Cadence推出面向最新的Cadence® Virtuoso®平臺版本的晶圓廠(chǎng)設計工具包

　　Cadence設計系統公司與半導體晶圓廠(chǎng)UMC公司宣布推出面向最新的Cadence® Virtuoso®定制設計平臺(IC6.1)版本的UMC 65納米晶圓廠(chǎng)設計工具包(FDKs)。這一工具包將為設計師提供邏輯/模擬模式65納米標準性能(SP)和邏輯/模擬模式65納米低漏電(LL)工藝。Cadence Virtuoso技術(shù)有助于加速、混合信號和RF器件的精確芯片設計。

　　“這種65納米RF設計工具包的推出將會(huì )幫助我們的客戶(hù)更快地意識到我們的經(jīng)過(guò)產(chǎn)品驗證的65納米SP 和RF LL技術(shù)的性能和功耗優(yōu)勢，它目前已經(jīng)隨時(shí)可用于設計協(xié)助，”UMC全球IP開(kāi)發(fā)及設計支持部主管Patrick T.Lin說(shuō)?！熬C合UMC的FDK與新Virtuoso平臺的高性能和高生產(chǎn)力，將會(huì )為我們的客戶(hù)大大加快開(kāi)發(fā)時(shí)間，幫助他們解決65納米RF產(chǎn)品上市時(shí)間緊迫的問(wèn)題?！?/P>

　　Cadence Virtuoso 解決方案和UMC的65納米FDK能夠對高速發(fā)展的IC市場(chǎng)中的設計師提供支持，例如無(wú)線(xiàn)通信等。這些技術(shù)為時(shí)下數字和混合信號設計前所未有的緊密結合提供了高級工藝。

　　“這種新的FDK讓我們能夠在新的設計中發(fā)揮UMC 65納米工藝和Cadence Virtuoso平臺的高級功能，并且幫助我們實(shí)現快速上市的目標?！盕araday Technology公司SoC開(kāi)發(fā)和服務(wù)部門(mén)聯(lián)合副總裁C. J. Hsieh說(shuō)。

　　“面向新Virtuoso技術(shù)的UMC 65納米FDK的迅速發(fā)展，突出體現了Virtuoso解決方案對于創(chuàng )新的混合信號和RF設計師的重要性，”Cadence產(chǎn)品營(yíng)銷(xiāo)部副總裁Charlie Giorgetti說(shuō)?！拔覀兤诖?zhù)與UMC合作，實(shí)現FDK與最新Virtuoso解決方案的進(jìn)一步融合，滿(mǎn)足我們共同客戶(hù)越來(lái)越高的要求?！?/P>

　　供應情況

　　面向最新Virtuoso IC6.1版的UMC 65納米SP和RF LL FDK已經(jīng)通過(guò)UMC的客戶(hù)網(wǎng)站MyUMC.com提供，或者可以聯(lián)系任何一位UMC客服經(jīng)理。