OLED顯示器的DC生產(chǎn)測試中測試系統的性能

我們曾對采用四個(gè)2400的測試系統的測試速度、小電流和小電壓測量精度，在一系列不同的測量時(shí)間間隔條件下(即不同的NPLC設定參數)進(jìn)行過(guò)特征化測試。NPLC參數與測試時(shí)間間隔有如下關(guān)系式

測試時(shí)間間隔(秒)= 1/60(NPLC參數)

圖1表示了2400型源表NPLC值從0.01到1.0時(shí)，在10-2A、10-3A、10-4A、10-5A和10-6A量程內的低電流測量性能。測試電流的大小接近每個(gè)量程的最大值，而每個(gè)測量點(diǎn)則代表100次測量的標準差。測試結果表明，對于每一個(gè)很短的積分(integration)時(shí)間，即 0.1 NPLC，在10-2A、10-3A和10-4A量程下，電流測量的標準差小于滿(mǎn)量程的0.005%，而在10-5A和10-6A量程下小于0.08%。在10-5A和10-6A量程下以最高測試速度測量時(shí)，±3σ的測試可重復性達到了 2nA。圖2表示了一個(gè)以四個(gè)2400構建的測試系統的測試吞吐率的測量結果(該結果表示為NPLC設定值的函數)。

圖1. 2400源表的電流測量值的標準差與NPLC的關(guān)系曲線(xiàn)，其中的測試量程為10-2A、10-3A、10-4A、10-5A和10-6A。

當用于單個(gè)像素的開(kāi)路、短路測量時(shí)，2400被配置成一個(gè)電流源，然后進(jìn)行電壓測量。PC機通過(guò)電流源輸出值和電壓測量值計算出電阻。這一技術(shù)直接使用了2400進(jìn)行電阻測量，從而縮短了與電阻測量有關(guān)的測量時(shí)間。測量精度接近或小于0.2%，而這一性能水平對于“合格或不合格”的測試是足夠了。它的測試吞吐率為漏電流測試速度的百分之幾。

圖2. 采用四個(gè)2400的OLED特征化系統的測試吞吐率

在對電纜、掃描卡和夾具的設計中使用保護，可大大降低漏電流，而且能夠為基于6517A型靜電計和7158、7058型掃描卡的系統，實(shí)現低電流的測量提供支持。加保護的信號通路縮短了與低電流測量所需的較長(cháng)穩定時(shí)間，這進(jìn)而又縮短了測試時(shí)間。即使采用了保護電路，6517A的測量速度仍比不上2400，所以它的吞吐率將會(huì )低一些。

可以采用四個(gè)6517A和低電流掃描卡組成的系統進(jìn)行一次性能研究，但由于測試夾具和電纜走線(xiàn)對測試系統有很大的影響而使此項研究未能實(shí)現。這些部件通常是客戶(hù)提供的，而漏電流的大小可以有非常大的變化范圍，這就影響到了低電流性能和測試穩定時(shí)間。