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德國建立32nm光刻掩膜研發(fā)項目
- 先進(jìn)掩膜技術(shù)中心（AMTC）、半導體設備供貨商Vistec和德國國家物理技術(shù)研究院（PTB）將共同完成研發(fā)下一代芯片生產(chǎn)技術(shù)和量測流程的開(kāi)發(fā)項目。 德國教育部對此代號為“CDuR32 （32nm掩膜光刻技術(shù)的核心演習和使用） ”的研發(fā)項目提供了部分資助。該項目的總預算資金為16.7百萬(wàn)歐元（約24.3百萬(wàn)），其中德國政府資助了7.9百萬(wàn)歐元。 該項目預計為期2.5年，旨在研發(fā)掩膜技術(shù)以用于今后其Dresden晶圓廠(chǎng)32nm存儲芯片和22nm微處理器的生產(chǎn)。AMTC由
- 關(guān)鍵字： 掩膜 AMTC 半導體 PTB
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