè)將在2029年上馬的1.4nm非常意外，是我們第一次看到非整數工藝節點(diǎn)。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/201912/408112.htm就此消息，快科技收到了Intel官方的澄清聲明。
原來(lái)，這張路線(xiàn)圖并非完全來(lái)自Intel官方，而是ASML CEO Martin van den Brink拿了此前Intel 9月份公布的一張制程工藝更新PPT修改而來(lái)，自行添加了原來(lái)沒(méi)有的幾個(gè)工藝名稱(chēng)，但并未說(shuō)明，造成了誤會(huì )。
這才是Intel的原圖：
換句話(huà)說(shuō)，Intel對于7nm、5nm、3nm等等這些新工藝肯定是在研究推進(jìn)的，原始PPT也明確2021年開(kāi)始，會(huì )每?jì)赡陮χ瞥坦に囘M(jìn)行一次重大升級，而且每代工藝都有+、++兩次優(yōu)化更新。
但是更具體的新工藝技術(shù)節點(diǎn)和對應時(shí)間表，Intel尚未公布，1.4nm這樣的另類(lèi)更是完全無(wú)從談起。
當然在另一方面，ASML作為光刻機巨頭，可以說(shuō)是Intel工藝進(jìn)步的源頭之一，雙方合作關(guān)系密切，肯定了解一些Intel的規劃，但未來(lái)究竟如何發(fā)展，還是要等Intel官方公布的消息了。
Intel還向我們強調，在摩爾定律精神的指引下，Intel推進(jìn)創(chuàng )新的決心始終堅定！
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