我國首臺自主知識產(chǎn)權12英寸半導體設備進(jìn)入韓國市場(chǎng)

　　位于上海浦東張江高科技園區的盛美半導體設備(上海)有限公司12英寸45納米半導體單片清洗設備，11日正式啟運運往韓國知名存儲器廠(chǎng)商海力士，這也是國內首臺具有自主知識產(chǎn)權的高端12英寸半導體設備進(jìn)入韓國市場(chǎng)。

　　盛美半導體設備(上海)有限公司首席執行官王暉博士介紹說(shuō)，這臺設備作為量產(chǎn)設備，裝備了8個(gè)獨立的清洗腔，并運用全球獨有的、具有自主知識產(chǎn)權的SAPS兆聲波(空間交變相移技術(shù))，最大產(chǎn)出率可達到每小時(shí) 400片，為45納米和32納米節點(diǎn)硅片清洗提供了高效、零損傷的顆粒及污染去除方案。

　　當今半導體清洗技術(shù)中的最大難題是對機械損傷和去除效率的控制。隨著(zhù)半導體芯片體積的不斷縮小，影響硅片良率的粒子也越來(lái)越小，顆粒越小則越難清洗;同時(shí)，45納米以下芯片的門(mén)電極與電容結構越來(lái)越脆弱，在清洗中避免損傷芯片微結構的難度也在不斷加大。

　　兆聲波技術(shù)能夠通過(guò)氣穴振蕩來(lái)推動(dòng)微顆粒離開(kāi)硅片表面，但技術(shù)難點(diǎn)在于如何控制兆聲波在硅片表面的能量。王暉博士介紹說(shuō)，由盛美半導體自主研發(fā)的SAPS兆聲波技術(shù)，利用空間交變相移原理可以對兆聲波的能量進(jìn)行精確控制，將12英寸硅片面內兆聲波非均勻度控制在2%以?xún)?，一舉解決了困擾業(yè)界多年的棘手問(wèn)題。