Gigaphoton將LPP EUV光源輸出端最大等效功率提升至20W級別
—— 此次的成果標志著(zhù)預生產(chǎn)極 EUV光源發(fā)展過(guò)程中的一個(gè)新里程碑
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時(shí)間：2013-02-20
來(lái)源：electroiq
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Gigaphoton公司18日宣布已經(jīng)成功將LPP EUV光源產(chǎn)品的輸出端等效最大功率推進(jìn)到了20W水平。該公司達成這個(gè)目標所使用的方法是，使用固態(tài)預脈沖激光器，100khz頻率的CO2激光來(lái)轟擊錫靶標。采用這種方法，該公司在光源運行過(guò)程中達成了平均 10W水平的輸出功率。由于目前普遍認可的預生產(chǎn)型商用EUV光源輸出功率級別正好在10W左右，因此Gigaphoton公司此次的成果標志著(zhù)預生產(chǎn)極 EUV光源發(fā)展過(guò)程中的一個(gè)新里程碑。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/142110.htm
Gigaphoton公司自2002年起便專(zhuān)注于高輸出功率，經(jīng)濟型LPP光源的研發(fā)。幾年來(lái)該公司研發(fā)出了許多相關(guān)的技術(shù)，包括錫液滴尺寸低于20um水平的按需式錫液滴生成技術(shù)，以及融合了短波長(cháng)固態(tài)預脈沖激光器技術(shù)，CO2激光技術(shù)，以及磁場(chǎng)式雜質(zhì)消除技術(shù)在內的LPP EUV激光光源技術(shù)。
Gigaphoton透露，與這款LPP光源技術(shù)相關(guān)的信息將在本月24-28日召開(kāi)的SPIE2013高級光刻技術(shù)年會(huì )(SPIE Advanced Lithography 2013)上公開(kāi)，這次年會(huì )將在美國加州圣何塞市召開(kāi)。
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