尼康告ASML和蔡司侵權 或因業(yè)績(jì)跌40% 轉求專(zhuān)利獲利？

　　據路透社4月24日晚間消息，日本尼康 (Nikon) 宣布在荷蘭、德國與日本針對 ASML(艾司摩爾) 和合作伙伴卡爾蔡司 (Carl Zeiss AG)的專(zhuān)利侵權提起訴訟，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經(jīng) Nikon 的許可下將其微影 (lithography) 技術(shù)專(zhuān)利用于光刻機上，并運用在半導體制造業(yè)中。尼康在訴訟文件中稱(chēng)，要求 ASML 和 Carl Zeiss AG 對未授權使用專(zhuān)利技術(shù)而做出賠償。

　　尼康曾在半導體設備產(chǎn)業(yè)叱咤一時(shí)，是全球第八大半導體設備廠(chǎng)商。據尼康公布的2017財年第三季度財報(2016年4月1日~12月31日)顯示，營(yíng)業(yè)利潤下降了41%，尼康凈利潤虧損0.5億元人民幣，而上年同期盈利還高達11億人民幣。

　　ASML 發(fā)布聲明表示，尚未就此法律行動(dòng)收到通知，斷然否認任何侵權指控。ASML 認為 Nikon 的指控缺乏依據，將考慮采取所有方案，堅定地維護權益。

　　對此，ASML 總裁兼CEO彼得·溫尼克(Peter Wennink)稱(chēng)：“尼康的訴訟毫無(wú)依據，沒(méi)有必要，為半導體市場(chǎng)制造了不確定性。”溫尼克還稱(chēng)，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對當前的一份交叉授權協(xié)議進(jìn)行延期。

　　根據 ASML 的年度報告和 20-F 表格里的披露訊息，ASML 和 Nikon 在 2004 年簽訂了一項專(zhuān)利交叉授權協(xié)議，部分專(zhuān)利已獲永久授權，其他專(zhuān)利的授權日期已于 2009年12月31日結束，雙方同意互不采取法律行動(dòng)的過(guò)渡期亦于2014年12月31日結束。

　　Nikon 則表示，法律訴訟是在由美國退休法官于 2016 年底進(jìn)行的調解未成之后所決定發(fā)起的。而根據 Nikon 的說(shuō)法，提起訴訟的 3 項微影技術(shù)專(zhuān)利，ASML 和 Carl Zeiss 兩家公司分別在 2004 年支付 Nikon 8,700萬(wàn) 美元和 5,800 萬(wàn)美元的授權金。授權期限在 2009 年到期，而 2014 年底其專(zhuān)利權的過(guò)渡期也到期之后，雙方在 2016 年底經(jīng)過(guò)調解協(xié)商延長(cháng)交叉許可協(xié)議未成。

　　當前，光刻系統被廣泛應用于制造半導體，而 ASML 又主導著(zhù)半導體光刻機市場(chǎng)。據評級機構“惠譽(yù)評級”(Fitch Ratings)今年1月發(fā)布的調研報告顯示，在高端光刻機市場(chǎng)，ASML 的份額高達90%。而 ASML 公布的 2017 年第 1 季財報顯示，第 1 季營(yíng)收凈利達 19.4 億歐元，毛利率為 47.6%，且預估第 2 季營(yíng)收凈利在 19 到 20 億歐元之間，毛利率約為 43% 到 44%。

　　尼康曾是日本半導體制造技術(shù)的代表廠(chǎng)商，1993 年尼康的半導體曝光設備全球市占率達 48.4%，幾乎在市場(chǎng)稱(chēng)王。1984 年設立的 ASML，在創(chuàng )建初期遠遠不及尼康。然而尼康好景不常，至 2000 年左右，ASML 市占率開(kāi)始快速攀升，最后不僅超越尼康，2015 年全球市占率高達 81%，尼康只剩 12.1%。

　　尼康與 ASML 的差距在哪里?從技術(shù)面來(lái)說(shuō)，ASML 采取開(kāi)放的技術(shù)制度，積極與外部研究機關(guān)或部門(mén)企業(yè)攜手，共同尋求革新。尼康則貫徹“黑盒子(Black Box)”路線(xiàn)，產(chǎn)品一律由自家研發(fā)，自家制造。

　　尼康的高端半導體曝光設備單價(jià)高達 50 億日圓，只要比預期少賣(mài) 1 臺，都會(huì )對業(yè)績(jì)帶來(lái)極大影響。在2014 會(huì )計年度，尼康預估高端半導體設備“ArF”可賣(mài) 18 臺，但全年只賣(mài)出 5 臺，顯示該企業(yè)的設備產(chǎn)品似乎乏人問(wèn)津。