臺積電以16nm制程取得壓倒性勝利
日前,全球首顆以16納米鰭式場(chǎng)效晶體管(FinFET)的ARM架構網(wǎng)絡(luò )芯片成果產(chǎn)出,這是由臺積電幫助海思半導體雙方合作后的成果。根據設備廠(chǎng)透露,這個(gè)成果表明了臺積電的16納米技術(shù)在面對英特爾以及三星的強力壓力下,已取得壓倒性的勝利。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/264694.htm此外,臺積電也正式向英特爾宣戰,目標是二年內在10納米晶體管技術(shù)追平英特爾,屆時(shí)在芯片閘密度及金屬層連結等二要項都超越英特爾,將讓臺積電稱(chēng)冠全球,并奠定全球晶圓代工不可撼動(dòng)的地位。
臺積電的這項成就,是昨天出席臺積電高雄氣爆感恩與祝福餐會(huì )的半導體設備廠(chǎng)所透露,針對臺積電宣布全球首顆16納米產(chǎn)品完成產(chǎn)品設計(tape-out)后,點(diǎn)出臺積電在16納米FinFET的重要成果。
不愿具名的設備商指出,臺積電為海思成功產(chǎn)出的全球首顆以16納米生產(chǎn)、功能完備的網(wǎng)通處理器,等于宣告海思具備可以提供自家集團華為的核心處理器。該晶片是以ARMv8架構為基礎的32核心ARM Cortex-A57網(wǎng)絡(luò )芯片,運算速度可達2.6GHz。
華為目前是向英特爾采購以22納米制程的網(wǎng)絡(luò )芯片,臺積電與海思的合作,也代表中國大陸已具備自主生產(chǎn)高階網(wǎng)絡(luò )芯片的地位,對英特爾帶來(lái)一定程度的威脅。
同時(shí)根據設備業(yè)者消息,臺積電16奈米FinFET Plus制程也進(jìn)入試投片(try run)先前作業(yè)階段,可望提前至第4季試產(chǎn),主要客戶(hù)除了繪圖晶片廠(chǎng)英偉達(NVIDIA)、FPGA廠(chǎng)商賽靈思(Xilinx)、手機芯片廠(chǎng)商高通外,眾所矚目的蘋(píng)果新款應用處理器也將試投片清單中。
對臺積電而言,臺積電也用實(shí)例,向英特爾證明臺積電16納米FinFET制程,并未如先前英特爾唱衰在芯片閘密度比英特爾還低30%,臺積電不但在20納米就已超越英特爾,16納米FinFET更大幅領(lǐng)先。
此外,面對三星先前一直強調16納米FinFET遠遠領(lǐng)先臺積電,臺積電率先提出產(chǎn)出成功案例,回擊三星的口水戰,等于左打英特爾,右踢三星,臺積電有信心在16納米FinFET會(huì )取得壓倒性勝利。
相較于臺積電的28納米高效能行動(dòng)運算(28HPM)制程,16納米FinFET制程的晶片閘密度增加兩倍,在相同功耗下速度增快逾40%,或在相同速度下功耗降低逾60%。
臺積電的16納米FinFET制程早于去年11月即完成所有可靠性驗證,良率表現優(yōu)異,如今進(jìn)入試產(chǎn)階段,為臺積電與客戶(hù)的產(chǎn)品設計定案、試產(chǎn)活動(dòng)與初期送樣打下良好基礎。
半導體人士強調,半導體評斷技術(shù)實(shí)力,看的是晶體管效能、芯片金屬層連結及芯片閘密度,后二者臺積電都已超越英特爾,一旦臺積電二年內在晶體管效能追平英特爾,臺積電將可正式躍居全球半導體新霸主地位,為臺灣締造新的歷史地位。
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