SK集團加速半導體垂直整合 SK Innovation開(kāi)發(fā)半導體材料
SK集團(SKGroup)在接連購并OCIMaterials與樂(lè )金Siltron(LGSiltron)之后,子公司SKInnovation也將發(fā)展半導體材料事業(yè),加速以SK海力士(SKHynix)為主軸的材料、零組件事業(yè)垂直整合。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/201706/361033.htm據韓媒ETNews報導,業(yè)界消息表示,SKInnovation以對SK海力士供應產(chǎn)品為目的,正從事光阻劑(Photoresist)研發(fā)。近期SKInnovation已將少量光阻劑樣品交給SK海力士進(jìn)行測試,后續經(jīng)由意見(jiàn)回饋改善品質(zhì)后,朝向量產(chǎn)目標邁進(jìn)。
光阻劑用在硅晶圓的曝光制程,與通過(guò)光罩的光作用形成電路圖形。曝光設備與材料依照曝光波長(cháng)分為G-line、I-line、KrF、ArF與極紫外光(EUV)等多種方式,其中以極紫外光最為先進(jìn)。
SKInnovation開(kāi)發(fā)的是用在生產(chǎn)3DNANDFlash的KrF光阻劑,涂布在晶圓上時(shí)必須形成10?以上的厚膜,之后才能順利將存儲器單元(Cell)堆疊成垂直構造。
ArF與極紫外光的光阻劑材料市場(chǎng)主要由信越化學(xué)(Shin-EtsuChemical)、住友化學(xué)(SumitomoChemical)、東京應化工業(yè)(TOK)、JSR等日本業(yè)者掌握;南韓東進(jìn)世美肯(DongjinSemichem)與德國默克(Merck)供應技術(shù)難易度相對較低的3DNANDFlashKrF光阻劑。
SKInnovation表示,公司從2年前開(kāi)始著(zhù)手研發(fā)光阻劑等電子材料,希望能以石油、潤滑油領(lǐng)域累積的技術(shù)能量,也在特殊化學(xué)材料市場(chǎng)取得斬獲。
SK集團在將海力士納入旗下后,開(kāi)始以購并策略強化半導體材料、零組件事業(yè)能量。2016年1月買(mǎi)下半導體特殊氣體業(yè)者OCIMaterials并更名為SKMaterials。
SKMaterials生產(chǎn)三氟化氮(NF3),用來(lái)清除半導體機臺腔體內的殘留物質(zhì),全球市占率第一。2016年SKMaterials先后與日本TriChemicalLaboratories及昭和電工(ShowaDenko)合資成立子公司SKTriChem、SKShowaDenko。
SKTriChem生產(chǎn)鋯(Zr)系前驅體(Precursor)高介電(High-K)蒸鍍材料;SKShowaDenko生產(chǎn)蝕刻氣體三氟甲烷(CH3F)。這兩項材料都將對SK海力士供應。
2017年初SK集團再度向樂(lè )金集團(LGGroup)購買(mǎi)硅晶圓公司樂(lè )金Siltron過(guò)半數股權。先前SK海力士分別向信越化學(xué)、Sumco、SunEdisonSemiconductor、Siltronic及樂(lè )金Siltron等5家供應商采購硅晶圓,未來(lái)應會(huì )增加對樂(lè )金Siltron的采購量。
業(yè)界表示,2015年SK集團會(huì )長(cháng)崔泰源訂定2020年集團營(yíng)收目標200兆韓元(約1,779億美元),并選定多項領(lǐng)域作為新樹(shù)種事業(yè)培育,其中規模最大的就是半導體及相關(guān)材料與零組件事業(yè)。之后SK集團主要子公司紛紛投入相關(guān)研發(fā),如SKC的子公司SKCSolmics正在開(kāi)發(fā)光罩基底(MaskBlank)。
日本Hoya、成膜光電(Ulcoat)是光罩基底市場(chǎng)主要供應商,南韓業(yè)者S&STech也自主研發(fā),將產(chǎn)品往海外市場(chǎng)銷(xiāo)售。SKCSolmics若能成功將光罩基底帶入商用化,未來(lái)可望大幅提高營(yíng)收。
SKInnovation對開(kāi)發(fā)3DNANDFlash的KrF光阻劑傳聞表示,光阻劑等各種電子材料化學(xué)產(chǎn)品都還在開(kāi)發(fā)階段,是否進(jìn)行量產(chǎn)還需經(jīng)過(guò)審慎評估才能確定。
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