國家集成電路(無(wú)錫)設計中心方案獲批

　　10月10日從江蘇省無(wú)錫蠡園經(jīng)濟開(kāi)發(fā)區獲悉，國家集成電路(無(wú)錫)設計中心項目設計方案通過(guò)市政府審批。

　　該項目位于蠡園經(jīng)濟開(kāi)發(fā)區內，規劃范圍東至景宜路，西、南至梁湖路，北至建筑路，規劃用地面積約20.25萬(wàn)平方米，主要功能為科研設計及相關(guān)配套設施，是蠡園經(jīng)濟開(kāi)發(fā)區構筑新一輪集聚集約發(fā)展、加快高端IC設計產(chǎn)業(yè)集聚、重振無(wú)錫IC設計雄風(fēng)的重大項目。

　　根據“一次規劃、一次建設、一步到位”的要求，蠡園經(jīng)濟開(kāi)發(fā)區不斷深化規劃設計，優(yōu)化功能設置，通過(guò)設計,國家集成電路(無(wú)錫)設計中心將建設成為集電子化、智能化為一體的新型產(chǎn)業(yè)園區，吸引全球集成電路企業(yè)的入駐。