三星與樂(lè )金擬于可撓OLED導入原子層沉積技術(shù)

　　三星顯示器(Samsung Display)與樂(lè )金顯示器(LG Display)目前正在研擬于可撓式OLED薄膜封裝制程上導入原子層沉積技術(shù)(Atomic Layer Deposition;ALD)。兩家公司都與設備協(xié)力廠(chǎng)合作研發(fā)ALD設備，并進(jìn)入測試階段。若導入ALD制程，阻擋水分及氧氣的效果會(huì )提升，將有望提升可撓式OLED面板壽命以及性能。

　　韓媒ET News報導，三星顯示器與樂(lè )金顯示器目前正準備于可撓式OLED制程上導入ALD技術(shù)。目前擁有顯示器用ALD技術(shù)與設備的南韓廠(chǎng)商有周星工程(Jusung Engineering)、Wonik IPS、AP System以及TES。據悉，樂(lè )金顯示器已結束ALD的研究，并展開(kāi)制程導入的研發(fā)作業(yè)，而三星顯示器也開(kāi)始加快ALD導入速度。

　　兩家公司雖然早已開(kāi)始研究ALD技術(shù)，不過(guò)最近隨著(zhù)可撓式OLED設備投資熱潮，提升了實(shí)際導入ALD技術(shù)的可能性。

　　因為OLED是有機材質(zhì)，在對于水分及氧氣的抵抗性較不足。為了保護OLED材料，必須多次涂上薄膜保護材質(zhì)。雖然每家面板制造商在薄膜層涂抹的次數不一樣，但平均有機物薄膜和無(wú)機物薄膜約會(huì )涂抹3~5次，采用的則是Vitex的方式。

　　一般而言，無(wú)機物薄膜封裝可以使用PECVD、Sputtering以及ALD技術(shù)。有機物薄膜沉積則常使用Kateeva噴墨列印技術(shù)。過(guò)去，三星顯示器與樂(lè )金顯示器在無(wú)機物薄膜制程采用的都是PECVD技術(shù)。

　　不過(guò)最近隨著(zhù)對于OLED壽命及功能改善的急迫性提升，這兩家公司都開(kāi)始研擬導入ALD技術(shù)。主要的問(wèn)題就在于，相較于可撓式OLED需求的提升，生產(chǎn)性則是下滑。

　　如果在顯示器上采用ALD技術(shù)，可以把薄膜雜質(zhì)極小化，形成相同厚度的薄膜。透過(guò)質(zhì)量較好的薄膜，保護OLED材質(zhì)的效果就會(huì )增強，水分及氧氣就不容易進(jìn)入。無(wú)機物薄膜如果以不同納米單位來(lái)交替沉積，將可極小化整體薄膜的厚度，也就可呈現相當低的透水度(Water Vapor Transmission Rate)，此外，因可更多樣地呈現薄膜組成，也有望克服現有CVD方式的材料極限。

　　半導體業(yè)界因為微細制程進(jìn)展，早已開(kāi)始積極導入ALD。反觀(guān)顯示器業(yè)界卻在導入上猶豫不定，主要還是因為設備費用比PECVD來(lái)的昂貴，再加上在6代大尺寸運用以及沉積速度上仍面臨許多難題，不過(guò)，最近隨著(zhù)部分問(wèn)題得到解決，導入的可能性也日益攀升。

　　南韓業(yè)界人士表示，雖然無(wú)法完全進(jìn)行比較，不過(guò)大致來(lái)說(shuō)，ALD沉積速度約比PECVD慢上10倍左右。如果沉積速度較慢，生產(chǎn)性就會(huì )降低。此外，大尺寸量產(chǎn)上仍是最大的障礙。不過(guò)，如果薄膜厚度可以更薄，就很值得研擬實(shí)際導入制程的可能性。