Mentor Graphics 推出針對 Tanner 模擬/混合信號 IC 設計環(huán)境的 Tanner Calibre One 驗證套件

　　Mentor Graphics®公司(納斯達克代碼：MENT)今天宣布推出 Tanner Calibre One IC 驗證套件，作為 Tanner™ 模擬/混合信號 (AMS) 物理設計環(huán)境不可或缺的一部分，使 Tanner EDA 的用戶(hù)群可以輕松使用 Calibre® 驗證工具的所有功能。該套件大大改善了 IC 設計和驗證解決方案，使 Tanner 客戶(hù)可以在更為集成的環(huán)境中使用 Calibre 物理和電路驗證工具，尤其是在 Tanner L-Edit™ 版圖布局環(huán)境下時(shí)更有優(yōu)勢。

　　Calibre 是業(yè)內領(lǐng)先的物理驗證平臺，符合所有大型 IC 晶圓代工廠(chǎng)的 Sign-off 要求，而且 Tanner Calibre One 驗證套件使用的是相同的 Calibre 設計套件。已經(jīng)擁有獨立的 Calibre 許可證并考慮使用 Tanner 設計環(huán)境的客戶(hù)可以繼續使用已有的 Calibre-Tanner 接口。此外，Calibre 和 Tanner AMS IC 設計流程之間的自定義集成為 Tanner IC 設計人員提供了另一種重要的方案，使設計團隊得以訪(fǎng)問(wèn)所需內容，充滿(mǎn)信心地進(jìn)入設計的流片階段。

　　“L-Edit 與 Tanner Calibre One 驗證套件無(wú)縫交互，使我們版圖布局團隊的效率得到大幅提升，”Sensor Creations Inc.總裁 Stefan Lauxtermann 說(shuō)道，“我們的客戶(hù)非常贊賞我們采用 Calibre 的決定，并且晶圓代工廠(chǎng)的最終 DRC 與我們使用的 Tanner 設計流程之間是一對一的對應關(guān)系。”

　　Tanner Calibre One 驗證套件包括以下產(chǎn)品：

　　· Calibre nmDRC™(層次化設計規則檢查)，可確保物理版圖順利投產(chǎn)制造。作為業(yè)界領(lǐng)先的工具能夠提供快速的周期時(shí)間以及創(chuàng )新的設計規則功能。

　　· Calibre nmLVS™(層次化版圖與電路圖對比)，可從電路結構和器件形狀的角度檢查物理版圖是否與電路圖完全一致。它提供了實(shí)際器件幾何測量和精密的交互式調試功能，可提高設計人員的生產(chǎn)率，確保驗證準確。

　　· Calibre xRC™(寄生參數提取)，可驗證版圖依賴(lài)效應不會(huì )對設計的電氣性能產(chǎn)生不利影響，從而為全面且準確的布線(xiàn)后分析和仿真提供準確的寄生數據。

　　此外，Calibre RVE™ 工具將解決方案整合在一起，提供了圖形結果查看環(huán)境，然后通過(guò)肉眼快速識別設計問(wèn)題以及交互選擇 Tanner 版圖與電路圖輸入工具中的相關(guān)問(wèn)題，進(jìn)而減少調試時(shí)間。

　　Tanner IC 設計套件支持在一個(gè)完整且高度集成的端到端流程中進(jìn)行模擬、混合信號和 MEMS 設計。設計人員可在這個(gè)統一流程中輸入電路圖，執行模擬和混合信號仿真，然后再對物理設計進(jìn)行版圖布局。通過(guò) Tanner Calibre One 驗證套件，使用 Tanner IC 流程的每位設計人員能夠以交互方式調用獨立的 Calibre 工具，以進(jìn)行設計驗證。

　　“有了 Tanner Calibre One，使用 L-Edit 的設計人員提高了信心，確信其流片階段必能成功，”Mentor Graphics 的 Tanner 運營(yíng)總經(jīng)理 Greg Lebsack 說(shuō)道。“令人激動(dòng)的是，現在，全球的 Tanner 客戶(hù)群都可以使用 Calibre 套件中引領(lǐng)業(yè)界的主要功能。”

　　在 2016 年設計自動(dòng)化大會(huì ) (DAC) 上，Tanner EDA 展位(展位號 1828)將展示 Tanner Calibre One 設計流程。

　　如需其他產(chǎn)品信息，請訪(fǎng)問(wèn)網(wǎng)站：https://www.mentor.com/tannereda/ 和 https://www.mentor.com/calibre