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太陽(yáng)能光伏電池暗電流的研究

作者: 時(shí)間:2012-04-25 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 收藏

本文對的暗產(chǎn)生原因進(jìn)行了系統的。暗不僅僅包括反向飽和。還包括薄層漏電流和體漏電流。在實(shí)際生產(chǎn)中,暗電流高于5A的比例偏高,其產(chǎn)生的原因多種多樣。我們經(jīng)過(guò)長(cháng)期大量的實(shí)驗,了暗電流高的原因。并在生產(chǎn)中提出了相應的解決辦法。

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/177422.htm

1、引言

在沒(méi)有光照的條件下,給PN結加反偏電壓(N區接正,P區接負),此時(shí)會(huì )有反向的電流產(chǎn)生,這就是所謂的暗電流。對電池而言,暗電流不僅僅包括反向飽和電流,還包括薄層漏電流和體漏電流。

反向飽和電流是指給PN結加一反偏電壓時(shí),外加的電壓使得PN結的耗盡層變寬,內建電場(chǎng)變大,電子的電勢能增加,P區和N區的多數載流子數載流子(P區多子為空穴,N區多子為電子)就很難越過(guò)勢壘,因此擴散電流趨近于零,但是由于結電場(chǎng)的增加,使得N區和P區中的少數載流子更容易產(chǎn)生漂移運動(dòng)。在這種情況下,PN結內的電流由起支配作用的漂移電流決定。漂移電流的方向與擴散電流的方向相反,表現在外電路上有—個(gè)流入N區的反向電流,它是由少數載流子的漂移運動(dòng)形成的。由于少數載流子是由本征激發(fā)而產(chǎn)生的,在溫度一定的情況下,熟激發(fā)產(chǎn)生的少子數量是一定的,電流趨于恒定。太陽(yáng)能電池片可以分3層,即薄層(即N區),耗盡層(即PN結),體區(即P區)。復合的過(guò)程始終伴隨著(zhù)載流子的定向移動(dòng),必然會(huì )有微小的電流產(chǎn)生,這些電流對測試所得的暗電流的值是有貢獻的,由薄層貢獻的部分稱(chēng)之為薄層漏電流,由體區貢獻的部分稱(chēng)之為體漏電流。

2、實(shí)驗及分析

在太陽(yáng)能電池實(shí)際生產(chǎn)中,暗電流高的電池比例偏高,同碎片率一樣,是影響電池成品合格率的兩大主要因素之一。這些電池產(chǎn)生的原因多種多樣極其復雜,我們經(jīng)過(guò)長(cháng)期大量的實(shí)驗,分析了暗電流高與5A電池產(chǎn)生的具體原因,并在生產(chǎn)中提出了相應的解決辦法。

2.1硅片內在質(zhì)量原因

鑄造多晶硅相對直拉單晶硅的制備工藝簡(jiǎn)單,成本較低,但控制雜質(zhì)和缺陷的能力也較弱。鑄造多晶硅中的氧、碳、氮、氫及金屬雜質(zhì)和高密度的晶界、位錯以及微缺陷都有可能造成電池反向電流的增加。所以,在鑄錠過(guò)程中應嚴格控制硅料的雜質(zhì)含量,優(yōu)化鑄錠工藝,嚴格控制硅錠的雜質(zhì)含量和電阻率等參數,嚴格控制微晶缺陷產(chǎn)生。圖1顯示的是經(jīng)過(guò)線(xiàn)鋸切割后受損傷的硅片表面情況,表面完全與硅基體剝離,大大影響了硅基體表面性質(zhì)。

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圖1鑄造多晶磕蜀出躺醐瞎惦受損傷的硅片表面情況

2.2電池的加工工藝原因

2.2.1制絨工藝

1)潤洗污染:在多晶硅片酸制絨的生產(chǎn)過(guò)程中,潤洗系統內部會(huì )

生成不溶性鹽類(lèi),在對硅片進(jìn)行潤洗的過(guò)程中會(huì )污染硅片的表面,形成PN結缺陷,進(jìn)而影響鍍膜,在雜質(zhì)處未鍍膜或形成鍍膜缺陷,燒結時(shí)

污染,尤其是人為污染;優(yōu)化電池加工各工序的工藝,避免機械損傷,

對降低電池的暗電流有非常重要的作用。漿料會(huì )在在雜質(zhì)處穿過(guò)薄膜層,造成電池的反向暗電流增大。

2)風(fēng)刀油水污染:主要是壓縮空氣中油水的污染。在制絨設備中,各工藝槽后均有風(fēng)刀,其作用是去除硅片表面的化學(xué)液體和水。風(fēng)刀用的氣體為壓縮空氣,其中含有部分油和水的混合物,它會(huì )玷污硅片表面,從而形成表面缺陷。

2.2.2擴散工藝

PN結均勻性差,高方塊電阻的硅片PN結相對較淺,相同的燒結條件下,PN結較淺的地方易被漿料穿透,造成漏電流偏大。在生產(chǎn)中應嚴格控制方塊電阻的大小,調整合適的工藝,使方塊電阻的均勻性提高,從而降低電池的暗電流。

2.2.3濕法刻蝕工藝

濕法刻蝕造成電池暗電流偏高的—個(gè)重要原因是刻蝕邊緣較大,PN結遭到破壞,導致鍍膜印刷燒結后漏電。濕法刻蝕的硅片,邊緣較大主要有以下原因:

1)濕法刻蝕溶液粘度不足,主要表現為刻蝕液中H2S04的濃度

偏低;

2)化學(xué)成分配比不適合;

3)刻蝕槽流量過(guò)大;

4)排風(fēng)量調節不適合;

5)傳輸速度慢等。

所以適當調節濕法刻蝕工藝,在保證刻蝕深度的情況下,盡量減小邊緣刻蝕寬度,從而在一定程度上可以減少高漏電電池比例。

2.2.4不同的漿科,成分不同,性能不同,對電池的參數影響不同

不同漿料對氮化硅膜的穿透能力不同,高溫性能不同,從而造成電參數性能的較大差異。在燒蘭占i型程中,應根據漿料的不同性質(zhì)采用不同的燒結工藝。

2.3人工污染的原因

主要是人手接觸硅片導致硅片受到污染,污染物主要是鈉離子。下表中數據為制絨、擴散工序均采用機械手裝卸載和制絨、擴散工序均采用人工收片和插片的電池參數對比數據:

表1

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以上對比數據表現為采用柳械手插片電池參數Irev2>5A的電池比例均低于1.5%,明顯低于人工插片形成的比例。

2.4加工過(guò)程造戍機械損傷的原因

由于在電池生產(chǎn)過(guò)程中各工序會(huì )不可避免的對硅片造成不同程度的機械損傷,嚴重者會(huì )造成硅片的暗裂紋,如果印刷漿料后硅片還沒(méi)有碎裂,燒結后漿料通過(guò)暗裂紋進(jìn)入硅片,導致電池漏電偏大。這種硅片在生產(chǎn)過(guò)程中很難發(fā)現,但在lR下觀(guān)測可以看到有微裂紋,表現為溫度過(guò)高的亮點(diǎn)。因此生產(chǎn)過(guò)程中應減少硅片的機械碰撞,避免暗裂紋的產(chǎn)生。

3.結論

為降低電池的暗電流,提高電池的品質(zhì),首先應改善硅錠的內在質(zhì)量,減少硅錠內在雜質(zhì)的含量和缺陷態(tài);其次,減少生產(chǎn)各個(gè)環(huán)節的污染,尤其是人為污染;優(yōu)化電池加工各工序的工藝,避免機械損傷,對降低電池的暗電流有非常重要的作用。

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