如何使用氮化鎵器件:引進(jìn)氮化鎵晶體管技術(shù)
在功率轉換的應用中,D 型器件并不方便,因為在功率轉換器啟動(dòng)時(shí),必須首先在功率器件施加負偏置,否則會(huì )導致短路。反之,增強型(E 型)器件沒(méi)有這個(gè)限制。在柵極為零偏置時(shí),E 型器件處于“關(guān)斷”狀態(tài),及不會(huì )傳導電流。當宜普電源轉換公司推出商用增強型氮化鎵場(chǎng)效應晶體管后,大大減低了使用氮化鎵晶體管來(lái)設計功率轉換系統的難度。
宜普的增強型的工藝開(kāi)始于硅晶圓。在硅基上生成的一層氮化鋁(AlN) 的薄層,為隨后生長(cháng)的氮化鎵異質(zhì)結構提供一層晶種層。由AlGaN 及其后的氮化鎵組成的異質(zhì)結構在氮化鋁層上生長(cháng)。在這層的基礎上搭建氮化鎵場(chǎng)效應晶體管。隨后在這個(gè)具高阻抗性的氮化鎵厚層上生長(cháng)一薄層AlGaN。這個(gè)薄層使氮化鎵與AlGaN 層之間產(chǎn)生應變介面。這個(gè)應變介面加上氮化鎵固有的壓電性質(zhì)產(chǎn)生滿(mǎn)載大量高遷移率電子的二維電子氣 。下一步工藝是在柵極下方形成一個(gè)耗盡區。為了增強場(chǎng)效應晶體管性能,可以用與導通n 溝道的增強型功率MOSFET 相同的方式,給柵極施加一個(gè)正向電壓,如圖四所示。額外金屬層可以把電子導向柵極、漏極及源極的端子(圖五顯示了這種結構的橫截面)。這種結構被重復多次而形成一個(gè)完整的功率器件,如圖六 所示。
圖四: 氮化鎵場(chǎng)效應晶體管的結構。
圖五:氮化鎵場(chǎng)效應晶體管的掃描電子顯微鏡圖像。
圖六:氮化鎵場(chǎng)效應晶體管的俯視圖。它的額定值為40 V、4 mΩ 及33 A。
總結
在技術(shù)文章系列的第一章,我們介紹了具備優(yōu)越性能的硅基氮化鎵功率器件可以替代現有的功率MOSFET器件。我們描述了兩種氮化鎵晶體管的結構,分別為耗盡型及增強型氮化鎵晶體管。氮化鎵場(chǎng)效應晶體管的尺寸更小、開(kāi)關(guān)速度更快、容易使用、已經(jīng)用作商業(yè)用途及在不久的將來(lái)可以比硅器件的成本更低。下一章我們將討論功率系統設計工程師所需的基本工具,以實(shí)現氮化鎵晶體管的卓越性能。
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