熱烈慶祝東方集成成功舉辦“等離子工藝技術(shù)（上海）研討會(huì )”

　　2014年6月20日，北京東方中科集成科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)東方集成)攜手德國SENTECH儀器公司(簡(jiǎn)稱(chēng)SENTECH)在中國科學(xué)院上海微系統與信息技術(shù)研究所成功舉辦等離子工藝技術(shù)研討會(huì )(上海)。

　　作為德國SENTECH儀器公司在中國地區的總代理，東方集成與SENTECH公司有超過(guò)10年的合作歷史，近年來(lái)在半導體、材料分析、光伏等研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域均有突破性進(jìn)展。本次研討會(huì )為SENTECH和東方集成首次針對等離子工藝技術(shù)主題舉辦的研討會(huì )，吸引了全國眾多科研院校和企事業(yè)單位的用戶(hù)參加會(huì )議，反響熱烈。

　　東方集成根據用戶(hù)關(guān)心的熱門(mén)話(huà)題，就深硅刻蝕工藝與MEMS應用、PECVD/ICPECVD沉積高質(zhì)量介質(zhì)膜、ALD原子層沉積的應用和在線(xiàn)監控、刻蝕工藝和薄膜沉積的在線(xiàn)監控和終點(diǎn)監測、光譜橢偏儀進(jìn)行復雜材料分析等議題與用戶(hù)進(jìn)行了深入淺出的交流，來(lái)自中科院微電子所和微系統所的老師們也同大家分享了SENTECH設備在太赫茲器件上低溫沉積薄膜和III-V族半導體刻蝕的一些使用經(jīng)驗。SENTECH專(zhuān)利的高等離子密度平板三螺旋天線(xiàn)ICP源、高精度樣品動(dòng)態(tài)控溫、低溫深硅刻蝕等技術(shù)亮點(diǎn)和出色的工藝效果給現場(chǎng)觀(guān)眾留下了非常深刻的印象。

　　研討會(huì )結束后，參會(huì )人員參觀(guān)了微系統所太赫茲固態(tài)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗室，部分參會(huì )人員使用SENTECH SI 500D ICPECVD進(jìn)行了實(shí)際操作和樣品制備。SI 500D可在80℃至130℃范圍低溫沉積高性能薄膜，低溫低損傷沉積可用于帶膠沉積的剝離工藝，高擊穿電壓和低氫含量薄膜可作為非常出色的絕緣層，參會(huì )人員對結果表示非常滿(mǎn)意。

　　作為電子測試測量領(lǐng)域領(lǐng)先的綜合服務(wù)商，東方集成總部設在北京，在上海、南京、蘇州、深圳、武漢、西安、成都等地設有分支機構，憑借覆蓋全國的營(yíng)銷(xiāo)服務(wù)網(wǎng)絡(luò )和一流的技術(shù)服務(wù)團隊，可為全國各地客戶(hù)提供快速響應、高質(zhì)量的本地化技術(shù)服務(wù)。